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1. 发明申请

WO2005094973A1 APPAREIL DE TRAITEMENT D'EFFLUENTS GAZEUX 审中-公开
标题翻译：气体处理装置
公开(公告)号：WO2005094973A1
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：PCT/FR2005/050198
申请日：2005-03-30
申请人： AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , DULPHY, Hervé , MOINE, Pascal , LAEDERICH, Thierry
发明人： DULPHY, Hervé , MOINE, Pascal , LAEDERICH, Thierry
IPC分类号： B01D53/78
CPC分类号： B01D53/78 , B01D53/18 , B01D2258/0216
摘要： Appareil pour le traitement d'effluents gazeux notamment issus de la fabrication de semi-conducteurs par contact avec un liquide qui comporte - une chambre de contact gaz/liquide permettant de recevoir dans sa partie inférieure un liquide et surmontée par un ciel gazeux, comportant des moyens d'introduction d'un gaz à traiter et des moyens d'évacuation des gaz résiduaires après traitement au contact du liquide, - des moyens contacteurs gaz/liquide du type turbine, comportant un ou plusieurs étages permettant d'assurer un contact amélioré du gaz et du liquide, ledit moyen comportant dans sa partie supérieure une ouverture permettant d'aspirer le gaz situé dans le ciel gazeux au-dessus du liquide, et de préférence - des moyens de mesure du pH du liquide.
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理气体流出物的装置，例如源于生产涉及与液体接触的半导体的那些。本发明的装置包括：气/液接触室，其可以在其下部接收液体并且被顶盖有气体盖，所述室包括用于引入待处理气体的装置和用于在处理后释放残余气体的装置涉及液体接触; 涡轮式气体/液体接触装置包括一个或多个级，其确保气体和液体之间的接触改善，所述装置的上部装备有用于将位于液体上方的气体盖中的气体拉出的开口; 并且优选地，用于测量液体的pH的装置。

2. 发明申请

WO2007099081A1 METHOD FOR TREATING EFFLUENTS CONTAINING FLUOROCOMPOUNDS LIKE PFC AND HFC 审中-公开
标题翻译：用于处理含氟化合物的液体的方法，如PFC和HFC
公开(公告)号：WO2007099081A1
公开(公告)日：2007-09-07
申请号：PCT/EP2007/051811
申请日：2007-02-26
申请人： L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE , AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , MOINE, Pascal , DULPHY, Hervé , LARQUET, Christian , EL-KRID, Aicha , GUERIN, Daniel , ROSTAING, Jean-Christophe , LESORT, Anne-Laure , SANDRE, Etienne
发明人： MOINE, Pascal , DULPHY, Hervé , LARQUET, Christian , EL-KRID, Aicha , GUERIN, Daniel , ROSTAING, Jean-Christophe , LESORT, Anne-Laure , SANDRE, Etienne
IPC分类号： B01D53/32 , B01D53/70 , B01J19/08
CPC分类号： B01D53/323 , B01D53/70 , B01D2257/2066 , B01D2259/818 , Y02C20/30
摘要： The invention relates to a method for destroying effluents issuing from a reactor, the said effluents being transported through at least one pump towards plasma means capable of destroying at least certain bonds in the molecules of the PFC or HFC type between the fluorine and the other elements of these molecules of the PFC or HFC type, in order to generate first species which are then converted to second gaseous, liquid or solid species before interaction of these second species with dry or wet purifying means. According to the invention, at least one reducing agent is injected upstream and/or downstream of the plasma, but upstream of the purifying means, in order to react with the first species created.
摘要翻译：本发明涉及一种用于破坏从反应器排出的污水的方法，所述流出物通过至少一个泵输送到等离子体装置，所述等离子体装置能够在氟和其它元素之间破坏PFC或HFC型分子中的至少某些键的PFC或HFC类型的这些分子，以便产生第一物质，然后在将这些第二物质与干或湿净化装置相互作用之前将其转化为第二气态，液体或固体物质。根据本发明，至少一种还原剂被注入到等离子体的上游和/或下游，但在净化装置的上游，以便与所产生的第一种类物质反应。

