专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003075049A2 REFRACTIVE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：反射投影目标
公开(公告)号：WO2003075049A2
公开(公告)日：2003-09-12
申请号：PCT/US2003/006592
申请日：2003-03-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
发明人： HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G03F7/70975 , G03F7/70241 , G03F7/70958
摘要： Refractive projection objective with a numerical aperture greater than 0.7, consisting of a first convexity, a second convexity, and a waist arranged between the two convexities. The first convexity has a maximum diameter denoted by D1, and the second convexity has a maximum diameter denoted by D2, and 0.8 1 /D 2
摘要翻译：具有大于0.7的数值孔径的折射投影物镜，由设置在两个凸部之间的第一凸面，第二凸面和腰部组成。第一凸度具有由D1表示的最大直径，并且第二凸度具有由D2表示的最大直径，并且0.8

2. 发明申请

WO2003075049A3 REFRACTIVE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
公开(公告)号：WO2003075049A3
公开(公告)日：2003-09-12
申请号：PCT/US2003/006592
申请日：2003-03-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
发明人： HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G02B9/00
摘要： Refractive projection objective with a numerical aperture greater than 0.7, consisting of a first convexity, a second convexity, and a waist arranged between the two convexities. The first convexity has a maximum diameter denoted by D1, and the second convexity has a maximum diameter denoted by D2, and 0.8 1 /D 2

3. 发明申请

WO2005040928A1 COMPACT PROJECTION OBJECTIVE FOR ARF LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译： ARF算法的紧凑投影目标
公开(公告)号：WO2005040928A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2004/009715
申请日：2004-09-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUDYMA, Russell , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： HUDYMA, Russell , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B13/143
摘要： According to one exemplary embodiment, a projection lens having an object plane and an image plane is provided and includes the following lens groups listed objectwise to imagewise: (1) a first lens group having negative refractive power; and (2) at least three other lens groups having a positive refractive power and at least one other lens group having a negative refractive power. In one embodiment, the projections lens includes a second lens group having a positive refractive power; a third lens group having a negative refractive power; and fourth, fifth and sixth lens groups having overall positive refractive power. The projection lens having a numerical aperture of at least about 0.85 and is of a 1½ waist construction, with the ½ waist defined in the first lens group and a primary waist is defined in the third lens group.
摘要翻译：根据一个示例性实施例，提供具有物平面和像平面的投影透镜，并且包括以成像方式对象地列出的以下透镜组：（1）具有负屈光力的第一透镜组; 和（2）具有正屈光力的至少三个其它透镜组和具有负屈光力的至少一个其它透镜组。在一个实施例中，投影透镜包括具有正折光力的第二透镜组; 具有负屈光力的第三透镜组; 以及具有总正正屈光力的第四，第五和第六透镜组。投影透镜具有至少约0.85的数值孔径，并且具有1/2腰围结构，其中限定在第一透镜组中的1/2腰围和初级腰围限定在第三透镜组中。

4. 发明申请

WO2003075096A3 REFRAKTIVES PROJEKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
公开(公告)号：WO2003075096A3
公开(公告)日：2003-09-12
申请号：PCT/EP2003/001147
申请日：2003-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ULRICH, Wilhelm , HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： ULRICH, Wilhelm , HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Refraktives Projektionsobjektiv mit einer numerischen Apertur grösser 0,7, bestehend aus einem ersten Bauch, einem zweiten Bauch und einer zwischen den Bäuchen angeordneten Taille, wobei der erste Bauch einen maximalen Durchmesser, mit D 1 bezeichnet, aufweist und der zweite Bauch einen maximalen Durchmesser, mit D 2 bezeichnet, aufweist und es gilt: 0,8 1 /D 2

5. 发明申请

WO2005050321A1 REFRAKTIVES PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE IMMERSIONS-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：浸泡版画折射投影物镜
公开(公告)号：WO2005050321A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/EP2003/011677
申请日：2003-10-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B13/143 , G03F7/70341
摘要： Ein für die Immersions-Mikrolithographie geeignetes, rein refraktives Projektionsobjektiv ist als Ein-Taillen-System mit fünf Linsengruppen ausgelegt, bei dem eine erste Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine zweite Linsengruppe mit positiver Brechkraft, eine dritte Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine vierte Linsengruppe mit positiver Brechkraft und eine fünfte Linsengruppe mit positiver Brechkraft vorgesehen sind. Die vierte Linsengruppe hat eine Eintrittsfläche (E), die in der Nähe eines Wendepunktes einer Randstrahlhöhe zwischen der dritten Linsengruppe (LG3) und der vierten Linsengruppe (LG4) liegt. Zwischen der Eintrittsfläche und der Systemblende (5) ist keine Negativlinse mit substantieller Brechkraft angeordnet ist. Ausführungsformen erfindungsgemässer Projektionsobjektive erreichen eine sehr hohe numerische Apertur NA > 1 bei grossem Bildfeld und zeichnen sich durch eine kompakte Baugrösse aus. Bei Verwendung von Immersionsfluiden zwischen Projektionsobjektiv und Substrat sind bei Arbeitswellenlängen unterhalb 200nm Strukturbreiten deutlich unter 100nm auflösbar.
摘要翻译：一种合适的用于浸没微光刻，纯折射投影物镜被设计成具有五个透镜组，一个腰包系统，其中，具有负折射力的第一透镜组，具有正屈光力的第二透镜组，具有负折射光焦度的第三透镜组，第四透镜组用提供正折光力和具有正折光力的第五透镜组。第四透镜组是一个入射表面（E），在第三透镜组（LG3）和第四透镜组（LG4）之间的边缘光线高度的拐点的附近。进入表面和所述隔膜的系统（5）之间是没有负透镜布置在具有相当大的光焦度。根据本发明的投影透镜的实施例实现在大的视场非常高的数值孔径NA> 1，并通过一个紧凑的尺寸的特征。当使用投影透镜和基底之间浸没流体是在低于200纳米的特征尺寸以及小于100nm波长工作的可溶性。

