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1. 发明申请

WO2012077843A1 플라즈마 발생 장치 审中-公开
标题翻译：等离子发生器
公开(公告)号：WO2012077843A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/KR2010/008798
申请日：2010-12-09
申请人： 한국과학기술원 , 장홍영 , 서상훈 , 인정환 , 이헌수 , 이윤성 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 인정환 , 이헌수 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/34
CPC分类号： C23C16/44 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32577 , H05H2001/2412
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기, 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 진공 용기의 내부에 배치되고 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들, 및 진공 용기의 내부에 배치되고 전원 전극과 접지 전극 사이에 개재된 전극 유전체들을 포함하고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다.
摘要翻译：等离子体发生器技术领域本发明涉及一种等离子体发生器，其包括：真空容器; 在真空容器内彼此平行延伸的多个接地电极; 多个电源电极，设置在接地电极之间和真空容器内; 以及设置在电源电极和接地电极之间以及真空容器内的多个电极电介质。电源电极连接到RF电源。

2. 发明申请

WO2012134199A2 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：等离子体生成装置和基板处理装置
公开(公告)号：WO2012134199A2
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002337
申请日：2012-03-29
申请人： 주성엔지니어링(주) , 한국과학기술원 , 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32568 , H01J37/32541
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 및 상기 접지 전극들 사이에 배치된 전원 전극들을 포함한다. 접지 전극과 전원 전극 사이의 간격이 일정한 영역을 포함하고, 전원 전극은 기판을 마주보는 방향으로 테이퍼지고, 상기 전원 전극들은 RF 전원에 연결되고, 기판을 마주보는 방향으로 상기 전원전극의 높이는 상기 접지 전극의 높이보다 크다.
摘要翻译：本发明涉及等离子体发生装置和基板处理装置。等离子体发生装置包括：布置在真空容器内且彼此平行延伸的多个接地电极; 和布置在接地电极之间的电力电极。每个接地电极和电源电极之间的空间包含预定区域，并且功率电极在与衬底相反的方向上是锥形的。电源电极连接到RF电源，并且每个电源电极的高度高于接地电极在与衬底相反的方向上的高度。

3. 发明申请

WO2011105636A1 제품 사양 출력 시스템 및 방법 审中-公开
标题翻译：用于输出产品规格的系统和方法
公开(公告)号：WO2011105636A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/KR2010/001149
申请日：2010-02-24
申请人： 컨스핀(주) , 이상길 , 이윤성 , 이우진 , 김형도 , 원종석 , 류동민
发明人： 이상길 , 이윤성 , 이우진 , 김형도 , 원종석 , 류동민
IPC分类号： G06F15/16 , G06K19/07 , G06K17/00
CPC分类号： G06Q30/02
摘要： 본 발명은 제품 사양 출력 기술에 관한 것으로, 특히 통신 단말기 매장에서 더미 폰에 RFID 태그를 내장시켜 더미 폰을 키오스크의 태그 인식 영역에 올려 놓으면 키오스크가 화면에 해당되는 제품의 특징 및 사양을 보여주는 제품 사양 출력 기술에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 제품 사양 출력 시스템은 제품 모델을 나타내는 식별자를 포함하는 RFID 태그를 구비하는 더미 폰; 및 복수의 제품 모델에 대응하여 제품의 특징 및 사양에 대한 정보를 제공하는 동영상 컨텐츠를 저장하는 저장부와, 더미 폰의 RFID 태그를 인식하여 식별자로부터 제품 모델을 식별하는 태그 식별부와, 식별된 제품 모델의 동영상 컨텐츠를 저장부로부터 읽어들여 재생하는 재생부를 포함하는 키오스크;로 구성되며, 특히 더미 폰을 매장에 전시하고 고객이 마음에 드는 더미 폰을 선택하여 키오스크에 올려 놓으면 키오스크가 화면에 해당되는 제품의 특징 및 사양을 표시해서 실제 동작이 가능한 통신 단말기를 매장의 진열대에 전시하지 않고도 고객의 구매 욕구를 만족시키는 효과가 있다.
摘要翻译：本发明涉及用于输出产品规格的技术，更具体地说，涉及一种用于输出产品规格的技术，该技术使蜂窝电话商店中的信息亭能够在与产品相对应的虚拟电话时在屏幕上显示产品的规格和特性并且具有内置的RFID标签被放置在信息亭的标签识别区域上。根据本发明，一种用于输出产品规格的系统包括：具有标识符代表产品模型的RFID标签的虚拟电话; 以及包括存储单元的信息亭，用于存储用于提供关于与多个产品模型相对应的产品的规格和特性的信息的视频内容;标签识别单元，其识别所述虚拟电话的RFID标签并且从所述标识符识别所述产品模型以及用于从所识别的产品型号的存储单元读取和再现视频内容的回放单元。具体地说，当在商店中显示虚拟电话，并且客户从虚拟电话中选择所需的电话并将其放置在信息亭时，信息亭在屏幕上显示相应商品的规格和特征，从而满足客户，而不必在商店中的显示支架上显示实际工作的通信终端。

