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1. 发明授权

KR101449460B1 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 이의 제조 방법 有权
标题翻译：薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
公开(公告)号：KR101449460B1
公开(公告)日：2014-10-13
申请号：KR1020080047834
申请日：2008-05-23
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이형섭 , 유치욱 , 이건훈
IPC分类号： H01L29/786
摘要： 본 발명은 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 기판과, 상기 기판상에 형성되고 금속 산화물 활성층을 구비하는 박막 트랜지스터과, 실리콘 함유 가스와 제 1 질소 함유 가스를 이용하여 상기 박막 트랜지스터를 포함하는 상기 기판 전면에 형성된 제 1 패시베이션층 및 상기 실리콘 함유 가스와 제 2 질소 함유 가스를 이용하여 상기 제 1 패시베이션층 상에 형성된 제 2 패시베이션층을 포함하는 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법을 제공한다. 이와 같이 금속 산화물을 활성층으로 사용하는 박막 트랜지스터의 패시베이션층으로 질화막을 사용하되, 먼저 N
2 가스를 이용하여 제 1 패시베이션층을 형성하고, 이어서, NH
3 가스를 이용하여 제 2 패시베션층을 형성하여 패시베이션층과 활성층 간의 반응을 줄여 활성층의 전기적 특성 변화를 억제할 수 있다.
금속 산화물, 활성층, 박막 트랜지스터, 전구체, 패시베이션

2. 发明授权

KR101267396B1 박막 증착 장치 및 박막 증착 방법과 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조 장치 및 제조 방법 有权
标题翻译：薄膜沉积的装置和方法，使用其制造有机发光装置的装置和方法
公开(公告)号：KR101267396B1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：KR1020110056885
申请日：2011-06-13
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 유도형 , 유치욱 , 이동엽
IPC分类号： H01L51/56 , C23C14/22
摘要： 본발명은박막또는유기발광소자의제조하기위한공정챔버의개수를줄일수 있도록한 박막증착장치및 박막증착방법과이를이용한유기발광소자의제조장치및 제조방법에관한것으로, 본발명의박막증착장치는증착공간을제공하는공정챔버; 기판을지지하고상기공정챔버에회전가능하게설치되어상기기판을기판로딩/언로딩위치또는공정위치로상하반전시키는기판반전수단; 및상기공정챔버에설치되어상기공정위치로반전된기판에증착될증착물질을제공하는증착물질제공수단을포함하여구성되는것을특징으로한다.

3. 发明公开

KR1020130046541A 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법 审中-实审
标题翻译：薄膜沉积装置和使用其沉积氟膜的方法
公开(公告)号：KR1020130046541A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：KR1020110111000
申请日：2011-10-28
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 유도형 , 유치욱
IPC分类号： H01L21/20 , C23C16/00
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/54 , H01L21/02266
摘要： PURPOSE: A thin film depositing apparatus and a method for depositing a thin film using the same are provided to reduce a processing time by using a pressure controlling part. CONSTITUTION: A depositing apparatus is formed in a reaction chamber(100). A raw material supply chamber(400) is closely adhered to one side of the reaction chamber. A pressure controlling part adjusts the pressure of the reaction chamber. The pressure controlling part adjusts the pressure of the raw material supply chamber. Two or more crucibles accommodate a raw material.
摘要翻译：目的：提供薄膜沉积设备和使用其沉积薄膜的方法，以通过使用压力控制部分来减少处理时间。构成：在反应室（100）中形成沉积设备。原料供给室（400）紧贴在反应室的一侧。压力控制部分调节反应室的压力。压力控制部调整原料供给室的压力。两个或多个坩埚容纳原料。

4. 发明公开

KR1020100021885A 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법 无效
标题翻译：薄膜晶体管基板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020100021885A
公开(公告)日：2010-02-26
申请号：KR1020080080541
申请日：2008-08-18
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이형섭 , 유치욱 , 이건훈
IPC分类号： G02F1/136 , H01L29/786
CPC分类号： H01L27/1248 , H01L27/1225 , H01L29/7869
摘要： PURPOSE: A thin film transistor substrate and a method for manufacturing the same are provided to suppress the deterioration of electrical characteristic of an active layer by reducing the reaction of a passivation layer and active layer. CONSTITUTION: A TFT(Thin Film Transistor) substrate comprises a substrate(100), a thin film transistor, a first passivation layer(170) and a second passivation layer(180). The thin film transistor comprises a metal oxide active layer(130). The first passivation layer is formed on the substrate by an aluminum oxide film(Al2O3). The second passivation layer is formed on the first passivation layer.
摘要翻译：目的：提供薄膜晶体管基板及其制造方法，通过减少钝化层和活性层的反应来抑制活性层的电特性的恶化。构成：TFT（薄膜晶体管）基板包括基板（100），薄膜晶体管，第一钝化层（170）和第二钝化层（180）。薄膜晶体管包括金属氧化物活性层（130）。通过氧化铝膜（Al 2 O 3）在基板上形成第一钝化层。第二钝化层形成在第一钝化层上。

