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1. 发明公开

KR1020150028583A 감광성 수지막의 제조 방법, 및 그 제조 방법에 의해 제조된 감광성 수지막 有权
标题翻译：用相同方法制造感光树脂薄膜和感光树脂薄膜的方法
公开(公告)号：KR1020150028583A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：KR1020130107398
申请日：2013-09-06
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김상수 , 강진희 , 김대윤 , 김상권 , 김상균 , 김용태 , 박은비 , 송재환 , 이범진 , 홍충범 , 황인철
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/028 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/028 , G03F7/40 , Y10S430/1055
摘要： (A) 알칼리 가용성 수지, 가교제, 광산 발생제, 및 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포하는 단계; (B) 상기 도포된 포지티브형 감광성 수지 조성물을 건조한 후, 150℃ 내지 200℃에서 사전 가열하는 단계(Pre baking); (C) 상기 사전 가열 후 노광하는 단계; (D) 상기 노광 후 현상하는 단계; 및 (E) 상기 현상 후 경화하는 단계를 포함하는 감광성 수지막의 제조 방법, 및 상기 방법에 따라 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
摘要翻译：本发明提供一种感光性树脂薄膜和通过该感光性树脂薄膜制造的感光性树脂薄膜的制造方法，其特征在于，包括以下工序：（A）涂布含有碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物，药剂，光致酸产生剂和溶剂; （B）将涂布的正型感光性树脂组合物干燥并在150〜200℃下进行预烘烤; （C）加热并将其暴露于光; （D）发展; 和（E）硬化相同。

2. 发明授权

KR101423177B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101423177B1
公开(公告)日：2014-07-29
申请号：KR1020110147388
申请日：2011-12-30
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 권지윤 , 강진희 , 김대윤 , 김상권 , 김상균 , 김상수 , 노건배 , 윤은경 , 이종화 , 이준호 , 이진영 , 전환승 , 조현용 , 홍충범 , 황은하
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/105 , G03F7/0233 , G03F7/0757
摘要： (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 또는 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 페놀화합물, (D) 흡광 파장이 400 내지 700nm인 유기염료 1 종 이상 및 (E) 용매를 포함하며, 상기 유기염료(D)는 상기 알칼리 가용성 수지 전구체 100 중량부에 대하여 1 내지 40 중량부로 포함되는 포지티브형 감광성 수지 조성물를 제공한다.

3. 发明公开

KR1020140086724A 표시장치 절연막용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 표시장치 절연막 및 표시장치 无效
标题翻译：用于绝缘显示装置的薄膜的感光性树脂组合物，使用其的绝缘膜和使用其的显示装置
公开(公告)号：KR1020140086724A
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：KR1020120157564
申请日：2012-12-28
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 권지윤 , 강진희 , 김대윤 , 김상권 , 김상수 , 김용태 , 노건배 , 박은비 , 송재환 , 윤은경 , 이종화 , 이진영 , 홍충범 , 황은하 , 황인철
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/09 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0755 , G03F7/0233
摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition for an insulation film of a display device, which comprises (A) alkali-soluble resin including a polybenzoxazole precursor, polyamic acid, polyimide, or a mixture thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) an ultraviolet ray absorber having a maximum absorption wavelength of 300-400 nm, and (D) a solvent; and to an insulation film and a display device using the photosensitive resin composition.
摘要翻译：本发明涉及一种显示装置的绝缘膜用感光性树脂组合物，其包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰胺酸，聚酰亚胺或其混合物的碱溶性树脂，（B）感光性重氮醌化合物，（C）最大吸收波长为300-400nm的紫外线吸收剂，（D）溶剂; 以及使用该感光性树脂组合物的绝缘膜和显示装置。

