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1. 发明申请

WO2015122631A1 강화유리 제조방법 审中-公开
标题翻译：制造温度玻璃的方法
公开(公告)号：WO2015122631A1
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：PCT/KR2015/000663
申请日：2015-01-22
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 윤경민 , 안진수 , 이지훈 , 최호삼
IPC分类号： C03C21/00 , C03B27/00
CPC分类号： C03B27/00 , C03C15/00 , C03C21/00 , C03C23/008
摘要： 본 발명은 강화유리 제조방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 불화규소산을 이용한 표면처리와 열처리를 통해 두께 2.0㎜ 이하의 무알칼리 유리를 강화유리로 만들 수 있는 강화유리 제조방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은, 무알칼리 유리를 준비하는 준비단계; 상기 무알칼리 유리를 불화규소산을 포함하는 표면처리 용액으로 표면처리하여, 상기 무알칼리 유리의 표면에 상기 무알칼리 유리의 내부보다 열팽창계수(CTE)가 작은 다공성 구조의 SiO 2 리치층(rich layer)을 생성시키는 표면처리단계 및 표면처리된 상기 무알칼리 유리를 열처리하여, 상기 무알칼리 유리의 표면에 압축응력을 발생시키는 열처리단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 제조방법을 제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造钢化玻璃的方法，更具体地说，涉及通过热处理和使用氟硅酸的表面处理将厚度为2.0mm以下的无碱玻璃制造成钢化玻璃的方法。为此，本发明提供了一种钢化玻璃的制造方法，该方法包括：制备无碱玻璃的制备步骤; 表面处理步骤，通过包含氟硅酸的表面处理溶液对无碱玻璃进行表面处理，从而在无碱玻璃的表面上产生多孔的富含SiO 2的层，其热膨胀系数（CTE ）小于无碱玻璃内部的CTE; 以及对经过表面处理的无碱玻璃进行热处理，从而在无碱玻璃的表面产生压应力的热处理工序。

2. 发明申请

WO2015034200A1 화학 강화 유리 제조방법 审中-公开
标题翻译：制造化学强化玻璃的方法
公开(公告)号：WO2015034200A1
公开(公告)日：2015-03-12
申请号：PCT/KR2014/007927
申请日：2014-08-26
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이회관 , 이지훈 , 최호삼 , 박영선 , 이재창 , 이재호
IPC分类号： C03C21/00 , B24B9/10
CPC分类号： C03C21/002 , B28D1/22 , C03B33/02 , Y02P40/57
摘要： 본 발명은 화학 강화 유리 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유리의 강도를 향상시킬 수 있는 화학 강화 유리 제조방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 원판 유리를 화학 강화하는 제1차 화학 강화 단계; 상기 화학 강화된 원판 유리를 일정 크기로 절단하는 절단 단계; 상기 절단 단계에 의해 형성된 절단면에 페이스트(paste)를 도포하는 페이스트 도포 단계; 및 상기 페이스트를 가열하여 상기 절단면만을 화학 강화하는 제2차 화학 강화 단계를 포함하되, 상기 페이스트는 원판 유리에 포함된 알칼리 이온보다 이온 반경이 큰 알칼리 이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 강화 유리 제조방법을 제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造化学强化玻璃的方法，更具体地说，涉及能够提高玻璃强度的化学强化玻璃的制造方法。为此，本发明提供了一种制造化学强化玻璃的方法，包括：化学强化步骤，用于化学强化母玻璃; 用于将化学增强的母玻璃切割成预定尺寸的切割步骤; 糊剂施加步骤，用于将糊剂施加到由切割步骤形成的切割平面上; 以及二次化学强化步骤，用于通过加热所述糊料仅化学强化所述切割平面，其中所述糊料包括离子半径大于所述母体玻璃中的离子半径的碱离子。

