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    • 7. 发明授权
    • 다층박막 제조방법
    • 多层薄膜的制造方法
    • KR100716104B1
    • 2007-05-09
    • KR1020030075402
    • 2003-10-28
    • 한국과학기술연구원
    • 이광렬이승철김상필
    • G11B5/31
    • 본 발명은 자성금속 박막 사이에 미소 두께의 균일한 비자성금속 박막을 형성할 수 있는 다층박막 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 자성금속 박막을 형성하는 단계; 자성금속 박막위에 알루미늄을 증착하는 단계; 증착된 알루미늄위에 자성금속을 증착하여 알루미나이드 박막을 형성하는 단계; 그리고 알루미나이드 박막위에 자성금속 박막을 증착하는 단계로 이루어진다. 증착되는 알루미늄의 원자 에너지는 원자당 5eV이하이고, 두께는 5Å 내지 15Å이다. 자성금속은 Co, Fe 및 Ni로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상이다. 알루미나이드 박막의 결정학적 정합성을 향상시키기 위해 진공로에서 200℃ 내지 400℃의 온도범위에서 30분 내지 60분동안 열처리하는 단계를 더 포함한다.
      다층박막, 자성금속 박막, 비자성금속 박막, 자기저항, 알루미나이드
    • 10. 发明公开
    • 전도성 질화물을 사이층으로 사용한 높은 스핀주입 효율을갖는 다층막 구조 및 그 제조방법
    • 使用导电氮化物作为间隔物的高自旋注入比例的多层结构及其制备方法
    • KR1020080070806A
    • 2008-07-31
    • KR1020080070334
    • 2008-07-18
    • 한국과학기술연구원
    • 이승철이광렬안효신
    • H01L27/105
    • A multilayered structure having high spin injection efficiency using a conductive nitride as a spacer layer is provided to obtain spin injection efficiency of a high level only by correcting conventional equipment without fabricating additional equipment. A spacer layer(2) is formed on a semiconductor layer(3), made of a conductive nitride. A spin injection electrode layer(1) is formed on the conductive nitride spacer layer, made of a ferroelectric material and injecting spin to the semiconductor layer through the conductive nitride spacer layer. Transition metal can be doped into the conductive nitride spacer layer. The interface of the semiconductor layer and the conductive nitride spacer layer can be made of an ohmic contact.
    • 提供使用导电氮化物作为间隔层的具有高自旋注入效率的多层结构,以仅通过校正常规设备而不制造附加设备才能获得高水平的自旋注入效率。 在由导电氮化物制成的半导体层(3)上形成间隔层(2)。 在由铁电体材料制成的导电氮化物间隔层上形成自旋注入电极层(1),并通过导电氮化物间隔层向半导体层注入自旋。 可以将过渡金属掺杂到导电氮化物间隔层中。 半导体层和导电氮化物间隔层的界面可以由欧姆接触形成。