专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020110130793A 표시 장치 및 그 구동 방법 无效
标题翻译：显示器及其操作方法
公开(公告)号：KR1020110130793A
公开(公告)日：2011-12-06
申请号：KR1020100050294
申请日：2010-05-28
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이준호 , 전형일 , 민천규 , 이병춘
IPC分类号： G09G3/32
CPC分类号： G09G3/3208 , G09G2300/0842 , G09G2300/0852 , G09G2320/0233
摘要： PURPOSE: A display device and driving method thereof are provided to change the level of a data signal by using a pixel driving circuit having a switch transistor, a driving transistor, and a capacitor. CONSTITUTION: A plurality of gate lines(G1 to Gn) and data lines(D1 to Dm) is formed to a direction which crosses with each other. A plurality of gate lines transfers a gate signal. A plurality of data lines transfers a data signal. A plurality of pixels(110) is disposed between the data line and the gate line. A switch transistor transfers the data signal by driving the gate signal. A capacitor charges electric potential according to a data signal.
摘要翻译：目的：提供一种显示装置及其驱动方法，以通过使用具有开关晶体管，驱动晶体管和电容器的像素驱动电路来改变数据信号的电平。构成：将多条栅极线（G1〜Gn）和数据线（D1〜Dm）形成为彼此交叉的方向。多个栅极线传输栅极信号。多条数据线传送数据信号。多个像素（110）设置在数据线和栅极线之间。开关晶体管通过驱动栅极信号来传送数据信号。电容器根据数据信号对电势进行充电。

2. 发明公开

KR1020110071594A 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：薄膜晶体管基板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020110071594A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：KR1020090128207
申请日：2009-12-21
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이준호 , 이병춘
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L27/1237 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L29/42384
摘要： PURPOSE: A thin film transistor substrate and a method of manufacturing the same are provided to increase storage capacitance by forming a thin gate insulating layer in a storage line. CONSTITUTION: In a thin film transistor substrate and a method of manufacturing the same, a plurality of gate lines are extended to one direction on a substrate(110). A plurality of storage lines(125) are extended in parallel with the gate line. A plurality of data lines are extended to a cross direction with the gate lines. A pixel electrode(150) is formed in a pixel region which is defined by the gate line and the data line. A thin film transistor(160) is connected to the gate line, data line and pixel electrode.
摘要翻译：目的：提供薄膜晶体管基板及其制造方法，以通过在存储线中形成薄的栅极绝缘层来增加存储电容。构成：在薄膜晶体管基板及其制造方法中，多个栅极线在基板（110）上向一个方向延伸。多条存储线（125）与栅极线并行延伸。多条数据线被延伸到与栅极线交叉的方向。像素电极（150）形成在由栅极线和数据线限定的像素区域中。薄膜晶体管（160）连接到栅极线，数据线和像素电极。

3. 发明公开

KR1020170073571A 박막 패턴의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制造薄膜图案的方法
公开(公告)号：KR1020170073571A
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：KR1020170077103
申请日：2017-06-19
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이준호 , 이병춘
IPC分类号： H01L21/02 , H01L29/66 , H01L27/12 , H01L29/417
CPC分类号： H01L21/02636 , H01L21/0262 , H01L27/1288 , H01L29/41733 , H01L29/66765
摘要： 본발명은섀도우마스크를이용한증착공정을통해기판상에제 1 두께를가지는박막패턴을형성하는단계, 상기섀도우마스크를제거하는단계, 및상기박막패턴이상기제 1 두께에비해얇은제 2 두께를가지도록상기박막패턴을식각하여상기기판상에제 1 두께를가지는박막패턴을형성하는단계에서생성된상기박막패턴의테일(Tail)부를제거하는단계를포함하는박막패턴의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种通过使用阴影掩模的沉积工艺在衬底上形成具有第一厚度的薄膜图案的薄膜图案的方法，去除阴影掩模，通过蚀刻薄膜图案去除在基板上形成具有第一厚度的薄膜图案的步骤中产生的薄膜图案的尾部以形成薄膜图案。