3. 发明授权

KR101561477B1 강화유리 제조방법 有权
标题翻译：制造温和玻璃的方法
公开(公告)号：KR101561477B1
公开(公告)日：2015-10-19
申请号：KR1020140017236
申请日：2014-02-14
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 윤경민 , 남진수 , 이지훈 , 최호삼
IPC分类号： C03C21/00 , C03B27/00
CPC分类号： C03B27/00 , C03C15/00 , C03C21/00 , C03C23/008
摘要： 본발명은강화유리제조방법에관한것으로서더욱상세하게는불화규소산을이용한표면처리와열처리를통해두께 2.0㎜이하의무알칼리유리를강화유리로만들수 있는강화유리제조방법에관한것이다. 이를위해, 본발명은, 무알칼리유리를준비하는준비단계; 상기무알칼리유리를불화규소산을포함하는표면처리용액으로표면처리하여, 상기무알칼리유리의표면에상기무알칼리유리의내부보다열팽창계수(CTE)가작은다공성구조의 SiO리치층(rich layer)을생성시키는표면처리단계및 표면처리된상기무알칼리유리를열처리하여, 상기무알칼리유리의표면에압축응력을발생시키는열처리단계를포함하는것을특징으로하는강화유리제조방법을제공한다.

4. 发明授权

KR101493749B1 화학 강화 유리 제조방법 有权
标题翻译：化学增强玻璃的制造方法
公开(公告)号：KR101493749B1
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：KR1020130107016
申请日：2013-09-06
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이회관 , 이지훈 , 최호삼 , 박영선 , 이재창 , 이재호
IPC分类号： C03C21/00 , B24B9/10
CPC分类号： C03C21/002 , B28D1/22 , C03B33/02 , Y02P40/57 , B24B9/10 , C03C21/008 , C03C23/007
摘要： 본 발명은 화학 강화 유리 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유리의 강도를 향상시킬 수 있는 화학 강화 유리 제조방법에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 원판 유리를 화학 강화하는 제1차 화학 강화 단계; 상기 화학 강화된 원판 유리를 일정 크기로 절단하는 절단 단계; 상기 절단 단계에 의해 형성된 절단면에 페이스트(paste)를 도포하는 페이스트 도포 단계; 및 상기 페이스트를 가열하여 상기 절단면만을 화학 강화하는 제2차 화학 강화 단계를 포함하되, 상기 페이스트는 원판 유리에 포함된 알칼리 이온보다 이온 반경이 큰 알칼리 이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 강화 유리 제조방법을 제공한다.
摘要翻译：本发明涉及化学强化玻璃的制造方法，更具体地说，涉及能够增加玻璃强度的化学强化玻璃的制造方法。为此，本发明提供了化学强化玻璃的制造方法，其包括：化学强化玻璃的主要化学强化步骤; 切割具有恒定尺寸的化学强化玻璃的切割步骤; 糊料涂布步骤，用糊料涂覆由切割步骤形成的部分; 以及二次化学强化步骤，仅通过加热该浆料来对该部分进行化学强化，其中该膏包含直径大于玻璃中含有的碱离子的碱离子。

5. 发明公开

KR1020130021015A 에칭 기판 有权
标题翻译：蚀刻基板
公开(公告)号：KR1020130021015A
公开(公告)日：2013-03-05
申请号：KR1020110083278
申请日：2011-08-22
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이성찬 , 최호삼 , 박지은 , 오정근 , 남금희 , 김선기
IPC分类号： C03C15/00 , H01L31/04
CPC分类号： Y02E10/50 , C03C3/091 , C03C3/089 , C03C15/00 , G02F2001/133302
摘要： PURPOSE: A etching substrate is provided to allow short etching time and high transmittance and comprise silicon oxide(SiO2) as a main component, and include R2O3 series component(AI203 or B2O3) under optimal proportion without A20 series component (Na2O or K2O). CONSTITUTION: An etching substrate forms porous layer through etching on the surface of glass board. An etching substrate comprises silicon oxide(SiO2) as a main component. The etching substrate comprises A20 series component to 0.0wt% of total weight, as an assistant ingredient, and R2O3 series component included over 18wt% and less than 30wt.% of total weight. The A comprises at least one of first group alkali metal, and the R comprises at least one among thirteenth group metal or non-metal. The R203 series component comprises aluminum oxide(Al2O3) or oxidation boron(B2O3). Etching reaction time of the etching board is 45 deg. C for 5-15 minutes. The transmittance of etching substrate is over than 97%.
摘要翻译：目的：提供蚀刻基板以允许短的蚀刻时间和高透射率并且包括氧化硅（SiO 2）作为主要成分，并且包括R2O3系列组分（Al2O3或B2O3），没有A20系列组分（Na2O或K2O）的最佳比例。构成：蚀刻基板通过蚀刻在玻璃板的表面上形成多孔层。蚀刻基板包括氧化硅（SiO 2）作为主要成分。蚀刻基板包括作为辅助成分的总重量的0.0重量％的A20系列成分，并且R2O3系列成分占总重量的18重量％以上且小于30重量％。 A包含第一组碱金属中的至少一种，R包含第十三组金属或非金属中的至少一种。 R203系列组分包括氧化铝（Al2O3）或氧化硼（B2O3）。蚀刻板的蚀刻反应时间为45度。 C 5-15分钟。蚀刻基板的透射率超过97％。

