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1. 发明授权

KR100231345B1 그리드형 가스 분사를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치 失效
标题翻译：使用网格式气体注入的电感耦合等离子体发生系统
公开(公告)号：KR100231345B1
公开(公告)日：1999-11-15
申请号：KR1019960003329
申请日：1996-02-12
申请人： 장홍영 , 손명호
发明人： 장홍영 , 손명호 , 서상훈
IPC分类号： H01L21/20
摘要： 본 발명은 그리드형 가스 분사를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 발생장치는 반응 영역을 구성하는 반응 챔버; 상기 반응 챔버의 상단에 장착되며 플라즈마 발생 영역을 구성하는 석영관; 상기 석영관 둘레에 장착되는 플라즈마 발생 안테나; 상기 안테나가 설치되는 영구 자석; 상기 안테나와 석영관들을 둘러싸고 있는 차폐뚜껑; 상기 플라즈마 발생 영역과 반응 영역 사이에 장착되고 가스 주입관이 내장된 세라믹 그리드; 상기 그리드의 상부에 부착되는 불활성 기체 주입용 가스 분사링; 및, 상기 그리드의 하부에 부착되는 활성 기체 주입용 가스 분사링을 포함한다. 본 발명의 플라즈마 발생장이체 의하면, 플라즈마내 전자의 온도 분포의 조절이 가능해져 활성종들의 해리 정도를 효과적으로 조절할 수 있고, 또한 상기 세라믹 그리드와 그의 하부에 부착되는 가스 분사링의 분사 구멍의 크기 및 분포를 조절함으로써 활성종의 공잔적 분포의 균일성을 얻을 수 있어, 식각의 균일성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 공간적으로 균일한 활성종의 분포를 플라즈마가 발생하는 영역으로부터 가까운 위치에서 확보할 수 있기 때문에. 웨이퍼의 위치를 플라즈마 발생영역 가까이에 위치시킬 수 있으므로 플라즈마의 확산에 의한 손실 효과를 줄여 식각의 향상을 꾀할 수 있었다.

2. 发明公开

KR1019970063436A 그리드형 가스 분사를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치 失效
标题翻译：电感耦合等离子体发生器采用格栅式注气
公开(公告)号：KR1019970063436A
公开(公告)日：1997-09-12
申请号：KR1019960003329
申请日：1996-02-12
申请人： 장홍영 , 손명호
发明人： 장홍영 , 손명호 , 서상훈
IPC分类号： H01L21/20
摘要： 본 발명은 그리드형 가스 분사를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 발생장치는 반응 영역을 구성하는 반응 챔버; 상기 반응 챔버의 상단에 장착되며 플라즈마 발생 영역을 구성하는 석영관; 상기 석영관 둘레에 장착되는 플라즈마 발생 안테나; 상기 안테나가 설치되는 영구 자석; 상기 안테나와 석영관들을 둘러싸고 있는 차폐 뚜껑; 상기 플라즈마 발생 영역과 반응 영역 사이에 장착되고 가스 주입관이 내장된 세라믹 그리드; 상기 그리드의 상부에 부착되는 불활성 기체 주입용 가스 분사링; 및, 상기 그리드의 하부에 부착되는 활성 기체 주입용 가스 분사링을 포함한다. 본 발명의 플라즈마 발생장치에 의하면, 플라즈마내 전자의 온도 분포의 조절이 가능해져 활성종들의 해리 정도를 효과적으로 조절할 수 있고, 또한 상기 세라믹 그리드와 그의 하부에 부착되는 가스 분사링의 분사 구멍의 크기 및 분포를 조절함으로써 활성종의 공간적 분포의 균일성을 얻을 수 있어, 식각의 균일성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 공간적으로 균일한 활성종의 분포를 플라즈마가 발생하는 영역으로부터 가까운 위치에서 확보할 수 있기 때문에 웨이퍼의 위치를 플라즈마 발생 영역 가까이에 위치시킬 수 있으므로 플라즈마의 확산에 의한 손실 효과를 줄여 식각의 향상을 꾀할 수 있었다.

3. 发明申请

WO2013054960A1 헬리콘 플라즈마 장치 审中-公开
标题翻译： HELICON等离子体设备
公开(公告)号：WO2013054960A1
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：PCT/KR2011/007647
申请日：2011-10-14
申请人： 한국과학기술원 , 장홍영 , 안상혁
发明人： 장홍영 , 안상혁
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/18
CPC分类号： H01J37/32128
摘要： 본 발명은 헬리콘 플라즈마 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 챔버에 장착된 복수의 유전체 튜브들, 각각의 유전체 튜브들의 둘레에 배치된 안테나들, 안테나들과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들, 영구 자석들의 일부 또는 전부를 고정하고 고정된 영구 자석들이 배치되는 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부, 및 안테나들에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함한다. 이동부를 이용하여 상기 안테나와 상기 영구 자석 사이의 수직 거리는 조절된다.
摘要翻译：本发明涉及一种螺旋等离子体装置。螺旋等离子体装置包括：安装在真空室上的多个电介质管; 设置在每个电介质管周围的天线; 具有环形形状且与天线垂直间隔开的永磁体; 固定一部分或全部永磁体以使垂直移动固定永久磁铁的平面的移动部分; 以及用于向天线供电的RF电源。可以使用移动部件来调整天线和永磁体之间的垂直距离。