5. 发明公开

KR1020040064585A 적층 구조의 클러스터 有权
标题翻译：带有加载结构的集群
公开(公告)号：KR1020040064585A
公开(公告)日：2004-07-19
申请号：KR1020030048344
申请日：2003-07-15
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 장근하 , 유치욱
IPC分类号： G02F1/13
摘要： PURPOSE: A cluster with a loading structure is provided to considerably improve productivity. CONSTITUTION: A storage part stores a plurality of substrates, and embeds a robot which carries in the substrates and carries out the substrates. The first cluster(200) includes the first convey chamber(210), a plurality of process chambers(260,270,280) and the first load lock chamber(240). The first convey chamber(210) embeds the robot. A plurality of the process chambers(260,270,280) are combined with the first convey chamber(210). One end of the first load lock chamber(240) is combined with the storage part, and the other end of the first load lock chamber(240) is combined with the first convey chamber(210). The second cluster(300) includes the second convey chamber(310), a plurality of process chambers(360,370,380) and the second load lock chamber. The second convey chamber(310) is located in a lower portion of the first convey chamber(210). A plurality of the process chambers(360,370,380) are combined with the second convey chamber(310), and are located among a plurality of the process chambers(260,270,280). One end of the second load lock chamber is combined with the storage part, and the other end of the second load lock chamber is combined with the second convey chamber(310).
摘要翻译：目的：提供具有加载结构的集群，以显着提高生产力。构成：存储部件存储多个基板，并且嵌入携带在基板中并执行基板的机器人。第一簇（200）包括第一输送室（210），多个处理室（260,270,280）和第一负载锁定室（240）。第一输送室（210）嵌入机器人。多个处理室（260,270,280）与第一输送室（210）组合。第一负载锁定室（240）的一端与存储部组合，第一负载锁定室（240）的另一端与第一输送室（210）组合。第二组（300）包括第二输送室（310），多个处理室（360,370,380）和第二负载锁定室。第二输送室（310）位于第一输送室（210）的下部。多个处理室（360,370,380）与第二输送室（310）组合，并且位于多个处理室（260,270,280）之间。第二负载锁定室的一端与存储部分结合，第二负载锁定室的另一端与第二输送室（310）组合。

6. 发明授权

KR101442776B1 배기 컨덕턴스를 향상시킨 에지프레임과 이를 포함하는기판처리장치 有权
标题翻译：边缘框进行耗尽电导和包括其的基板处理装置
公开(公告)号：KR101442776B1
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：KR1020080034735
申请日：2008-04-15
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 심경식 , 유치욱
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 기판처리장치의 내부에 설치되는 에지프레임을 개시한다. 본 발명의 에지프레임은, 중앙에 형성되는 개구부를 둘러싸는 몸체부; 상기 몸체부에 형성된 다수의 관통부를 포함한다.
본 발명에 따르면 에지프레임이 설치된 챔버에서 에지프레임의 모서리 부근의 배기컨덕턴스를 향상시킬 수 있기 때문에 이 부분의 파우더 발생량을 크게 줄일 수 있다. 따라서 파티클 발생으로 인한 기판의 오염을 방지할 수 있고, 파우더 제거를 위한 클리닝 시간을 단축시켜 장치 전체의 생산성을 향상시킬 수 있다.
에지프레임, 배기컨덕턴스

7. 发明公开

KR1020100137797A 기판 정렬 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 정렬 방법 有权
标题翻译：用于对准基板的装置，用于处理基板的装置和用于对准基板的方法
公开(公告)号：KR1020100137797A
公开(公告)日：2010-12-31
申请号：KR1020090056017
申请日：2009-06-23
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이상돈 , 유치욱
IPC分类号： H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： C23C16/042 , C23C16/4585 , H01L21/682
摘要： PURPOSE: A substrate aligning device, a substrate processing device including the same, and a substrate aligning method are provided to automatically align a substrate and a mask by using a horizontal transfer unit which pushes the substrate and the mask by interlocking with the lifting operation of a susceptor. CONSTITUTION: A position fixing unit(320) is protrusively combined with the upper side of a susceptor(300) which is vertically driven in a chamber(200) including an inner space. The position fixing unit forms a reference line when the substrate and the mask are aligned. A horizontal transfer unit(400) is combined to pass through the inner space on the outer side which does not face the chamber. The horizontal transfer unit successively transfers the substrate and the mask until the horizontal transfer is stopped on the susceptor by the position fixing unit by interlocking with the vertical transfer of the susceptor. A controller controls the driving of the susceptor and the horizontal transfer unit.
摘要翻译：目的：提供一种基板对准装置，包括该基板对准装置的基板处理装置和基板对准方法，以通过使用水平传送单元自动对准基板和掩模，该水平传送单元通过与基板和掩模的提升操作互锁来推动基板和掩模一个感受器构成：位置固定单元（320）与在包括内部空间的室（200）中垂直驱动的基座（300）的上侧突出地组合。当基板和掩模对准时，位置固定单元形成参考线。水平传送单元（400）被组合以穿过不面向室的外侧的内部空间。水平传送单元连续地传送基板和掩模，直到位置固定单元通过与基座的垂直传送互锁而在基座上停止水平传送。控制器控制基座和水平传送单元的驱动。