4. 发明授权

KR100722984B1 반도체 미세 갭 필용 중합체 및 이를 이용한 반도체 미세갭 필용 조성물 失效
标题翻译：半导体微隙填充聚合物及半导体微隙填充用组合物
公开(公告)号：KR100722984B1
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：KR1020050117592
申请日：2005-12-05
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 성현후 , 김종섭 , 오승배 , 김대윤
IPC分类号： C08F20/04 , C08F20/06
摘要： 본 발명은 반도체 미세 갭 필 중합체에 관한 것으로서, 본 발명에 의하여 직경이 100nm 이하이며, 높이/직경으로 나타나는 아스팩트비가 1 이상인 홀을 갖는 반도체 기판에 일반적인 스핀코팅 방법으로 공기 보이드(void) 등의 결함없이 완전한 갭 필(Gap-Fill)이 가능하며, 알칼리 수용액(현상액이라고 함.)에 의해 원하는 두께만큼 막을 녹여 낼 수 있으며, 보관안정성이 우수하며, 베이킹에 의한 경화 후에는 이소프로필 알코올(IPA) 및 플라즈마 에칭에 강한 내성을 가지며, 에싱(Ashing) 처리에 의해서 빠르게 홀 내부에서 제거될 수 있는 조성물을 제공한다.
갭 필(Gap-Fill), 용해속도(Dissolution Rate), 스핀코팅, 보관안정성, 플라즈마 에칭, 에싱(Ashing), 반도체
摘要翻译：本发明中，诸如半导体细间隙所需的聚合物，和具有由本发明的直径为100nm或更小的，在具有一个或多个孔（空隙）的半导体基板上的典型的旋涂法中的空气空隙的高度/直径所示人工鱼礁事实比它可以是一个完整的间隙场（间隙填充），无缺陷，和含水的碱性溶液可以是通过由所需厚度的膜溶解（其中。被称为显影液）并具有优良的储存稳定性，和异丙醇通过烘烤固化后（IPA ）和耐等离子蚀刻，并且可以通过灰化处理在孔中快速去除。

5. 发明授权

KR100717511B1 반도체 미세 갭 필용 중합체 및 이를 이용한 조성물 失效
标题翻译：用于半导体器件的间隙填充的聚合物和使用其的涂料组合物
公开(公告)号：KR100717511B1
公开(公告)日：2007-05-11
申请号：KR1020050104325
申请日：2005-11-02
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 성현후 , 김종섭 , 이선율 , 김대윤
IPC分类号： C08F20/06 , C08F20/04
摘要： 본 발명은 반도체 미세 갭 필 중합체에 관한 것으로서, 본 발명에 의하여 직경이 100nm 이하이며, 높이/직경으로 나타나는 아스팩트비가 1 이상인 홀을 갖는 반도체 기판에 일반적인 스핀코팅 방법으로 공기 보이드(void) 등의 결함없이 완전한 갭 필(Gap-Fill)이 가능하며, 알칼리 수용액(현상액이라고 함)에 의해 원하는 두께만큼 막을 녹여 낼 수 있으며, 베이킹에 의한 경화 후에는 이소프로필 알코올(IPA) 및 플라즈마 에칭에 강한 내성을 가지며, 에싱(Ashing) 처리에 의해서 빠르게 홀 내부에서 제거될 수 있는 조성물을 제공한다.
갭 필(Gap-Fill), 용해속도(Dissolution Rate), 스핀코팅, 반도체

6. 发明授权

KR101636861B1 표시장치 절연막용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 표시장치 절연막 및 표시장치 有权
标题翻译：用于绝缘膜的显示器件绝缘膜和使用其的显示器件的感光性树脂组合物
公开(公告)号：KR101636861B1
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：KR1020120157571
申请日：2012-12-28
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 권지윤 , 강진희 , 김용태 , 이종화 , 이진영 , 김대윤 , 김상균 , 황인철
IPC分类号： G03F7/016 , G03F7/004 , G03F7/11 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/105
摘要： (A) 알칼리가용성수지; (B) 감광성디아조퀴논화합물; (C) 최대흡수파장이 400 내지 550nm인색소재; 및 (D) 용매를포함하는표시장치절연막용감광성수지조성물, 및이를이용한절연막및 표시장치에관한것이다.

