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2. 发明专利

TW201921100A 微影方法审中-公开
公开(公告)号：TW201921100A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133296
申请日：2018-09-21
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 厄戴瑪尤米特柯瑞 , ERDAMAR, AHMET KORAY , 梵席斯洛克喬漢斯彼托斯 , VERHEES, LOEK JOHANNES PETRUS , 羅伊羅夫斯威廉賽納克里斯汀 , ROELOFS, WILLEM SEINE CHRISTIAN , 范戴凡溫蒂喬漢娜瑪汀娜 , VAN DE VEN, WENDY JOHANNA MARTINA , 亞古比薩德哈帝 , YAGUBIZADE, HADI , 希可利哈奇爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 布林克夫拉夫 , BRINKHOF, RALPH , 余陳清水 , VU, TRAN THANH THUY , 葛森邁可羅伯特 , GOOSEN, MAIKEL ROBERT , 凡特衛斯登得瑪尹克 , VAN T WESTEINDE, MAAIKE , 寇偉田 , KOU, WEITIAN , 里澤斯特拉馬諾克 , RIJPSTRA, MANOUK , 寇克斯馬泰斯 , COX, MATTHIJS , 班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20
摘要：本發明揭示一種用於判定一感測器系統之一操作參數之一或多個最佳化值的方法，該感測器系統經組態以用於量測一基板之一屬性，該方法包含：判定關於複數個基板之一品質參數；判定針對該操作參數之複數個值使用該感測器系統所獲得的關於該複數個基板之量測參數；比較該品質參數之一基板間變化與該等量測參數之一映射之一基板間變化；及基於該比較判定該操作參數之該一或多個最佳化值。
简体摘要：本发明揭示一种用于判定一传感器系统之一操作参数之一或多个最优化值的方法，该传感器系统经组态以用于量测一基板之一属性，该方法包含：判定关于复数个基板之一品质参数；判定针对该操作参数之复数个值使用该传感器系统所获得的关于该复数个基板之量测参数；比较该品质参数之一基板间变化与该等量测参数之一映射之一基板间变化；及基于该比较判定该操作参数之该一或多个最优化值。

3. 发明专利

TW201732448A 自度量衡資料源分離审中-公开
简体标题：自度量衡数据源分离
公开(公告)号：TW201732448A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141137
申请日：2016-12-13
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：米德克魯克斯史考特安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 亞當歐瑪阿布貝克歐瑪 , ADAM, OMER ABUBAKER OMER , 庫博曼安卓尼斯康納力司馬修士 , KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70625 , G03F7/70508 , G03F7/70633
摘要：本文中揭示一種方法及一種電腦程式產品，其係關於微影裝置及程序，且更特定言之，係關於用以檢測藉由該等微影裝置及該等程序生產之基板的一種方法及電腦程式。該方法及/或該電腦程式產品包含：使用一電腦自結果判定來自獨立源之貢獻，該等結果係自一微影程序或藉由該微影程序處理之一基板予以量測；其中使用複數個不同基板量測配方來量測該等結果。
简体摘要：本文中揭示一种方法及一种电脑进程产品，其系关于微影设备及进程，且更特定言之，系关于用以检测借由该等微影设备及该等进程生产之基板的一种方法及电脑进程。该方法及/或该电脑进程产品包含：使用一电脑自结果判定来自独立源之贡献，该等结果系自一微影进程或借由该微影进程处理之一基板予以量测；其中使用复数个不同基板量测配方来量测该等结果。