4. 发明公开

KR1020170095173A 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：等离子体产生装置和基板处理装置
公开(公告)号：KR1020170095173A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：KR1020170097290
申请日：2017-07-31
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/34 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H05H1/34
摘要： 본발명은플라즈마발생장치및 기판처리장치를제공한다. 이플라즈마발생장치는상판을포함하는진공용기, 상판의하부에배치되고공정가스를토출하는복수의노즐들을포함하는가스분배부, 가스분배부의하부에배치되고제1 방향으로나란히연장되는절연지지부들, 가스분배부의하부에배치되고상기제1 방향으로나란히연장되는접지전극들, 절연지지부의하부에배치되고접지전극들사이에서제1 방향으로나란히연장되는전원전극들, 및가스분배부및 절연지지부를관통하여전원전극들에 RF 전력을공급하는전력공급부를포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种等离子体产生装置和基板处理装置。的等离子体生成装置包括：真空容器，设置在所述顶板的下方分布气体分钟，包括用于喷射处理气体的多个喷嘴，设置在气体分布部分的底部和侧面由在第一方向上延伸的侧上的绝缘纸部分包括顶板，气体分配部底部被设置在所述第一方向上延伸的接地电极侧，在其中设置在绝缘纸部分底部并通过在接地电极电源电极之间的第一方向延伸的侧边，和一气体分配器与该绝缘纸部以及用于向电源电极供应RF功率的电源单元。

5. 发明授权

KR101765323B1 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101765323B1
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：KR1020120115539
申请日：2012-10-17
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/34
摘要： 본발명은플라즈마발생장치및 기판처리장치를제공한다. 이플라즈마발생장치는상판을포함하는진공용기, 상판의하부에배치되고공정가스를토출하는복수의노즐들을포함하는가스분배부, 가스분배부의하부에배치되고제1 방향으로나란히연장되는절연지지부들, 가스분배부의하부에배치되고상기제1 방향으로나란히연장되는접지전극들, 절연지지부의하부에배치되고접지전극들사이에서제1 방향으로나란히연장되는전원전극들, 및가스분배부및 절연지지부를관통하여전원전극들에 RF 전력을공급하는전력공급부를포함한다.

6. 发明授权

KR101247103B1 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：等离子体发生装置和基板加工装置
公开(公告)号：KR101247103B1
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：KR1020110032636
申请日：2011-04-08
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/34
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.

7. 发明公开

KR1020120114846A 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：等离子体发生装置和基板加工装置
公开(公告)号：KR1020120114846A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：KR1020110032636
申请日：2011-04-08
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32568 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32559 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
摘要： PURPOSE: A plasma generation apparatus and a substrate processing apparatus are provided to reduce lattice defect density of a substrate caused by impact of plasma by maintaining a floating state of the substrate. CONSTITUTION: A vacuum container includes an upper plate(104). A gas distribution part(130) including a plurality of nozzles(132) is arranged on a lower portion of the upper plate. Insulation support parts(150) are parallely extended in a first direction on the lower portion of the gas distribution part. Ground electrodes(120) are parallely extended in the first direction on the lower portion of the gas distribution part. Power electrodes(110) are parallely extended in the first direction on the lower portion of the insulation support part between the ground electrodes. A power supply part(240) supplies RF power to the power electrodes through the gas distribution part and the insulation support part. [Reference numerals] (AA) First direction; (BB) Second direction; (CC) Third direction
摘要翻译：目的：提供等离子体产生装置和衬底处理装置，以通过维持衬底的浮动状态来减少由等离子体的冲击引起的衬底的晶格缺陷密度。构成：真空容器包括上板（104）。包括多个喷嘴（132）的气体分配部（130）布置在上板的下部。绝缘支撑部件（150）在气体分配部件的下部沿第一方向平行延伸。接地电极（120）在气体分配部分的下部沿第一方向平行延伸。功率电极（110）在接地电极之间的绝缘支撑部分的下部在第一方向上平行延伸。电源部件（240）通过气体分配部件和绝缘支撑部件向功率电极提供RF功率。（附图标记）（AA）第一方向; （BB）第二方向; （CC）第三方向

