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1. 发明申请

WO2019088747A1 용해도가 우수한 전기 변색 물질 및 이를 포함하는 전기 변색 소자 审中-公开
公开(公告)号：WO2019088747A1
公开(公告)日：2019-05-09
申请号：PCT/KR2018/013221
申请日：2018-11-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 강병남 , 백우현 , 이동현 , 신규순 , 김동민 , 이원영 , 이승준 , 양기석
IPC分类号： C09K9/02 , G02F1/15
摘要： 본 발명은 용해도가 우수한 전기 변색 물질 및 이를 포함하는 전기 변색 소자에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 전기 변색 물질에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 전기 변색 물질을 제공한다.

2. 发明申请

WO2013100421A1 액정 표시 장치의 배면전극 형성용 도전성 조성물 및 이를 사용한 배면전극의 형성 방법 审中-公开
标题翻译：用于形成液晶显示装置的背面电极的导电组合物和使用其形成背面电极的方法
公开(公告)号：WO2013100421A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/KR2012/010390
申请日：2012-12-03
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 변자훈 , 김동민 , 이원영 , 제갈은 , 김승기 , 홍우성 , 이정열 , 김유영
IPC分类号： H01B1/12 , G02F1/1343
CPC分类号： H01B1/127 , B05D5/12 , C08G2261/1424 , C08G2261/3223 , C08G2261/794 , C09D165/00 , G02F1/13439 , H01B1/22 , C08K5/5415 , C08L25/18
摘要： 본 발명은 액정 표시 장치의 배면전극 형성용 도전성 조성물 및 이를 사용한 배면전극의 형성 방법에 관한 것으로서, 상기 도전성 조성물은 코팅 균일성이 우수하면서도, 표면저항이 낮고 광투과율 및 표면경도가 높을 뿐 아니라, 특히 500 시간 신뢰성이 우수한 배면전극의 제공을 가능케 한다.
摘要翻译：本发明涉及用于形成液晶显示装置的背面电极的导电组合物和使用其的背面电极的形成方法。导电组合物能够提供具有优异的涂布均匀性，低表面电阻，高透射率和表面硬度的背电极，并且特别优异的可靠性为500小时。

3. 发明授权

KR101988960B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR101988960B1
公开(公告)日：2019-06-13
申请号：KR1020120114272
申请日：2012-10-15
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주상일 , 김동민 , 이원영 , 제갈은 , 박주경 , 권용준 , 박일규 , 이우혁 , 유미란
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/075 , G03F7/022 , G03F7/039 , G03F7/00 , G03F7/038

4. 发明授权

KR101737567B1 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：光刻胶组成
公开(公告)号：KR101737567B1
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：KR1020100115517
申请日：2010-11-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김승기 , 변자훈 , 김병욱 , 김동민 , 이원영 , 제갈은 , 박주경 , 주상일 , 함선미 , 이두연 , 박일규 , 정기화 , 김경호 , 홍우성
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： 본발명은포토레지스트조성물에관한것으로, 보다상세하게는 (a) 노볼락수지 5 ~ 30 중량%, (b) 디아지드계감광성화합물 2 ~10 중량%, (c) 디알킬에테르계공용매 1 내지 70 중량%, 및 (d) 유기용매잔량을포함하여진공건조시역페이퍼상이되지않으며도포균일도가우수하고도포얼룩을방지할수 있는포토레지스트조성물을제공한다.
摘要翻译：更具体地说，本发明涉及一种光刻胶组合物，它含有（a）5至30％（重量）的酚醛清漆树脂，（b）2至10％（重量）的二叠氮化物光敏化合物，（c）（d）残留量的有机溶剂，光致抗蚀剂组合物的涂布均匀性优异，可以防止涂布污染。

5. 发明公开

KR1020170029285A 구리막용 포토레지스트 조성물 审中-实审
标题翻译：铜层的光电组合物
公开(公告)号：KR1020170029285A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：KR1020150126435
申请日：2015-09-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김봉진 , 김동민 , 이원영 , 제갈은 , 김승기 , 이두연 , 김경호 , 이용호 , 박주경 , 김상영 , 이성근 , 이성환 , 심재민 , 이정진
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/00
摘要： 본발명은구리막용포토레지스트조성물에관한것이다. 보다구체적으로상기포토레지스트조성물은특정구조의티아디아졸계화합물을소정의함량범위로포함하여, 기존대비구리막기판에서의식각성능을향상시킴으로써기판과의접착력및 회로선폭균일도를동시에개선할수 있는구리막용포토레지스트조성물이제공된다.