3. 发明申请

WO2007007003A2 PROCEDE DE TRAITEMENT PAR PLASMA D'EFFLUENTS GAZEUX 审中-公开
标题翻译：气体处理等离子体处理方法
公开(公告)号：WO2007007003A2
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：PCT/FR2006/050699
申请日：2006-07-10
申请人： L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME A DIRECTOIRE ET CONSEIL DE SURVEILLANCE POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE , AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , GUERIN, Daniel , LARQUET, Christian , EL-KRID, Aicha , ROSTAING, Jean-Christophe , MOISAN, Michel , MOINE, Pascal , DULPHY, Hervé , LESORT, Anne-Laure , SANDRE, Etienne
发明人： GUERIN, Daniel , LARQUET, Christian , EL-KRID, Aicha , ROSTAING, Jean-Christophe , MOISAN, Michel , MOINE, Pascal , DULPHY, Hervé , LESORT, Anne-Laure , SANDRE, Etienne
CPC分类号： C23C16/4412 , B01D53/323 , B01D53/70 , B01D2259/818 , H05H1/46 , H05H2001/4615 , Y02C20/20 , Y02C20/30
摘要： L'invention concerne un procédé de traitement, par plasma, d'effluents gazeux à pression sensiblement atmosphérique, comportant - l'injection de l'effluent à traiter dans une torche à plasma, - l'injection de vapeur d'eau, en amont ou en aval du plasma.
摘要翻译：本发明涉及一种基本上在大气压下等离子体处理气体流出物的方法，包括：将待处理流出物注入等离子体焰炬中; 在等离子体的上游或下游注入水蒸气。

4. 发明申请

WO2003050634A2 PROCEDE DE REGULATION DU TITRE D'UNE SOLUTION, DISPOSITIF DE COMMANDE DE CETTE REGULATION ET SYSTEME COMPORTANT UN TEL DISPOSITIF 审中-公开
标题翻译：用于调节解决方案的方法，用于控制上述调节的装置和包含该装置的系统
公开(公告)号：WO2003050634A2
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/FR2002/004250
申请日：2002-12-10
申请人： AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , DULPHY, Hervé , MARTIN, Christophe
发明人： DULPHY, Hervé , MARTIN, Christophe
IPC分类号： G05D11/00
CPC分类号： G05D11/138
摘要： L'invention concerne un procédé de régulation du titre d'une solution, dans lequel une quantité prédéterminée d'un produit contenu dans la solution est ajoutée dans la solution selon un intervalle de temps, dit intervalle d'ajout, proportionnel au produit du coefficient temporel D de dégradation dudit produit en solution et au volume total Vt de la solution au moment de l'ajout. Elle concerne également un dispositif de commande de la régulation du titre d'une solution, cette solution contenant un produit, comportant des moyens (10) pour commander l'injection d'une quantité prédéterminée dudit produit dans ladite solution selon un intervalle de temps, dit intervalle d'ajout, proportionnel au produit du coefficient temporel D de dégradation dudit produit en solution et au volume total Vt de la solution au moment de l'ajout.
摘要翻译：本发明涉及一种用于调节溶液滴度的系统，该系统包括在溶液中加入包含在溶液中的预定量的产品，该时间间隔称为加料时间间隔，该时间间隔与时间系数D的乘积成比例所述产物在溶液中的降解和溶液加入时的总体积Vt。本发明还涉及一种用于控制溶液滴度调节的装置，所述溶液含有一种产品，其包括用于根据时间间隔控制将预定量的所述产品注入所述溶液的装置（10），称为加料时间间隔，与所述产物的降解时间系数D与添加时溶液的总体积Vt的乘积成比例。

5. 发明申请

WO2006070166A1 SYSTEME ET METHODE DE DISTRIBUTION DE LIQUIDES CHIMIQUES 审中-公开
标题翻译：用于分配化学液体的系统和方法
公开(公告)号：WO2006070166A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/FR2005/051135
申请日：2005-12-22
申请人： AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , DULPHY, Hervé , TANTET, Jacqueline , TAGLIONE, Frédérique
发明人： DULPHY, Hervé , TANTET, Jacqueline , TAGLIONE, Frédérique
IPC分类号： B67D5/02
CPC分类号： B67D7/025 , Y10T137/0318 , Y10T137/0324 , Y10T137/0424 , Y10T137/8593 , Y10T428/139
摘要： L'invention concerne un système de distribution de produits chimiques dans une usine de fabrication de semi-conducteurs d'écrans plats ou de diodes électroluminescentes qui comporte des moyens de stockage desdits produits liquides, des moyens de distribution desdits produits liquides et des moyens d'utilisation desdits produits liquides, les liquides étant distribués de moyens de stockage vers les moyens d'utilisation par l'intermédiaire de moyens de distribution.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在生产玻璃屏半导体或发光二极管的工厂中分配化学产品的系统，包括用于存储所述液体产品的装置和用于其分配和使用的装置，其中液体产品可从存储装置通过分发手段来使用手段。