8. 发明公开

KR1020120113875A 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：等离子体发生装置和基板加工装置
公开(公告)号：KR1020120113875A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：KR1020110031535
申请日：2011-04-06
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32568 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/32559 , H01J37/32825 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
摘要： PURPOSE: A plasma generation apparatus and a substrate processing apparatus having process uniformity are provided to reduce a standing wave effect in a longitudinal direction of a power electrode by supplying RF power to a plurality of spots of the power electrode. CONSTITUTION: A vacuum container includes an upper plate. A gas distribution part(130) is arranged on a lower portion of the upper plate. An insulation support part(150) is arranged on the lower portion of the gas distribution part. Insulation support parts include a plurality of nozzles which discharges process gas provided from the gas distribution part. Ground electrodes(120) are parallely extended in a first direction between insulation support parts. Power electrodes(110) are parallely extended in the first direction on the lower portion of the insulation support part. RF power is applied to the power electrodes. [Reference numerals] (AA) First direction; (BB) Second direction; (CC) Third direction
摘要翻译：目的：提供具有工艺均匀性的等离子体产生装置和衬底处理装置，通过向电力电极的多个点提供RF功率来减小电力电极的纵向方向上的驻波效应。构成：真空容器包括上板。气体分配部（130）配置在上板的下部。绝缘支撑部分（150）设置在气体分配部分的下部。绝缘支撑部件包括排出从气体分配部件提供的处理气体的多个喷嘴。接地电极（120）在绝缘支撑部分之间沿第一方向平行延伸。电力电极（110）在绝缘支撑部分的下部沿第一方向平行地延伸。向功率电极施加RF功率。（附图标记）（AA）第一方向; （BB）第二方向; （CC）第三方向

9. 发明授权

KR101180373B1 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：等离子体发生装置和基板加工装置
公开(公告)号：KR101180373B1
公开(公告)日：2012-09-10
申请号：KR1020110028765
申请日：2011-03-30
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/46 , H01L21/205
CPC分类号： H01J37/32568 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/32449 , H01J37/32458 , H01J37/32541 , H01J37/32825 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
摘要： PURPOSE: A plasma generation apparatus and a substrate processing apparatus are provided to reduce lattice defects density of a substrate caused by plasma impacts by maintaining the substrate in a floating state. CONSTITUTION: A plasma generation apparatus comprises a plurality of ground electrodes(120) which is arranged inside a vacuum container(102) and extended in parallel and one or more power electrodes(110) which is arranged between the ground electrodes. A discharge region with a predetermined interval between the power electrode and the ground electrode is included. The power electrode is tapered in a direction facing a substrate. The power electrode is connected to RF power(170). The vacuum container can have pressure below atmospheric pressure. The vacuum container can include an upper plate(104).
摘要翻译：目的：提供一种等离子体产生装置和衬底处理装置，以通过将衬底维持在浮动状态来减少由等离子体冲击引起的衬底的晶格缺陷密度。构成：等离子体产生装置包括布置在真空容器（102）内并且平行延伸的多个接地电极（120）和设置在接地电极之间的一个或多个电力电极（110）。包括在功率电极和接地电极之间具有预定间隔的放电区域。功率电极在面向衬底的方向上是锥形的。电源电极连接到RF电源（170）。真空容器可以具有低于大气压的压力。真空容器可以包括上板（104）。

10. 发明授权

KR101264913B1 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR101264913B1
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：KR1020110031535
申请日：2011-04-06
申请人： 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/46 , H01L21/3065
摘要： 본발명은플라즈마발생장치및 기판처리장치를제공한다.

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