6. 发明公开

KR1020130076550A 고해상도 고잔막률 포토레지스트 조성물 审中-实审
标题翻译：具有高分辨率和高残留率的光电组合物
公开(公告)号：KR1020130076550A
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：KR1020110145178
申请日：2011-12-28
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김승기 , 홍우성 , 김봉진 , 김병욱 , 김동민 , 이원영 , 제갈은 , 변자훈 , 주상일 , 함선미 , 이두연 , 박일규 , 김경호 , 유미란 , 박주경
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/20 , G03F7/202
摘要： PURPOSE: A photoresist composition is provided to indicate the high residual film rate and high definition, to use in industrial sites, and to enhance productivity because of reduced time in mass production. CONSTITUTION: A photoresist composition comprises novolak [novolak] resin of 5-30 weight%, the first diazide [diazide] group photo sensitive compound including the compound represented by the chemical formula 1 of 2-10 weight% and residual organic solvent. In the chemical formula 1., the R1, the R2 and R3 are respectively 2- diazo -1- naphthol -5- sulfonyl [2-diazo-1-naphthol-5-sulfonyl], and hydrogen or a C1-5 alkyl group, one of R1, R2 and R3 is 2- diazo -1- naphthol -5- sulfonyl at least. The N is the fixed number of 1-4. The novolak resin comprises 'novolak resin with the weight ratio of the paracresol [p-cresol] and metacresol [m-cresol] of 2:8-8:2'. [Reference numerals] (AA) Pattern size; (BB) Implementation example 1; (CC) Implementation example 2; (DD) Comparison example 1; (EE) Limiting resolution
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物，以表示在工业现场使用的高残留膜率和高清晰度，并且由于缩短了大量生产的时间而提高了生产率。构成：光致抗蚀剂组合物包含5-30重量％的酚醛清漆[酚醛清漆]树脂，包含化学式1表示的化合物2-10重量％的第一重氮化物[二叠氮基]光敏化合物和残留的有机溶剂。在化学式1中，R1，R2和R3分别为2-重氮-1-萘酚-5-磺酰基[2-重氮-1-萘酚-5-磺酰基]，和氢或C 1-5烷基至少R 1，R 2和R 3中的一个是2-重氮-1-萘酚-5-磺酰基。 N是1-4的固定数。酚醛清漆树脂包括具有对甲酚[对甲酚]和间甲酚[间甲酚]的重量比为2：8-8：2'的酚醛清漆树脂。（附图标记）（AA）图案尺寸; （BB）实施例1; （CC）实施示例2; （DD）比较例1; （EE）限制分辨率

7. 发明公开

KR1020100122739A 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 및 이에 사용되는 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：薄膜晶体管基板的制造方法及其使用的光电组合物
公开(公告)号：KR1020100122739A
公开(公告)日：2010-11-23
申请号：KR1020090041792
申请日：2009-05-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전우석 , 이희국 , 정양호 , 김병욱 , 이원영 , 김동민 , 신재호
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/027
摘要： PURPOSE: A manufacturing method of a thin film transistor substrate is provided to reduce the fault of a pattern when forming a micro circuit pattern, and to decrease the manufacturing time with the short photosensitive speed. CONSTITUTION: A manufacturing method of a thin film transistor substrate comprises the following steps: forming a conductive layer with a conductive material on a substrate; forming an etching pattern formed with a photoresist composition on the conductive layer; and using the etching pattern as an etching mask to etch the conductive layer, for forming a conductive layer pattern. The photoresist composition contains a first novolak resin, a binder resin containing a second novolak resin, a photo-sensitizer containing a diazide based compound, and a solvent.
摘要翻译：目的：提供薄膜晶体管基板的制造方法，以在形成微电路图案时减少图案的故障，并以短的感光速度减少制造时间。构成：薄膜晶体管衬底的制造方法包括以下步骤：在衬底上形成具有导电材料的导电层; 在所述导电层上形成由光致抗蚀剂组合物形成的蚀刻图案; 并且使用蚀刻图案作为蚀刻掩模来蚀刻导电层，以形成导电层图案。光致抗蚀剂组合物含有第一酚醛清漆树脂，含有第二酚醛清漆树脂的粘合剂树脂，含有二叠氮基化合物的光敏剂和溶剂。