6. 发明申请

WO2003050634A3 PROCEDE DE REGULATION DU TITRE D'UNE SOLUTION, DISPOSITIF DE COMMANDE DE CETTE REGULATION ET SYSTEME COMPORTANT UN TEL DISPOSITIF 审中-公开
公开(公告)号：WO2003050634A3
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/FR2002/004250
申请日：2002-12-10
申请人： AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , DULPHY, Hervé , MARTIN, Christophe
发明人： DULPHY, Hervé , MARTIN, Christophe
IPC分类号： G05D11/13
摘要： L'invention concerne un procédé de régulation du titre d'une solution, dans lequel une quantité prédéterminée d'un produit contenu dans la solution est ajoutée dans la solution selon un intervalle de temps, dit intervalle d'ajout, proportionnel au produit du coefficient temporel D de dégradation dudit produit en solution et au volume total Vt de la solution au moment de l'ajout. Elle concerne également un dispositif de commande de la régulation du titre d'une solution, cette solution contenant un produit, comportant des moyens (10) pour commander l'injection d'une quantité prédéterminée dudit produit dans ladite solution selon un intervalle de temps, dit intervalle d'ajout, proportionnel au produit du coefficient temporel D de dégradation dudit produit en solution et au volume total Vt de la solution au moment de l'ajout.

7. 发明申请

WO2013007923A1 PROCEDE DE PREPARATION DE MONOSILANE ELECTROCHIMIQUEMENT ASSISTE 审中-公开
标题翻译：电化学辅助制备单体的方法
公开(公告)号：WO2013007923A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：PCT/FR2012/051565
申请日：2012-07-04
申请人： L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE , AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS , VALENTI, Patrick , BOURASSEAU, Cyril , OUERD, Aziz , DULPHY, Hervé
发明人： VALENTI, Patrick , BOURASSEAU, Cyril , OUERD, Aziz , DULPHY, Hervé
IPC分类号： C01B33/04
CPC分类号： C01B33/043
摘要： Procédé de production de monosilane (SiH4) comprenant au moins une étape a) de réaction dans un réacteur (1 ) d'au moins un alliage de silicium de formule M1 xM2ySiz, dans laquelle M1 est un métal réducteur, M2 un métal alcalin ou alcalino-terreux, x, y et z varient de 0 à 1, z étant différent de 0 et la somme x+y différente de 0, avec une solution acide, ladite réaction étant assistée électrochimiquement par polarisation cathodique de l'alliage dans la solution acide par application d'une densité de courant ou d'une tension telle que le taux de conversion molaire de silicium contenu dans ledit alliage en monosilane est supérieur à au moins 80%.
摘要翻译：包括至少一种式M1xM2ySiz的硅合金的反应器（1）中的至少一个步骤a）的反应的方法，其中M1是还原性金属，M2是碱金属或碱土金属，x ，y和z从0变化到1，z不同于0，并且和x + y不是0，用酸溶液，所述反应在酸溶液中通过施加酸溶液中的合金的阴极极化进行电化学辅助电流密度或电压，使得所述合金中所含的硅的摩尔转化率大于至少80％。