4. 发明专利

TW201423084A 用於判定一結構之微影品質之方法與裝置审中-公开
简体标题：用于判定一结构之微影品质之方法与设备
公开(公告)号：TW201423084A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102141113
申请日：2013-11-12
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：谷真威稜珍 , GROOTJANS, WILLEM JAN , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 克利司特喬齊 , KRIST, JOUKE , 格藍達米歌爾葛西亞 , GRANDA, MIGUEL GARCIA , 許路 , XU, LU
IPC分类号： G01N21/84 , G03F7/00
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/47 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/12 , G03F7/70133 , G03F7/70558 , G03F7/70625 , G03F7/70641
摘要：一種用於使用一週期性圖案(諸如，一光柵)來判定藉由一微影程序而產生之一結構之微影品質的方法，其偵測微影程序窗邊緣及最佳程序條件。一種方法具有如下步驟：602：在使用一光柵圖案的情況下使用一微影程序來印刷一結構；604：選擇用於照明之一第一特性，諸如，一偏振方向；606：運用具有該第一特性之入射輻射來照明該結構；608：偵測散射輻射；610：選擇用於該照明之一第二特性，諸如，一不同偏振方向；612：運用具有該第二特性之入射輻射來照明該結構；614：偵測散射輻射；616：旋轉一或多個角度解析光譜以使該等偏振對齊，因此校正該等偏振之不同定向；618：判定該等測定角度解析光譜之間的一差；及620：使用該經判定差來判定該結構之微影品質之一值。或者，代替使用第一特性及第二特性，可使用第一結構及第二結構以判定微影品質。或者，可使用非零階強度之偵測以判定微影品質。
简体摘要：一种用于使用一周期性图案(诸如，一光栅)来判定借由一微影进程而产生之一结构之微影品质的方法，其侦测微影进程窗边缘及最佳进程条件。一种方法具有如下步骤：602：在使用一光栅图案的情况下使用一微影进程来印刷一结构；604：选择用于照明之一第一特性，诸如，一偏振方向；606：运用具有该第一特性之入射辐射来照明该结构；608：侦测散射辐射；610：选择用于该照明之一第二特性，诸如，一不同偏振方向；612：运用具有该第二特性之入射辐射来照明该结构；614：侦测散射辐射；616：旋转一或多个角度解析光谱以使该等偏振对齐，因此校正该等偏振之不同定向；618：判定该等测定角度解析光谱之间的一差；及620：使用该经判定差来判定该结构之微影品质之一值。或者，代替使用第一特性及第二特性，可使用第一结构及第二结构以判定微影品质。或者，可使用非零阶强度之侦测以判定微影品质。

5. 发明专利

TWI618988B 決定臨界尺寸相關特性之方法、檢測裝置及器件製造方法有权
简体标题：决定临界尺寸相关特性之方法、检测设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI618988B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW103119278
申请日：2014-06-03
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 黃得智 , HUANG, TE CHIH , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70625

6. 发明专利

TW201245900A 控制微影裝置的方法、元件製造方法、微影裝置、電腦程式產品及改善微影程序的數學模型之方法 METHOD OF CONTROLLING A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS, COMPUTER PROGRAM PRODUCT AND METHOD OF IMPROVING A MATHEMATICAL MODEL OF A LITHOGRAPHIC PROCESS 有权
简体标题：控制微影设备的方法、组件制造方法、微影设备、电脑进程产品及改善微影进程的数学模型之方法 METHOD OF CONTROLLING A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS, COMPUTER PROGRAM PRODUCT AND METHOD OF IMPROVING A MATHEMATICAL MODEL OF A LITHOGRAPHIC PROCESS
公开(公告)号：TW201245900A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101107934
申请日：2012-03-08
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：安捷倫艾德瑞納法蘭西卡斯佩勒斯 , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , 馬肯斯喬納斯凱瑟尼斯哈伯特斯 , 卡辛茲羅伯特 , 王禎祥
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70091 , G03F7/70616
摘要：一種控制一微影裝置之方法，該方法包括：設定該微影裝置之一照明系統以實現一選定照明模式；量測該微影裝置之一第一參數之一值；使用該微影裝置之一模型及該第一參數之該經量測值來計算具有複數個特徵之一測試圖案之一特徵的一經投影影像之一第二參數之一值；及參考該第二參數之該經計算值來控制該微影裝置。
简体摘要：一种控制一微影设备之方法，该方法包括：设置该微影设备之一照明系统以实现一选定照明模式；量测该微影设备之一第一参数之一值；使用该微影设备之一模型及该第一参数之该经量测值来计算具有复数个特征之一测试图案之一特征的一经投影影像之一第二参数之一值；及参考该第二参数之该经计算值来控制该微影设备。

