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    • 4. 发明授权
    • 고투과 수평 전계형 액정표시장치 및 그 제조 방법
    • 高度透明的水平电场型液晶显示装置及其制造方法
    • KR101848496B1
    • 2018-04-12
    • KR1020100099268
    • 2010-10-12
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 홍기상김정오김강일방정호
    • G02F1/1343
    • 본발명은광 투과율이높은수평전계형액정표시장치및 그제조방법에관한것이다. 본발명에의한고투과수평전계형액정표시장치제조방법은, 기판위에투명도전층과게이트금속층을증착하고, 제1 마스크공정으로게이트요소및 장방형공통전극을형성하는단계; 상기게이트요소와상기공통전극이형성된상기기판위에게이트절연막, 반도체층, 불순물반도체층그리고소스-드레인금속층을연속으로증착하고, 제2 마스크공정으로박막트랜지스터를형성하는단계; 상기박막트랜지스터가형성된상기기판위에보호막을증착하고, 상기보호막과상기게이트절연막을제3 마스크공정으로상기장방형의공통전극을다수개의선분들이서로평행하게배열된빗살패턴공통전극으로형성하는단계; 상기빗살패턴공통전극이형성된기판전면에투명전극물질을증착하고, 리프트-오프공정으로상기빗살패턴공통전극의사이사이에화소전극을형성하는단계를포함한다. 본발명은고 투과율을갖는수평전계액정표시장치를간단한제조공정과저렴한비용으로제조할수 있다.
    • 本发明涉及具有高透光率的水平电场型液晶显示装置及其制造方法。 ,移动到传输水平jeongyehyeong方法用于制造本发明的液晶显示装置包括沉积透明导电层和在衬底上的栅极金属层,形成第一栅极元件和由所述第一掩模工艺的矩形公共电极的工序; 形成沉积在连续的漏极金属层,所述薄膜晶体管是第二掩模工艺,在所述栅极元件和所述衬底栅极上的公共电极的绝缘膜被形成,该半导体层,所述杂质半导体层与所述源极; 在衬底上沉积一个钝化层的薄膜晶体管被形成,并形成在所述保护膜和栅极绝缘第二多个段的膜平行布置成彼此,矩形的第三掩模工艺梳图案公共电极的公共电极; 在形成有梳齿形公共电极的基板的整个表面上沉积透明电极材料,并且在剥离过程中在梳形图案公共电极之间形成像素电极。 本发明能够以简单的制造工艺和低成本制造具有高透射率的水平电场液晶显示装置。
    • 6. 发明公开
    • 수평 전계형 액정 표시장치 및 그 제조방법
    • 水平电场型液晶显示装置及其制造方法
    • KR1020170081070A
    • 2017-07-11
    • KR1020150191799
    • 2015-12-31
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 김원두김가경김강일한예슬
    • G02F1/1343G02F1/1368G02F1/1362
    • 본발명은박막트랜지스터의채널길이를줄이면서도배선의저항을줄일수 있는수평전계형액정표시장치및 그제조방법에관한것으로, 서로교차하도록배치되는게이트라인들및 데이터라인들, 박막트랜지스터들, 화소전극들및 공통전극들을포함한다. 박막트랜지스터들은상기게이트라인들및 상기데이터라인들의교차부에인접하여배치된다. 화소전극들은상기박막트랜지스터를통해상기데이터라인에연결되고, 상기게이트라인들및 상기데이터라인들에의해정의되는화소영역들에각각배치된다. 공통전극은상기화소전극들과수평전계를형성하도록배치된다. 데이터라인들의각각은진성반도체영역을사이에두고배치된제 1 불순물반도체영역및 제 2 불순물반도체영역을포함하는반도체층의제 1 불순물반도체영역, 제 1-1 금속층, 및제 2 금속층으로이루어진다. 박막트랜지스터의소스전극은상기반도체층의제 1 불순물반도체영역, 및상기제 1 금속층으로이루어진다. 박막트랜지스터의드레인전극은상기반도체층의제 2 불순물반도체영역, 및상기제 1-1 금속층으로부터이격된제 1-2 금속층으로이루어진다.
    • 本发明涉及一种水平jeongyehyeong液晶显示装置及其制造以降低布线电阻,同时降低了TFT的方法的信道长度,栅极线和数据线,薄膜晶体管被布置为彼此交叉,像素电极 和普通电极。 薄膜晶体管设置在栅极线和数据线的交叉点附近。 像素电极通过薄膜晶体管连接到数据线,并且分别布置在由栅极线和数据线限定的像素区域中。 公共电极被布置为与像素电极形成水平电场。 所述数据线中的每一个的第一杂质半导体区域形成,所述第一 - 第一金属层,含有位于本征半导体区的第一杂质半导体区和所述第二杂质半导体区域之间的地方的半导体层的mitje第二金属层。 薄膜晶体管的源电极由半导体层的第一杂质半导体区域和第一金属层构成。 薄膜晶体管的漏电极由半导体层的第二杂质半导体区域和与第一金属层隔开的第一 - 第二金属层构成。
    • 10. 发明公开
    • 초고휘도 백 라이트 유닛을 사용하는 평판 표시장치용 박막 트랜지스터 기판
    • 具有超高亮度背光灯的平板显示器的薄膜晶体管基板
    • KR1020140055495A
    • 2014-05-09
    • KR1020120122472
    • 2012-10-31
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 김강일이정일정의현이철환
    • G02F1/1368H01L29/786
    • H01L27/1218H01L27/124H01L29/78603
    • The present invention relates to a thin film transistor substrate for a flat panel display using an ultra-high brightness backlight unit. The thin film transistor substrate for the flat panel display using the ultra-high brightness unit according to the present invention includes: a substrate; a gate wire and a data wire which are orthogonal to each other by interposing a gate insulation layer on the substrate; a recess part which is formed under the gate wire in an intersection between the gate wire and the data wire; and a thin film transistor which is formed in the inner space of the recess part and is connected to the gate wire and the data wire. The present invention provides the thin film transistor which has high productivity and maintains high properties in an ultra-high brightness environment like HUD with low costs.
    • 本发明涉及一种使用超高亮度背光单元的平板显示器用薄膜晶体管基板。 根据本发明的使用超高亮度单元的平板显示器用薄膜晶体管基板包括:基板; 通过在基板上插入栅极绝缘层而彼此正交的栅极线和数据线; 形成在栅极线下方的栅极线与数据线之间的交叉点的凹部; 以及薄膜晶体管,其形成在所述凹部的内部空间中并连接到所述栅极线和所述数据线。 本发明提供了具有高生产率的薄膜晶体管,并且在诸如HUD的超高亮度环境中保持高性能,成本低。