8. 发明授权

KR100979920B1 액정표시장치용 증착 장치 有权
标题翻译：液晶显示装置沉积装置
公开(公告)号：KR100979920B1
公开(公告)日：2010-09-03
申请号：KR1020030062514
申请日：2003-09-08
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 한근조 , 이재영 , 유치욱
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 반응가스의 증착이 수행되는 공정챔버의 외부에 설치되는 다수의 리모트 플라즈마 원을 구비하고 있는 액정표시장치용 증착 장치에 관한 것으로, 대면적 기판을 증착 또는 클리닝하기 위하여 다량의 반응가스가 공정챔버로 공급되는 과정에서 야기되는 증착 장치의 파손을 방지할 수 있을 뿐 아니라 공정챔버 내부의 반응영역 전체로 반응가스가 균일하게 분산시킴으로써 성막된 막 두께 균일도를 향상시킬 수 있다.

9. 发明授权

KR100941960B1 화학기상증착 장치의 샤워헤드 有权
标题翻译：化学气相沉积装置的淋浴头
公开(公告)号：KR100941960B1
公开(公告)日：2010-02-11
申请号：KR1020030035729
申请日：2003-06-03
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 장근하 , 한근조 , 유치욱 , 최재욱 , 이명진
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 대면적 TFT-LCD 기판 제작용 화학기상증착장치에 관한 것으로서, 직경이 작은 다수의 제1분사구와 직경이 큰 다수의 제2분사구를 구비한 화학기상증착 장치의 샤워헤드를 제공한다. 보다 상세하게는 상기 제1분사구와 제2분사구가 규칙성 있게 배열되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착 장치의 샤워헤드를 제공한다. 또한 가장자리에는 직경이 큰 다수의 제2분사구가 배열되고, 나머지 부분에는 상기 제1분사구 및 상기 제2분사구가 규칙성 있게 배열되는 화학기상증착 장치의 샤워헤드를 제공한다.
본 발명에 따르면, 샤워헤드 상하면간의 표면적차이와 분사구의 가공오차로 인해 발생하는 샤워헤드의 열적변형을 크게 줄일 수 있게 되어, 분사가스의 균일도를 향상시킬 수 있을 뿐만아니라, 샤워헤드와 서셉터간의 거리에 따른 공정마진을 개선할 수 있다.

화학기상증착, CVD, PECVD, 샤워헤드, TFT-LCD, 기판

10. 发明公开

KR1020090109337A 배기 컨덕턴스를 향상시킨 에지프레임과 이를 포함하는기판처리장치 有权
标题翻译：边缘框架推进排水导管和基板加工装置
公开(公告)号：KR1020090109337A
公开(公告)日：2009-10-20
申请号：KR1020080034735
申请日：2008-04-15
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 심경식 , 유치욱
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/02
摘要： PURPOSE: An edge frame progressing exhaustion conductance and a substrate processing apparatus comprising the same are provided to prevent the contamination of a substrate due to the particle generation. CONSTITUTION: An edge frame(100) progressing exhaustion conductance is installed inside a chamber(11) and covers the edge of a substrate(S) during the process. The edge frame includes a body portion(110) and lots of penetration parts(130). A body portion surrounds an opening(120) formed in a center. The body portion is the square ring shape. Lots of the penetration parts are formed in the body portion. The penetration parts are formed at every edge or corner part of the body portion.
摘要翻译：目的：提供边缘框进行耗尽电导和包括其的基板处理装置，以防止由于颗粒产生而导致的基板污染。构成：在处理过程中，在室（11）内部安装边缘框架（100）进行排气电导，并覆盖基板（S）的边缘。边缘框架包括主体部分（110）和许多穿透部分（130）。身体部分围绕形成在中心的开口（120）。身体部分是方形环形。多个穿透部分形成在主体部分中。贯穿部分形成在主体部分的每个边缘或角部。

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