4. 发明申请

WO2012077843A1 플라즈마 발생 장치 审中-公开
标题翻译：等离子发生器
公开(公告)号：WO2012077843A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/KR2010/008798
申请日：2010-12-09
申请人： 한국과학기술원 , 장홍영 , 서상훈 , 인정환 , 이헌수 , 이윤성 , 주성엔지니어링(주)
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 인정환 , 이헌수 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/34
CPC分类号： C23C16/44 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32577 , H05H2001/2412
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기, 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 진공 용기의 내부에 배치되고 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들, 및 진공 용기의 내부에 배치되고 전원 전극과 접지 전극 사이에 개재된 전극 유전체들을 포함하고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다.
摘要翻译：等离子体发生器技术领域本发明涉及一种等离子体发生器，其包括：真空容器; 在真空容器内彼此平行延伸的多个接地电极; 多个电源电极，设置在接地电极之间和真空容器内; 以及设置在电源电极和接地电极之间以及真空容器内的多个电极电介质。电源电极连接到RF电源。

5. 发明申请

WO2013055056A1 플라즈마 장치 및 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：等离子体装置和基板处理装置
公开(公告)号：WO2013055056A1
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：PCT/KR2012/007977
申请日：2012-10-02
申请人： 한국과학기술원 , 주식회사 윈텔 , 장홍영 , 이진원
发明人： 장홍영 , 이진원
IPC分类号： H05H1/36
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/32165 , H01J2237/327 , H05H1/46 , H05H2001/4667
摘要： 본 발명의 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들, 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들, 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 그룹의 안테나와 제1 RF 전원 사이에 배치되어 제1 RF 전원의 전력을 제1 그룹의 안테나에 전력을 분배하는 제1 전력 분배부를 포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种等离子体产生装置和基板处理装置。等离子体发生装置包括：分别安装在形成在真空室中的多个通孔中的多个电介质管; 天线，其分别基于其在真空室中的对称布置分成第一组和第二组，并分别安装在电介质外管上; 用于向第一组天线供电的第一RF电源; 用于向第二组天线供电的第二RF电源; 以及第一配电单元，设置在所述第一组天线和所述第一RF电源之间，用于将功率从所述第一RF电源分配到所述第一组天线。

6. 发明申请

WO2020262882A1 탄성력 조절이 용이한 완충장치 및 이를 이용한 신발 审中-公开
公开(公告)号：WO2020262882A1
公开(公告)日：2020-12-30
申请号：PCT/KR2020/007877
申请日：2020-06-18
申请人： 장홍영
发明人： 장홍영
IPC分类号： A43B7/32 , A43B13/18 , A43B21/32 , F16F15/06 , F16F1/14
摘要： 본 발명은 신발 외측에 돌출된 조절 손잡이를 이용하여 각각의 탄성 부재의 탄성력을 조절하여 사용자가 원하는 완충효과를 얻어 무릎을 보호할 수 있으며, 종래의 탄성 부재가 구비된 신발인 경우 탄성력을 조절하기 어려워 별도로 재구매를 해야됨에 따라 경제적 손실을 최소화 할 수 있는 효과가 있다. 또한, 일반적인 운동화나 신발이 아닌 군화에 적용하여 장거리 행군에도 유용한 효과가를 거둘 수 있다.