6. 发明授权

KR101302681B1 에칭 기판 有权
标题翻译：蚀刻底物
公开(公告)号：KR101302681B1
公开(公告)日：2013-09-03
申请号：KR1020110083278
申请日：2011-08-22
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이성찬 , 최호삼 , 박지은 , 오정근 , 남금희 , 김선기
IPC分类号： C03C15/00 , H01L31/04
CPC分类号： Y02E10/50
摘要： 본 발명은 글라스기판 에칭 시간을 단축하고 투과율을 높이면서 기판 표면에 다공성층(Porous Layer)을 균질하게 형성할 수 있는 에칭 기판의 조성에 관한 것으로, 본 발명에 따른 에칭 기판은, 산화규소(SiO
2 )를 포함하고, R
2 O
3 계열 성분을 전체 중량의 18wt.% 이상, 30wt.% 이하 포함하며, 여기서, R 은 13족 금속 또는 비금속 원소 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.

7. 发明授权

KR101228093B1 에칭 유리 有权
标题翻译：蚀刻玻璃
公开(公告)号：KR101228093B1
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：KR1020100117003
申请日：2010-11-23
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 오정근 , 안명진 , 남금희 , 이성찬 , 최호삼 , 박지은 , 김선기
IPC分类号： C03C3/087 , C03C15/00 , C03C4/00
摘要： 본 발명은 에칭 속도와 투과율을 높이면서 기판 표면에 다공성층(Porous Layer)을 균질하게 형성되는 에칭 유리에 관한 것으로, 본 발명에 따른 에칭 유리는 글라스기판 표면에 에칭을 통해 다공성층(Porous Layer)이 형성되며, 여기서 글라스기판은 산화규소(SiO
2 )와 산화알루미늄(Al
2 O
3 )를 주성분으로 포함하되, 규소(Si) 대비 알루미늄(Al)의 중량비가 0.3 이상, 0.8 이하이고, 에칭 반응시간이 10분 이하인 것을 특징으로 한다.

8. 发明公开

KR1020150096154A 강화유리 제조방법 有权
标题翻译：制造温和玻璃的方法
公开(公告)号：KR1020150096154A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：KR1020140017236
申请日：2014-02-14
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 윤경민 , 남진수 , 이지훈 , 최호삼
IPC分类号： C03C21/00 , C03B27/00
CPC分类号： C03B27/00 , C03C15/00 , C03C21/00 , C03C23/008
摘要： 본 발명은 강화유리 제조방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 불화규소산을 이용한 표면처리와 열처리를 통해 두께 2.0㎜ 이하의 무알칼리 유리를 강화유리로 만들 수 있는 강화유리 제조방법에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은, 무알칼리 유리를 준비하는 준비단계; 상기 무알칼리 유리를 불화규소산을 포함하는 표면처리 용액으로 표면처리하여, 상기 무알칼리 유리의 표면에 상기 무알칼리 유리의 내부보다 열팽창계수(CTE)가 작은 다공성 구조의 SiO
2 리치층(rich layer)을 생성시키는 표면처리단계 및 표면처리된 상기 무알칼리 유리를 열처리하여, 상기 무알칼리 유리의 표면에 압축응력을 발생시키는 열처리단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 제조방법을 제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种钢化玻璃的制造方法，更具体地说，涉及一种用于制造钢化玻璃的方法，其中可以通过表面处理和使用氟化处理的热处理将厚度为2.0mm或更小的无碱玻璃制成钢化玻璃硅酸盐。本发明提供一种钢化玻璃的制造方法，其特征在于，包括：制备无碱玻璃的制备工序; 在无碱玻璃的表面上通过处理无碱玻璃的表面，在无碱玻璃的表面上产生具有比无碱玻璃的内部少的热膨胀系数（CTE）的多孔结构中的SiO 2富层的表面处理步骤含有氟化硅酸盐的表面处理溶液的无碱玻璃; 以及通过用热处理表面处理的无碱玻璃，在无碱玻璃的表面产生压应力的热处理步骤。