4. 发明授权

KR101676367B1 마스크 장치와 이를 이용한 박막 패턴의 제조 장치 및 제조 방법 有权
标题翻译：掩模设备及使用该薄膜制造薄膜图案的方法
公开(公告)号：KR101676367B1
公开(公告)日：2016-11-15
申请号：KR1020100052600
申请日：2010-06-04
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이병춘 , 이준호
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본발명은이중구조의마스크장치를이용하여반도체소자및 디스플레이장치를구성하는박막패턴의제조공정을단순화함과아울러마스크의열팽창을최소화하여대면적기판에박막패턴을형성할수 있도록한 마스크장치와이를이용한박막패턴의제조장치및 제조방법에관한것으로, 마스크장치는개구부와단부를가지는마스크프레임; 및상기개구부에삽입되어상기단부에의해지지되며, 기판상에박막패턴을형성하기위한개구패턴을가지는섀도우마스크를포함하여구성되는것을특징으로한다.

5. 发明授权

KR101750290B1 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：制造薄膜晶体管的方法和制造薄膜晶体管阵列基板的方法
公开(公告)号：KR101750290B1
公开(公告)日：2017-06-26
申请号：KR1020100054303
申请日：2010-06-09
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이준호 , 이병춘
IPC分类号： H01L29/786
摘要： 본발명은보다구체적으로, 박막패턴또는박막트랜지스터의제조공정을단순화하여제조단가를감소시키고생산성을향상시킬수 있도록한 박막패턴의제조방법과이를이용한박막트랜지스터및 박막트랜지스터어레이기판의제조방법에관한것으로, 박막패턴의제조방법은개방영역과차단영역을가지는섀도우마스크를기판상에정렬하는단계; 상기섀도우마스크를이용한증착공정을통해상기개방영역에대응되는상기기판상에박막패턴을형성하는단계; 상기섀도우마스크를제거하는단계; 및상기박막패턴의형성단계에서생성된상기박막패턴의테일(Tail)부를제거하는단계를포함하여이루어지는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明涉及更具体地讲，薄膜图案或用于制造薄膜图案，以简化薄膜晶体管的制造工序的方法来降低制造成本，提高了生产率和在薄膜晶体管的制造方法以及使用该薄膜晶体管阵列基板。一种制造薄膜图案的方法包括：将具有开口区域和阻挡区域的阴影掩模排列在衬底上; 使用所述荫罩通过沉积工艺在与所述开放区域对应的所述衬底上形成薄膜图案; 去除荫罩; 去除在薄膜图案形成步骤中产生的薄膜图案的尾部。

6. 发明公开

KR1020110134629A 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：薄膜图案的制造方法，薄膜晶体管的制造方法和薄膜晶体管阵列基板的制造方法
公开(公告)号：KR1020110134629A
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：KR1020100054303
申请日：2010-06-09
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이준호 , 이병춘
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L21/02636 , H01L21/0262 , H01L27/1288 , H01L29/41733 , H01L29/66765
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a thin film pattern, a thin film transistor, and a method for manufacturing a thin film transistor array substrate are provided to eliminate a photolithography process, thereby increasing production by simplifying processes of forming a pattern. CONSTITUTION: A shadow mask(210) with an open area(210o) and a cut-off area(210b) is arranged on a substrate(200). A thin film pattern(220) is formed on the substrate by a deposition process using the shadow mask. The shadow mask is eliminated. A tail part(220t) of the thin film pattern is eliminated. The tail part eliminating process includes a dry etching process or a wet etching process.
摘要翻译：目的：提供一种制造薄膜图案的方法，薄膜晶体管和制造薄膜晶体管阵列基板的方法以消除光刻工艺，从而通过简化形成图案的工艺来增加生产。构成：具有开放区域（210o）和截止区域（210b）的荫罩（210）布置在基板（200）上。通过使用荫罩的沉积工艺在衬底上形成薄膜图案（220）。阴影面具被消除。消除了薄膜图案的尾部（220t）。尾部消除工艺包括干蚀刻工艺或湿蚀刻工艺。