6. 发明申请

WO2010115500A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010115500A1
公开(公告)日：2010-10-14
申请号：PCT/EP2010/001512
申请日：2010-03-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0663 , G02B17/0888
摘要： An imaging optics (36) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A first mirror (M1) is arranged in the imaging beam path of imaging light after the object field (4) and a last mirror (M6) is arranged in the imaging beam path before the image field (8). In the unfolded imaging beam path, an impingement point of a chief ray (16), which belongs to a central object field point, on a useful face (23) of each of the mirrors (M1 to M6), which is configured to guide the imaging light (3), has a mirror spacing (Z M ) from the image plane (9). The mirror spacing (Z M1 ) of the first mirror (Ml) is greater than the mirror spacing (Z M6 ) of the last mirror (M6). The mirror spacing (z M3 ) of a fourth to last mirror (M3) is greater than the mirror spacing (z M1 ) of the first mirror (M1). In a further aspect of the invention, a reflection surface of at least one of the mirrors (M1 to M6) of the imaging optics (36) is configured as a static free form surface which cannot be described by a rotationally symmetrical function. This differs from an aspherical surface best adapted thereto, which can be described by a rotationally symmetrical function in that a normal (FNB) to a free form surface element (20) of a used region (23) of the free form surface, which is configured to guide the imaging light (3), adopts an angle (α) of a maximum of 70 μrad with a normal (FN) to a corresponding asphere surface element (22) of the aspherical surface (21). With the two aspects, a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throuhput for the imaging light results.
摘要翻译：成像光学器件（36）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）的成像光束路径中布置第一反射镜（M1），并且在图像场（8）之前的成像光束路径中布置最后一个反射镜（M6）。在展开成像光束路径中，属于中心物体场点的主射线（16）的撞击点位于每个反射镜（M1至M6）的有用面（23）上，其被配置为引导成像光（3）具有与图像平面（9）的反射镜间隔（ZM）。第一反射镜（M1）的反射镜间距（ZM1）大于最后一个反射镜（M6）的反射镜间距（ZM6）。第四至最后一个反射镜（M3）的反射镜间距（zM3）大于第一反射镜（M1）的反射镜间隔（zM1）。在本发明的另一方面，成像光学器件（36）的至少一个反射镜（M1至M6）的反射表面被构造为无法通过旋转对称功能描述的静态自由形式表面。这与最适合于其的非球面不同，其可以通过旋转对称的功能来描述，其中自由形式表面的使用区域（23）的自由形式表面元件（20）的法线（FNB）是被配置为引导成像光（3），将正常（FN）的最大值为70μrad的角度（a）与非球面（21）的对应的非球面表面元件（22）进行比较。通过这两个方面，可以组合小的成像错误，可管理的生产和成像光的良好输出结果。

7. 发明申请

WO2005054956A3 PROJECTION OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2005054956A3
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：PCT/EP2004/013519
申请日：2004-11-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
摘要： A projection optical system comprises a plurality of lenses disposed along an optical axis of the projection optical system; wherein the plurality of lenses is dividable into four non-overlapping groups of lenses of positive and negative refractive powers, wherein the following relation (1) is fulfilled: (1) wherein: y is half a diameter in mm of a maximum image field imaged by the projection optical system, NA is a maximum numerical aperture on a side of the second object, φ i is a refractive power in mm -1 of the i th lens, k is a total number of lenses of the projection optical system, and wherein V 1 is greater than 0.045.