7. 发明专利

TWI457721B 控制微影裝置的方法、元件製造方法、微影裝置、電腦程式產品及改善微影程序的數學模型之方法有权
简体标题：控制微影设备的方法、组件制造方法、微影设备、电脑进程产品及改善微影进程的数学模型之方法
公开(公告)号：TWI457721B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW101107934
申请日：2012-03-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：安捷倫艾德瑞納法蘭西卡斯佩勒斯 , ENGELEN, ADRIANUS FRANCISCUS PETRUS , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 馬肯斯喬納斯凱瑟尼斯哈伯特斯 , MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS , 卡辛茲羅伯特 , KAZINCZI, ROBERT , 王禎祥 , WANG, JEN SHIANG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70091 , G03F7/70616

8. 发明专利

TW201040669A 決定一特徵之方法 A METHOD OF DETERMINING A CHARACTERISTIC 审中-公开
简体标题：决定一特征之方法 A METHOD OF DETERMINING A CHARACTERISTIC
公开(公告)号：TW201040669A
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：TW098146003
申请日：2009-12-30
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , 芬德斯喬澤夫瑪利亞 , 凱爾斯安東尼蓋斯頓馬利 , 魁德克斯瓊斯安娜 , 凡德斯加毛瑞斯 , 凡斯塔本李奧納多亨力克斯馬連 , 李維斯克理斯宣馬瑞斯 , 范拉何凡亨瑞克安卓
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/70616 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要：將一第一目標群體及一第二目標群體蝕刻至一基板中。該第二目標群體具有相對於該第一目標群體之一不對稱性。此可允許區分該等不同目標群體且決定該等不同目標群體之特性。
简体摘要：将一第一目标群体及一第二目标群体蚀刻至一基板中。该第二目标群体具有相对于该第一目标群体之一不对称性。此可允许区分该等不同目标群体且决定该等不同目标群体之特性。

9. 发明专利

TW201506553A 決定臨界尺寸相關特性之方法、檢測裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：决定临界尺寸相关特性之方法、检测设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201506553A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103119278
申请日：2014-06-03
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 黃得智 , HUANG, TE CHIH , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70625
摘要：本發明揭示一種決定諸如臨界尺寸(CD)或曝光劑量之一臨界尺寸相關特性之方法。在一微影程序中使用一微影裝置來處理一晶圓以在該晶圓上產生具有不同各別臨界尺寸偏置之週期性目標。照明該等目標中每一者。量測由該等目標散射之輻射之強度。自影像辨識及提取每一光柵。決定一差異信號。接著，基於該差異信號、該等CD偏置及該差異信號在此等週期性目標之一1：1線至空間比率下近似於零之知識來決定諸如CD或曝光劑量之該CD相關特性。使用該經決定臨界尺寸相關特性以在後續晶圓之微影處理中控制該微影裝置。為了使用僅僅兩個CD偏置，一校準步驟可使用對一「黃金晶圓」(亦即，一參考晶圓)之量測以在具有已知CD的情況下決定針對CD對中每一對之強度梯度。替代地，校準可基於強度梯度對CD之敏感度之模擬。
简体摘要：本发明揭示一种决定诸如临界尺寸(CD)或曝光剂量之一临界尺寸相关特性之方法。在一微影进程中使用一微影设备来处理一晶圆以在该晶圆上产生具有不同各别临界尺寸偏置之周期性目标。照明该等目标中每一者。量测由该等目标散射之辐射之强度。自影像辨识及提取每一光栅。决定一差异信号。接着，基于该差异信号、该等CD偏置及该差异信号在此等周期性目标之一1：1线至空间比率下近似于零之知识来决定诸如CD或曝光剂量之该CD相关特性。使用该经决定临界尺寸相关特性以在后续晶圆之微影处理中控制该微影设备。为了使用仅仅两个CD偏置，一校准步骤可使用对一“黄金晶圆”(亦即，一参考晶圆)之量测以在具有已知CD的情况下决定针对CD对中每一对之强度梯度。替代地，校准可基于强度梯度对CD之敏感度之仿真。

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