7. 发明申请

WO2012157844A1 플라즈마 발생 장치 审中-公开
标题翻译：等离子体生成装置
公开(公告)号：WO2012157844A1
公开(公告)日：2012-11-22
申请号：PCT/KR2012/002179
申请日：2012-03-26
申请人： 한국과학기술원 , 장홍영 , 안상혁 , 이진원
发明人： 장홍영 , 안상혁 , 이진원
IPC分类号： H05H1/46 , H03H7/40
CPC分类号： H05H1/24 , H01J37/321 , H01J37/32174 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2001/4682
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기, 진공 용기를 형성된 관통홀에 연결된 복수의 유전체들， 유전체들 각각의 주위에 배치되고 전기적으로 병렬 연결된 동일한 구조의 복수의 RF 코일들， RF 코일들에 전력을 공급하는 RF 전원， RF 전원과 RF 코일들 사이에 배치된 임피던스 매칭 회로， 및 임피던스 매칭 회로와 RF 코일들의 일단 사이에 배치되어 RF 전원의 전력을 RF 코일들에 분배하는 전력 분배부를 포함한 다. 전력 분배부는 전원 분배라인; 및 전원 분배라인을 감싸고 있는 도전성 외피를 포함한다. 전력 분배부의 입력단과 상기 RF 코일들 사이의 거리가 동일하고， RF 코일들의 타단은 도전성 외피에 연결되어 접지된다.
摘要翻译：本发明提供一种等离子体产生装置。所述等离子体产生装置包括：真空容器; 多个电介质，其连接到形成在真空容器中的通孔; 多个具有相同结构的RF线圈，其设置在每个电介质附近并且并联电连接; RF电源，其向RF线圈供电; 阻抗匹配电路，设置在RF电源和RF线圈之间; 以及布置在所述阻抗匹配电路和所述RF线圈的一端之间的配电单元，并且将所述RF电源的功率分配给所述RF线圈。配电单元包括配电线和封闭配电线的导电外盖。配电单元的输入端与RF线圈之间的距离相同，RF线圈的另一端与导电外罩连接，使另一端接地。

8. 发明申请

WO2013109025A1 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：等离子体发生装置和基板处理装置
公开(公告)号：WO2013109025A1
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：PCT/KR2013/000274
申请日：2013-01-14
申请人： 한국과학기술원 , 장홍영 , 서상훈 , 박기정
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 박기정
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32541 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H01J37/32165 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 형성하도록 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 제1 전극의 둘레에 배치되고 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받는 와셔 형태의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 및 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원을 포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种等离子体发生装置和基板处理装置。等离子体产生装置包括：盘型第一电极，用于接收第一频率的第一RF功率以形成等离子体; 设置在所述第一电极的圆周周围并接收第二频率的第二RF功率的垫圈型第二电极; 插入在第一电极和第二电极之间的绝缘间隔件; 用于向第一电极供电的第一RF电源; 以及用于向第二电极供电的第二RF电源。

9. 发明申请

WO2012134199A2 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：等离子体生成装置和基板处理装置
公开(公告)号：WO2012134199A2
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002337
申请日：2012-03-29
申请人： 주성엔지니어링(주) , 한국과학기술원 , 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 이윤성
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32568 , H01J37/32541
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 및 상기 접지 전극들 사이에 배치된 전원 전극들을 포함한다. 접지 전극과 전원 전극 사이의 간격이 일정한 영역을 포함하고, 전원 전극은 기판을 마주보는 방향으로 테이퍼지고, 상기 전원 전극들은 RF 전원에 연결되고, 기판을 마주보는 방향으로 상기 전원전극의 높이는 상기 접지 전극의 높이보다 크다.
摘要翻译：本发明涉及等离子体发生装置和基板处理装置。等离子体发生装置包括：布置在真空容器内且彼此平行延伸的多个接地电极; 和布置在接地电极之间的电力电极。每个接地电极和电源电极之间的空间包含预定区域，并且功率电极在与衬底相反的方向上是锥形的。电源电极连接到RF电源，并且每个电源电极的高度高于接地电极在与衬底相反的方向上的高度。

10. 发明申请

WO2010062008A1 측정 패턴 구조체, 공정 패턴 구조체, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법 审中-公开
标题翻译：测量图案结构，加工图案结构，基板处理设备和基板处理方法
公开(公告)号：WO2010062008A1
公开(公告)日：2010-06-03
申请号：PCT/KR2009/000858
申请日：2009-02-24
申请人： 한국과학기술원 , 장홍영 , 이헌수
发明人： 장홍영 , 이헌수
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/70 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： 본 발명은 측정 패턴 구조체, 공정 패턴 구조체, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 하나 이상의 단위 측정 패턴을 포함하는 측정 패턴 구조체를 제공하는 단계, 처리 용기에서 측정 패턴 구조체 상에 배치된 제1 기판을 처리하는 단계, 단위 측정 패턴의 위치에 따른 제1 기판의 균일 처리 영역을 선택하는 단계, 균일 처리 영역에 대응하는 측정 패턴 구조체의 구조를 공정 패턴 구조체에 전사(transfer)하는 단계, 및 단위 공정 패턴을 포함하는 공정 패턴 구조체를 이용하여 처리 용기에서 제2 기판을 처리하는 단계를 포함할 수 있다.
摘要翻译：本发明提供了测量图案结构，处理图案结构，基板处理装置和基板处理方法。该方法包括：提供包括至少一个单位测量图案的测量图案结构的步骤; 在处理容器中处理第一衬底的步骤，其中第一衬底布置在测量图案结构上; 根据单位测量图案的位置选择第一基板的均匀处理区域的步骤; 将测量图案结构的构图转印到其中测量图案结构对应于均匀处理区域的处理图案结构的步骤; 以及使用包括单位处理图案的处理图案结构来处理处理容器中的第二基板的步骤。

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