9. 发明授权

KR101399400B1 화학강화 유리 절단방법 有权
标题翻译：化学强化玻璃的切割方法
公开(公告)号：KR101399400B1
公开(公告)日：2014-05-30
申请号：KR1020130000420
申请日：2013-01-03
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 이회관 , 이영석 , 이재창 , 이재호 , 이지훈 , 조서영 , 차재민 , 최호삼
IPC分类号： C03B33/09 , C03C21/00 , B23K26/38
CPC分类号： C03C21/008
摘要： The present invention relates to a chemically strengthened glass cutting method and, more specifically, to a chemically strengthened glass cutting method for cutting chemically strengthened glass which has a compressive stress formed on the surface. For the forementioned, the present invention, as the method for cutting chemically strengthened glass which is chemically strengthened by a chemically strengthening process which forms a compressive stress on the surface of the glass by exchanging the alkali ion of the inside of the glass for another alkali ion, includes the following steps of: coating paste on a cut part which will be cut in the chemically strengthened glass; heating the paste; and cutting the cut part. The paste includes an alkali ion which has an ion radius which is smaller than an alkali ion which is exchanged by the chemically strengthening process.
摘要翻译：本发明涉及一种化学强化的玻璃切割方法，更具体地说，涉及一种化学强化的玻璃切割方法，用于切割表面形成压应力的化学强化玻璃。对于前述的本发明，作为通过化学强化工艺进行化学强化处理的化学强化玻璃的切割方法，其通过将玻璃的内部碱金属离子交换为另一种碱而在玻璃的表面上形成压缩应力离子，包括以下步骤：在要在化学强化玻璃中切割的切割部分上涂布浆料; 加热糊并切割切割部分。糊剂包括碱离子，其离子半径小于通过化学强化过程交换的碱离子。

10. 发明公开

KR1020120097446A 에칭 유리 有权
标题翻译：蚀刻玻璃
公开(公告)号：KR1020120097446A
公开(公告)日：2012-09-04
申请号：KR1020100117003
申请日：2010-11-23
申请人： 코닝정밀소재 주식회사
发明人： 오정근 , 안명진 , 남금희 , 이성찬 , 최호삼 , 박지은 , 김선기
IPC分类号： C03C3/087 , C03C15/00 , C03C4/00
CPC分类号： C03C15/00 , C03C3/083 , C03C3/087
摘要： PURPOSE: An etching glass is provided to have reduced silicon oxide (SiO2) content in the glass substrate and to have increased aluminum oxide (Al2O3) content. CONSTITUTION: An etching glass has a porous layer formed on the glass surface. The glass substrate includes 53-63 wt% of silicon oxide (SiO2) and 10-20 wt% of aluminum oxide (Al2O3), as main components. The weight ratio of silicon (Si) compare to aluminum (Al) is 0.3-0.8. The etching reaction time of the glass substrate is 10 minutes or less. The glass substrate includes at least one of the following components as supplementary ingredients: 0-6.5 wt% of magnesium oxide (MgO), 6.8-9.81wt% of calcium oxide(CaO), 13.4-18.23 wt% of sodium oxide (Na2O), 0-0.38 wt% of potassium oxide (K2O) or and 0-0.16 wt% of antimony oxide (Sb2O3).
摘要翻译：目的：提供一种蚀刻玻璃以在玻璃基板中具有减少的氧化硅（SiO 2）含量并且具有增加的氧化铝（Al 2 O 3）含量。构成：蚀刻玻璃在玻璃表面上形成有多孔层。作为主要成分，玻璃基板包括53-63重量％的氧化硅（SiO 2）和10-20重量％的氧化铝（Al 2 O 3）。硅（Si）与铝（Al）的重量比为0.3-0.8。玻璃基板的蚀刻反应时间为10分钟以下。玻璃基板包括以下组分中的至少一种作为补充成分：0-6.5重量％的氧化镁（MgO），6.8-9.81重量％的氧化钙（CaO），13.4-18.23重量％的氧化钠（Na 2 O），0-0.38wt％的氧化钾（K2O）和0-0.16wt％的氧化锑（Sb2O3）。

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