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1. 发明授权

EP1170634B1 Exposure apparatus and device manufacturing method using the same 失效
公开(公告)号：EP1170634B1
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：EP01203848.5
申请日：1997-06-03
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Inoue, Mitsuru , Ebinuma, Ryuichi , Iwamoto, Kazunori , Osanai, Eiji , Takeishi, Hiroaki
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709

2. 发明公开

EP1170634A1 Exposure apparatus and device manufacturing method using the same 失效
标题翻译：曝光装置及使用其的装置制造方法
公开(公告)号：EP1170634A1
公开(公告)日：2002-01-09
申请号：EP01203848.5
申请日：1997-06-03
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Inoue, Mitsuru , Ebinuma, Ryuichi , Iwamoto, Kazunori , Osanai, Eiji , Takeishi, Hiroaki
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： A scanning exposure apparatus wherein a portion of a pattern of an original is projected on to a substrate through a projection optical system and wherein the original and the substrate are scanningly moved relatively to the projection optical system whereby the pattern of the original is transferred on to the substrate. The apparatus includes an original stage for holding the original, a base for supporting the original stage, and a supporting system for supporting the base at three positions, through dampers and pillar.
摘要翻译：一种扫描曝光设备，其中通过投影光学系统将原件的图案的一部分投影到基板上，并且其中原件和基板相对于投影光学系统进行扫描移动，由此将原件的图案转移到衬底。该设备包括用于保持原稿的原稿台，用于支撑原稿台的基座以及用于通过减震器和支柱在三个位置处支撑基座的支撑系统。

3. 发明授权

EP1069477B1 Exposure apparatus and device manufacturing method using the same 失效
标题翻译：用于制造使用该方法的装置的曝光装置和方法
公开(公告)号：EP1069477B1
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：EP00203428.8
申请日：1997-06-03
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Inoue, Mitsuru , Ebinuma, Ryuichi , Iwamoto, Kazunori , Osanai, Eiji , Takeishi, Hiroaki
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709

4. 发明授权

EP1168084B1 Drive mechanism and exposure apparatus having the same 有权
标题翻译：驱动机构和与其曝光装置提供
公开(公告)号：EP1168084B1
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：EP01305451.5
申请日：2001-06-22
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Iwamoto, Kazunori , Nogawa, Hideki
IPC分类号： G03F7/20 , H02K41/02
CPC分类号： G03F7/70691 , G03F7/709 , G03F7/70933 , H02K41/031

5. 发明授权

EP0501724B1 Supporting device 失效
标题翻译：站
公开(公告)号：EP0501724B1
公开(公告)日：1996-01-10
申请号：EP92301529.1
申请日：1992-02-24
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Korenaga, Nobushige , Iwamoto, Kazunori
IPC分类号： F16F15/00 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67796 , G03F7/2039 , G03F7/70716 , G03F7/70766 , G03F7/709 , H01J2237/0216

6. 发明授权

EP0353980B1 A mounting method 失效
标题翻译：安装过程。
公开(公告)号：EP0353980B1
公开(公告)日：1995-05-24
申请号：EP89307779.2
申请日：1989-07-31
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Iwamoto, Kazunori , Uzawa, Shunichi , Kariya, Takao , Ebinuma, Ryuichi , Chiba, Hiroshi , Ohkawa, Shinkichi
IPC分类号： G12B5/00
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , G03F7/70883 , G12B5/00

7. 发明授权

EP0811883B1 Exposure apparatus and device manufacturing method using the same 失效
标题翻译：曝光装置及使用其的装置制造方法
公开(公告)号：EP0811883B1
公开(公告)日：2002-05-02
申请号：EP97303781.5
申请日：1997-06-03
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Inoue, Mitsuru , Ebinuma, Ryuichi , Iwamoto, Kazunori , Osanai, Eiji , Takeishi, Hiroaki
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709

8. 发明公开

EP1069477A3 Exposure apparatus and device manufacturing method using the same 失效
标题翻译：用于制造使用该方法的装置的曝光装置和方法
公开(公告)号：EP1069477A3
公开(公告)日：2001-01-24
申请号：EP00203428.8
申请日：1997-06-03
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Inoue, Mitsuru , Ebinuma, Ryuichi , Iwamoto, Kazunori , Osanai, Eiji , Takeishi, Hiroaki
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： A scanning exposure apparatus wherein a portion of a pattern of an original is projected on to a substrate through a projection optical system (2) and wherein the original and the substrate are scanningly moved relatively to the projection optical system (2) whereby the pattern of the original is transferred on to the substrate. The apparatus includes an original stage (1) for holding the original, a base (9) for supporting the original stage (1), and a supporting system for supporting the base (9) at three positions, through dampers (11) and pillars (12).

9. 发明公开

EP0834772A2 Exposure apparatus 失效
标题翻译：曝光装置
公开(公告)号：EP0834772A2
公开(公告)日：1998-04-08
申请号：EP97307732.4
申请日：1997-10-01
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Takahashi, Kazuhiro , Iwamoto, Kazunori
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70358 , G03F7/70691 , G03F7/70833
摘要： An exposure apparatus includes a light source (34), an illumination optical system (36,37) for forming a secondary light source with light from the light source, and for illuminating a portion of a reticle having a pattern, a projection optical system (2) for projecting the pattern of the reticle as illuminated, on to a wafer, a reticle stage (1) for supporting the reticle and for scanningly moving the reticle in a predetermined scan direction, relatively to the projection optical system, a wafer stage (3) supporting the wafer and for scanningly moving the wafer relatively to the projection optical system, and a base (9) for supporting the reticle stage and being supported by dampers (11), wherein the illumination optical system is divided into a first portion (31) being supported by the base (9) and a second portion (32) supported by a floor, independently from the base, and wherein the predetermined direction of the reticle stage is substantially or approximately parallel to an optical axis direction at a location where the illumination optical system is divided.
摘要翻译：曝光设备包括：光源（34）;照明光学系统（36,37），用于利用来自光源的光形成二次光源，并且用于照射具有图案的光罩的一部分;投影光学系统 2），用于将被照射的掩模母版的图案投影到晶片上;掩模母版台（1），用于支撑掩模母版并相对于投影光学系统在预定的扫描方向上扫描地移动掩模母版;晶片台 3）支撑晶片并相对于投影光学系统扫描移动晶片;以及底座（9），用于支撑光罩台并由阻尼器（11）支撑，其中照明光学系统被分成第一部分（ 31）由所述基座（9）支撑，所述第二部分（32）由独立于所述基座的地板支撑，并且其中所述掩模版台的所述预定方向基本上或近似平行于光学器件在照明光学系统被分割的位置处沿轴线方向。

10. 发明授权

EP0363164B1 X-ray exposure system 失效
标题翻译： X射线成像系统。
公开(公告)号：EP0363164B1
公开(公告)日：1994-05-11
申请号：EP89310128.7
申请日：1989-10-04
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Iwamoto, Kazunori , Uzawa, Shunichi , Kariya, Takao , Ebinuma, Ryuichi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/708

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