8. 发明申请

WO2007115597A1 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OPTICAL SYSTEM, TOOL AND METHOD OF PRODUCTION 审中-公开
标题翻译：微电子投影光学系统，工具和生产方法
公开(公告)号：WO2007115597A1
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：PCT/EP2007/000068
申请日：2007-01-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Juergen , ULRICH, Wilhelm
发明人： MANN, Hans-Juergen , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/08 , G03F1/62 , G03F7/70058 , G03F7/70233
摘要： A microlithography projection optical system (1100) comprises a plurality of optical elements (1110, 1120, 1130, 1140, 1150, 1160) arranged to image radiation having a wavelength λ from an object field in an object plane (103) to an image field in an image plane (102). The plurality of optical elements (1110, 1120, 1130, 1140, 1150, 1160). has an entrance pupil located more than 2,8 m from the object plane. A path of radiation through the optical system is characterized by chief rays having an angle of 3° or more with respect to the normal to the object plane. This in particular allows the use of phase shifting masks as objects to be imaged, in particular for EUV wavelengths.
摘要翻译：微光刻投影光学系统（1100）包括多个光学元件（1110,1120,1130,1140,1150,1160），其被布置成对波长λ 从对象平面（103）中的对象字段到图像平面（102）中的图像场。多个光学元件（1110,1120,1130,1140,1150,1160）。有一个距离物体超过2.8米的入口瞳孔。通过光学系统的辐射路径的特征在于主光线相对于物平面的法线具有3°或更大的角度。这特别允许使用相移掩模作为要成像的对象，特别是对于EUV波长。

9. 发明申请

WO2006133800A1 LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND A METHOD FOR CORRECTING IMAGE DEFECTS OF THE SAME 审中-公开
标题翻译：图像投影目标和校正其图像缺陷的方法
公开(公告)号：WO2006133800A1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/EP2006/005059
申请日：2006-05-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LÖRING, Ulrich , BLAHNIK, Vladan , ULRICH, Wilhelm , KRÄHMER, Daniel , WABRA, Norbert
发明人： LÖRING, Ulrich , BLAHNIK, Vladan , ULRICH, Wilhelm , KRÄHMER, Daniel , WABRA, Norbert
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/7015
摘要： A lithography projection objective for imaging a pattern to be arranged in an object plane of the projection objective onto a substrate to be arranged in an image plane of the projection objective comprises a multiplicity of optical elements that are arranged along an optical axis of the projection objective. The optical elements comprise a first group (18) , following the object plane (13) , of optical elements, and a last optical element (20) , which follows the first group and is next to the image plane (15) and which defines an exit surface of the projection objective and is arranged at a working distance from the image plane. The projection objective is tunable or tuned with respect to aberrations for the case that the volume between the last optical element and the image plane is filled by an immersion medium with a refractive index substantially greater than 1. A positioning device is provided that positions at least the last optical element during immersion operation such that aberrations induced by disturbance are at least partially compensated.
摘要翻译：用于将要布置在投影物镜的物平面中的图案成像到要布置在投影物镜的像平面中的基板上的光刻投影物镜包括沿着投影物镜的光轴布置的多个光学元件。光学元件包括跟随物体平面（13）的光学元件的第一组（18），以及最后的光学元件（20），其位于第一组之后且邻近图像平面（15）并且限定投影物镜的出射表面并且设置在距离像平面的工作距离处。投影物镜相对于像差是可调谐的或调谐的，在最后的光学元件和图像平面之间的体积由折射率基本上大于1的浸没介质填充的情况下。提供了至少位置的定位装置在浸没操作期间的最后一个光学元件，使得由干扰引起的像差被至少部分补偿。

10. 发明申请

WO2006029796A2 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置
公开(公告)号：WO2006029796A2
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/EP2005/009804
申请日：2005-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BROTSACK, Markus , DEGÜNTHER, Markus , ULRICH, Wilhelm , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , FELDMANN, Heiko , ZEILER, Andreas
发明人： BROTSACK, Markus , DEGÜNTHER, Markus , ULRICH, Wilhelm , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , FELDMANN, Heiko , ZEILER, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191
摘要： An illumination system (12) for a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a masking device (36) and a masking objective (38; 138; 238) which projects the masking device (36) onto an image plane (18). The illumination system further includes an optical correction element (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) having a surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) that is either aspherically shaped or supports diffractive structures that have at least substantially the effect of an aspherical surface. This surface is arranged at least approximately in a field plane (40; 140) which precedes the image plane (18) of the masking objective The aspherically acting surface is designed such that a principal ray distribution generated by the illumination system (12; 112; 212) in the image plane matches a principal ray distribution required by a projection objective (16).
摘要翻译：一种用于微光刻曝光装置（10）的照明系统（12）包括掩蔽装置（36）和掩蔽物镜（38; 138; 238），掩蔽物镜（38; 138; 238）（36）到图像平面（18）上。照明系统还包括具有非球面形状或支撑衍射的表面（48; 44; 44'; 148a，148b）的光学校正元件（46; 34'; 146a，146b; 242; 242a，242b，242c）结构和害羞;至少基本上具有非球面表面效果的结构。该表面至少被设置成大致在掩蔽物镜的像平面（18）之前的场平面（40; 140）中。非球面和反射作用表面被设计成使得由照明系统产生的主光线分布（ 12; 112; 212）与投影物镜（16）所需的主光线分布相匹配。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式