7. 发明授权

KR101871333B1 박막 패턴의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101871333B1
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：KR1020170077103
申请日：2017-06-19
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이준호 , 이병춘
IPC分类号： H01L21/02 , H01L29/66 , H01L27/12 , H01L29/417
摘要： 본발명은섀도우마스크를이용한증착공정을통해기판상에제 1 두께를가지는박막패턴을형성하는단계, 상기섀도우마스크를제거하는단계, 및상기박막패턴이상기제 1 두께에비해얇은제 2 두께를가지도록상기박막패턴을식각하여상기기판상에제 1 두께를가지는박막패턴을형성하는단계에서생성된상기박막패턴의테일(Tail)부를제거하는단계를포함하는박막패턴의제조방법에관한것이다.

8. 发明公开

KR1020110133075A 마스크 장치와 이를 이용한 박막 패턴의 제조 장치 및 제조 방법 有权
标题翻译：掩模设备，装置和使用其制造薄膜图案的方法
公开(公告)号：KR1020110133075A
公开(公告)日：2011-12-12
申请号：KR1020100052600
申请日：2010-06-04
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이병춘 , 이준호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0274 , G03F1/00 , G03F7/70691 , H01L21/0337
摘要： PURPOSE: A mask device, and a device for manufacturing a thin film pattern and a method thereof are provided to form a thin film pattern on a substrate using a mask device of a double structure, thereby preventing warpage due to thermal expansion and drooping of a mask. CONSTITUTION: A mask frame(210) comprises an end part(211) and a plurality of openings(213). The end part supports a plurality of shadow masks(220). The mask frame comprises an alignment mark(215) formed on an upper edge. The shadow masks include plates, protrusion parts, and opening patterns respectively. The opening patterns penetrate the plates and certain areas of the protrusion parts.
摘要翻译：目的：提供一种掩模装置以及用于制造薄膜图案的装置及其方法，以使用双重结构的掩模装置在基板上形成薄膜图案，从而防止由于热膨胀和下垂而引起的翘曲面具。构成：掩模框架（210）包括端部（211）和多个开口（213）。端部支撑多个荫罩（220）。掩模框架包括形成在上边缘上的对准标记（215）。荫罩分别包括板，突出部分和开口图案。开口图案穿透板和突出部分的某些区域。

9. 发明公开

KR1020110072038A 인쇄 장치 无效
标题翻译：打印机
公开(公告)号：KR1020110072038A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：KR1020090128805
申请日：2009-12-22
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 민천규 , 전형일 , 이당구 , 이병춘 , 유치욱
IPC分类号： B41F13/187 , G02F1/13 , H01L21/027
CPC分类号： B41F13/187 , G02F1/1303 , G03F7/0002
摘要： PURPOSE: A printing device is provided to print various types of patterns by comprising a plurality of gravure rolls and blacking rolls corresponding to the gravure rolls. CONSTITUTION: A printing device comprises a work stage(100) on which a substrate is placed, gravure rolls(111,112) which are arranged separate from each other on both ends of the work state and coated with a printing material, blanket rolls(121,122) which are installed to move close to and away from the respective gravure rolls and transfer the printing material from the gravure rolls onto the substrate on the work stage, and a blanket roll driving unit which rotates or translates the blanket rolls.
摘要翻译：目的：提供一种印刷装置，用于通过包括对应于凹版辊的多个凹版辊和上色辊来印刷各种图案。构成：打印装置包括其上放置基板的工作台（100），在工作状态的两端彼此分离并涂覆有印刷材料的凹版辊（111,112），橡皮布辊（121,122）其被安装成移动靠近和远离相应的凹版辊并将打印材料从凹版辊转移到工作台上的基板上，以及橡皮布辊驱动单元，其使橡皮布辊旋转或平移。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式