8. 发明公开

KR1020100050303A 패턴 형성방법 无效
标题翻译：图案的准备方法
公开(公告)号：KR1020100050303A
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：KR1020080109528
申请日：2008-11-05
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김동민 , 이원영 , 이기만 , 김승기 , 최기식 , 제갈은 , 김정원 , 변철기 , 신재호 , 변자훈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0272 , G03F7/0392 , G03F7/095
摘要： PURPOSE: A method for forming a pattern is provided to easily form a profile with an undercut shape by increasing a fill speed using a polymer chemical compound of a specific structure when forming a multilayer photoresist layer. CONSTITUTION: A first photoresist layer(20) is formed on a substrate. A second photoresist layer(30) is formed on the first photoresist layer. A resist pattern with an undercut shape is formed by exposing and developing the first photoresist layer and the second photoresist layer. The fill speed of the second photoresist layer is slower than the fill speed of the first photoresist layer.
摘要翻译：目的：提供形成图案的方法，以便在形成多层光致抗蚀剂层时，通过使用特定结构的聚合物化合物增加填充速度，从而容易地形成具有底切形状的轮廓。构成：在基板上形成第一光致抗蚀剂层（20）。在第一光致抗蚀剂层上形成第二光刻胶层（30）。通过曝光和显影第一光致抗蚀剂层和第二光致抗蚀剂层来形成具有底切形状的抗蚀剂图案。第二光致抗蚀剂层的填充速度比第一光致抗蚀剂层的填充速度慢。

9. 发明授权

KR101322133B1 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피 방법 有权
标题翻译：用于印刷图像的印记和使用其的印刷方法
公开(公告)号：KR101322133B1
公开(公告)日：2013-10-25
申请号：KR1020060116764
申请日：2006-11-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병욱 , 유재원 , 신승협 , 이기만 , 송준용 , 이기범 , 이원영 , 이성현 , 곽은진 , 이명수 , 김진욱 , 남연희
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 임프린트 리소그래피용 몰드 및 이를 이용한 임프린트 리소그래피 방법에 관한 것으로 특히, 임프린트 리소그라피용 스탬프(Stamp)에 있어서, 패턴형성을 위한 요철을 일면에 형성하고 있는 고분자 수지 몰드, 및 상기 고분자 수지 몰드 일면의 반대 면에 부착되고, 광 투과성과 전도성을 가지는 배면 지지체를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트 리소그래피 방법에 관한 것이다. 즉, 고분자 수지인 스탬프를 이용한 성형물 제조 공정인 임프린트 리소그래피에서, 발생되는 정전기로 인하여 발생할 수 있는 이물질의 점착 및 하부 패턴 훼손을 방지할 수 있는 방법에 관한 것으로 이에 따르면, 스탬프를 이용하여 패턴을 형성하는데 있어서, 패턴형상이 있는 고분자 수지 몰드 이면에 부착되는 배면 지지체의 소재로 광 투과율이 높고, 전기전도도가 높은 소재를 사용함으로써, 정전기의 발생을 억제하여, 기판에서 양호한 품질의 패턴을 제공할 수 있다.
임프린트 리소그래피, 정전기, 배면 지지체

10. 发明公开

KR1020130077487A 액정 표시 장치의 배면전극 형성용 도전성 조성물 및 이를 사용한 배면전극의 형성 방법 审中-实审
标题翻译：用于形成液晶显示器的接地电极的导电组合物和使用其形成接地电极的方法
公开(公告)号：KR1020130077487A
公开(公告)日：2013-07-09
申请号：KR1020110146217
申请日：2011-12-29
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 변자훈 , 김동민 , 이원영 , 제갈은 , 김승기 , 홍우성 , 이정열 , 김유영
IPC分类号： H01B1/12 , G02F1/1343
CPC分类号： H01B1/127 , B05D5/12 , C08G2261/1424 , C08G2261/3223 , C08G2261/794 , C09D165/00 , G02F1/13439 , H01B1/22 , C08K5/5415 , C08L25/18
摘要： PURPOSE: A conductive composition is provided to produce a rear electrode with excellent coating uniformity, low surface resistance, and high optical transmittance rate and surface hardness. CONSTITUTION: A conductive composition contains a conductivity polymer, a dopant, a solvent with an intramolecular carbonyl group, and a silane coupling agent. The solvent is dimethylformamide, acetylacetone, or a mixture thereof. The conductivity polymer is more than one compound selected from a polyaniline polymer, a polypyrrole polymer, or a polythiophene polymer. The silane coupling agent is more than one compound selected from an alkyloxysilane group, an aminosilane group, a vinylsilan group, an epoxy silane group, a methacryloxy silane group, an isocyanate silane group, or a fluorine silane group.
摘要翻译：目的：提供导电组合物以制备具有优异涂层均匀性，低表面电阻和高透光率和高表面硬度的后电极。构成：导电组合物含有导电性聚合物，掺杂剂，具有分子内羰基的溶剂和硅烷偶联剂。溶剂是二甲基甲酰胺，乙酰丙酮或其混合物。导电性聚合物是多于一种选自聚苯胺聚合物，聚吡咯聚合物或聚噻吩聚合物的化合物。硅烷偶联剂是选自烷氧基硅烷基，氨基硅烷基，乙烯基硅烷基，环氧硅烷基，甲基丙烯酰氧基硅烷基，异氰酸酯硅烷基或氟硅烷基中的多种化合物。

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