7. 发明公开

KR1020160001217A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 표시 소자 有权
标题翻译：正性感光树脂组合物，使用其制备的感光树脂膜和显示装置
公开(公告)号：KR1020160001217A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：KR1020140079238
申请日：2014-06-26
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 노건배 , 강진희 , 김대윤 , 김상권 , 김상수 , 김용태 , 백재열 , 송재환 , 이범진 , 이상행 , 이종화 , 이진영 , 황인철
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/023 , G03F7/022 , G03F7/039 , Y10S430/1055
摘要： (A) 알칼리가용성수지; (B) 감광성디아조퀴논화합물; (C) 250℃내지 400℃의융점을갖는용해조절제; 및 (D) 용매를포함하는포지티브형감광성수지조성물, 이를사용하여제조된감광성수지막및 디스플레이소자가제공된다.
摘要翻译：提供一种正型感光性树脂组合物，其包含：（A）碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; （C）熔点为250-400℃的溶解度调节剂; 和（D）溶剂。此外，提供了使用该组合物制造的感光性树脂膜和显示装置。

8. 发明公开

KR1020150045811A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 수지막 및 표시 소자 无效
标题翻译：正性感光树脂组合物，以及使用其制备的感光树脂膜和显示装置
公开(公告)号：KR1020150045811A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：KR1020130125532
申请日：2013-10-21
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 권지윤 , 강진희 , 김대윤 , 김상권 , 김상수 , 김용태 , 노건배 , 박은비 , 백재열 , 송재환 , 이범진 , 이종화 , 이진영 , 홍충범 , 황은하 , 황인철
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/004 , G03F7/0223 , G03F7/11 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： (A) 알칼리가용성수지; (B) 감광성디아조퀴논화합물; (C) 300 nm 내지 450 nm의파장영역에서자외선을흡수하여산을발생시키는광산발생제; 및 (D) 용매를포함하는포지티브형감광성수지조성물, 그리고이를이용한감광성수지막및 표시소자가제공된다.
摘要翻译：提供正型感光性树脂组合物，感光性树脂膜和使用其的显示装置。正型感光性树脂组合物包含（A）碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; （C）在300-450nm的波长范围内吸收紫外线，然后产生酸的光酸发生剂; 和（D）溶剂。

9. 发明授权

KR101413078B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101413078B1
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：KR1020110147383
申请日：2011-12-30
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 윤은경 , 황은하 , 이종화 , 권지윤 , 김대윤 , 김상권 , 김상균 , 김상수 , 노건배 , 이준호 , 이진영 , 조현용 , 홍충범
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0755 , G03F7/085 , Y10S430/107
摘要： 본 기재는 (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 또는 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 하기 화학식 1로 표현되는 화합물 및 (D) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]

(상기 화학식 1의 정의는 본 명세서에 기재한 바와 같다.)

10. 发明公开

KR1020130078782A 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020130078782A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020110147903
申请日：2011-12-30
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 윤은경 , 이종화 , 황은하 , 권지윤 , 김대윤 , 김상권 , 김상수 , 이준호 , 이진영 , 조현용 , 홍충범
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03C1/61 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/023 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , G03F7/105
摘要： PURPOSE: A positive photosensitive resin composition is provided to be able to show an excellent cyclization rate by a low temperature curing reaction, and, therefore, to be able to manufacture a photosensitive resin film with an excellent mechanical property and insulation property. CONSTITUTION: A positive photosensitive resin composition comprises (A) alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, and a polyimide precursor or their combination; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (B) a thermoacid generator with a decomposition temperature of 150-200deg.C; and (D) a solvent. The polybenzoxazole precursor includes a repeating unit represented by Chemical formula 1, or both repeating units of Chemical formulas 1 and 2, and has a thermally polymerizable functional group on at least one terminal end.
摘要翻译：目的：提供一种正型感光性树脂组合物，以能够通过低温固化反应显示优异的环化速率，并且因此能够制造具有优异的机械性能和绝缘性能的感光性树脂膜。构成：正型感光性树脂组合物包含（A）选自聚苯并恶唑前体和聚酰亚胺前体或其组合的碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; （B）分解温度为150-200℃的热酸发生器; 和（D）溶剂。聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元或化学式1和2的两个重复单元，并且在至少一个末端具有热聚合性官能团。

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