8. 发明申请

WO2006008421A3 TRAITEMENT D'EFFLUENTS GAZEUX PAR PLASMA A PRESSION ATMOSPHERIQUE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006008421A3
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/FR2005/050555
申请日：2005-07-08
申请人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME A DIRECTOIRE ET CONSEIL DE SURVEILLANCE POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE , KABOUZI, Yassine , MOISAN, Michel , ROSTAING, Jean-Christophe , GUERIN, Daniel , DULPHY, Hervé , MOINE, Pascal , LAURENT, Valere , DEPERT, Bruno
发明人： KABOUZI, Yassine , MOISAN, Michel , ROSTAING, Jean-Christophe , GUERIN, Daniel , DULPHY, Hervé , MOINE, Pascal , LAURENT, Valere , DEPERT, Bruno
IPC分类号： B01J19/08 , B01D53/70
摘要： Procédé de transformation d'un gaz ou mélange de gaz et notamment d'effl uent gazeux fluorés, dans lequel au moins une liaison entre deux atomes d'au moins une molécule dudit gaz ou mélange de gazeux est rompue sous l'action d'un champ électrique et/ou magnétique auquel est soumis ledit gaz ou mélange de gaz. Le flux de gaz ou mélange de gaz est injecté à travers le champ électrique et/ou magnétique de manière non rectiligne afin d'augmenter la longueur parcourue par les molécules de gaz au travers dudit champ et ainsi augmenter l'efficacité de transformation des molécules de gaz ou mélange de gaz.

9. 发明申请

WO2022258247A1 DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION D'UNE PHASE GAZEUSE D'UN PRÉCURSEUR SOLIDE 审中-公开
公开(公告)号：WO2022258247A1
公开(公告)日：2022-12-15
申请号：PCT/EP2022/060165
申请日：2022-04-15
申请人： AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS
发明人： PLAZA, Sonia , TODOROVA, Vanina , DULPHY, Hervé , LAURENT, Valere
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/52 , C23C16/455 , B01D1/00 , B01D7/00
摘要： L'invention concerne un dispositif de distribution d'une phase gazeuse d'au moins un précurseur solide, ledit dispositif comprenant un récipient (1) destiné à contenir une phase solide (11) dudit précurseur, un premier moyen de chauffage (10) configuré pour chauffer au moins une partie du récipient (1) et/ou de la phase solide (11) de façon à former une phase gazeuse (12) dudit précurseur dans le récipient (1), des moyens de distribution (13, 14) reliés fluidiquement au récipient (1) et configurés pour distribuer la phase gazeuse (12) depuis le récipient (1) vers un point d'utilisation (60). Selon l'invention, le dispositif comprend une enceinte (2) ayant un volume interne dans lequel sont agencés le récipient (1) et lesdits moyens de distribution (13, 14), ledit dispositif comprenant en outre un deuxième moyen de chauffage (20) configuré pour chauffer au moins une partie du volume interne de l'enceinte (2).

10. 发明申请

WO2021244946A1 INSTALLATION ET PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION D'UN MÉLANGE DE GAZ POUR LE DOPAGE DE PLAQUETTES DE SILICIUM 审中-公开
公开(公告)号：WO2021244946A1
公开(公告)日：2021-12-09
申请号：PCT/EP2021/064250
申请日：2021-05-27
申请人： AIR LIQUIDE ELECTRONICS SYSTEMS
发明人： TODOROVA, Vanina , DULPHY, Hervé
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/67017
摘要： Installation de distribution d'un mélange de gaz à une unité de dopage de plaquettes de silicium comprenant une source d'un gaz dopant (1), une source d'un gaz porteur (2), un dispositif mélangeur (3) relié au récipient de gaz dopant (1) et à la source de gaz porteur (2), un premier organe régulateur de débit (41) et un deuxième organe régulateur de débit (42) pour réguler les débits du gaz dopant (1) et du gaz porteur (2) vers le dispositif mélangeur (3), une unité de commande (5) pour commander les premier et deuxième organes régulateurs de débit (41, 42) de façon à ajuster la première consigne de débit (D1) et la deuxième consigne de débit (D2) selon des proportions déterminées en fonction d'au moins une teneur cible (C1, C2) du mélange en le gaz dopant (1) et/ou le gaz porteur (2), un réservoir tampon (7), une ligne de distribution (6) pour distribuer le mélange vers une unité de dopage (10) avec un débit de consommation (DC), au moins un capteur de mesure (8) pour mesurer une grandeur physique dont la variation est représentative d'une variation du débit de consommation (DC) et pour fournir un premier signal de mesure, l'unité de commande (5) étant reliée au capteur (8) et configurée pour élaborer un premier signal de commande à partir du premier signal de mesure, les organes régulateurs de débit (41, 42) étant configurés pour ajuster les première et deuxième consignes de débit (D1,D2) en réponse audit premier signal de commande.

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