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1. 发明申请

WO2010131878A2 기판 처리 시스템 审中-公开
标题翻译：基板加工系统
公开(公告)号：WO2010131878A2
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：PCT/KR2010/002952
申请日：2010-05-10
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사 , 배경빈 , 윤형석 , 강창호 , 한경록 , 남궁성태 , 이태성
发明人： 배경빈 , 윤형석 , 강창호 , 한경록 , 남궁성태 , 이태성
IPC分类号： H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： H05B33/10 , B05B12/20 , B05D1/02 , B05D3/067
摘要： 본 발명은 기판 처리 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유기 화합물을 기판에 코팅하는 과정에서 유기 화합물의 확산에 의한 챔버 내부의 오염을 방지하는 오염방지 수단이 구비된 기판 처리 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판 처리 시스템은 챔버의 내부에서 기판에 유기물을 분사하되 상기 기판과 이격되어 냉각제가 순환되는 냉각통로가 내부에 형성된 냉각 플레이트를 구비하여 상기 기판에서 코팅되지 못하고 탈락된 상기 유기물의 확산을 방지하는 분사부와, 상기 챔버의 외측 하부에서 냉각트랩이 설치되며, 연장되는 길이방향과 교차하는 방향으로 분기 또는 굴곡된 부분이 형성된 펌프연결관을 통해 상기 분사부와 연결되는 펌프를 포함하는 코팅 모듈과, 상기 유기물이 코팅된 기판에 자외선 램프를 통해 자외선을 조사하되, 상기 기판과 상기 자외선 램프 사이에 구비되는 투과창을 가열하는 가열코일을 구비한 경화 모듈을 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理系统，更具体地说，涉及一种基板处理系统，该基板处理系统包括防污装置，该防污装置用于在用所述有机化合物涂覆基板的过程中防止室内部被有机化合物扩散而被污染。根据本发明的基板处理系统包括涂覆模块和硬化模块。涂层模块包括喷雾单元和泵。喷雾单元将有机化合物喷射在室中的基材上，并且具有与基板间隔开的冷却板，并且其中形成有用于循环冷却剂的冷却路径，以防止滴落的有机化合物的扩散未涂覆在基材上。泵具有布置在室外部下部的冷却捕集器，所述泵通过泵连接管连接到喷射单元，该泵连接管具有在与泵连接管纵向延伸的方向相交的方向上形成的分支或弯曲部分。硬化模块通过紫外线灯将紫外线照射到涂有有机化合物的基材上，并具有用于加热插入在基板和紫外线灯之间的透射窗的加热线圈。

2. 发明公开

KR1020100121975A 기판 처리 시스템 有权
标题翻译：基板加工系统
公开(公告)号：KR1020100121975A
公开(公告)日：2010-11-19
申请号：KR1020090040940
申请日：2009-05-11
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 배경빈 , 윤형석 , 강창호 , 한경록 , 남궁성태 , 이태성
IPC分类号： H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： H05B33/10 , B05B12/20 , B05D1/02 , B05D3/067
摘要： PURPOSE: A substrate processing system having a pollution prevention unit is provided to evenly harden the front side of a substrate by installing a heating coil along the edge of a transmission window. CONSTITUTION: A chamber(1100) includes a process space. A inject unit(3000) sprays organic compound on a substrate from the chamber. The injection unit includes a cooling plate preventing the diffusion of the organic compound which is not used for coating the substrate. A first supply unit(2200) supplies organic compound to the injection unit.
摘要翻译：目的：提供具有污染防止单元的基板处理系统，通过沿着透光窗的边缘设置加热线圈来均匀地硬化基板的前侧。构成：室（1100）包括处理空间。注射单元（3000）从腔室喷射基底上的有机化合物。注射单元包括防止未用于涂覆基底的有机化合物的扩散的冷却板。第一供应单元（2200）向注射单元供应有机化合物。

3. 发明授权

KR101069842B1 기판 처리 시스템 有权
标题翻译：基板加工系统
公开(公告)号：KR101069842B1
公开(公告)日：2011-10-04
申请号：KR1020090040940
申请日：2009-05-11
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 배경빈 , 윤형석 , 강창호 , 한경록 , 남궁성태 , 이태성
IPC分类号： H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： H05B33/10 , B05B12/20 , B05D1/02 , B05D3/067
摘要： 본발명에따른기판처리시스템은챔버의내부에서기판에유기물을분사하되상기기판과이격되어냉각제가순환되는냉각통로가내부에형성된냉각플레이트를구비하여상기기판에서코팅되지못하고탈락된상기유기물의확산을방지하는분사부와, 상기챔버의외측하부에서냉각트랩이설치되며, 연장되는길이방향과교차하는방향으로분기또는굴곡된부분이형성된펌프연결관을통해상기분사부와연결되는펌프를포함하는코팅모듈과, 상기유기물이코팅된기판에자외선램프를통해자외선을조사하되, 상기기판과상기자외선램프사이에구비되는투과창을가열하는가열코일을구비한경화모듈을포함한다.

4. 发明授权

KR100926437B1 증착 물질 공급 장치 및 이를 구비한 기판 처리 장치 有权
标题翻译：沉积物料供应装置及其处理基材的设备
公开(公告)号：KR100926437B1
公开(公告)日：2009-11-13
申请号：KR1020080113866
申请日：2008-11-17
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 윤형석 , 최상화 , 손성관 , 강창호 , 권현구 , 남궁성태 , 한경록
IPC分类号： C23C14/24 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/544
摘要： PURPOSE: A deposition material feeding device and a substrate processing device having the same are provided to supply organic material of desired amount to a substrate, and to preserve organic materials without deterioration. CONSTITUTION: A substrate processing device having a deposition material feeding device includes a loading part(1000), an unloading part(5000), a plurality of substrate processing parts(3000a~3000c). The loading part loads a substrate(10) to be processed. The unloading part is separated from the loading part, and unloads the substrate of which process is completed. A plurality of substrate processing parts are arranged between the loading part and the unloading part. A processing preparation part(2000) is arranged on an end of the substrate processing parts.
摘要翻译：目的：提供一种沉积材料供给装置和具有该沉积材料供给装置的基板处理装置，以向基板供给所需量的有机材料，并且保持有机材料而不劣化。构成：具有沉积材料供给装置的基板处理装置包括装载部（1000），卸载部（5000），多个基板处理部（3000a〜3000c）。装载部件加载待加工的基板（10）。卸载部分与装载部分分离，卸载完成该过程的基板。在装载部和卸载部之间配置有多个基板处理部。在基板处理部的端部配置有加工准备部（2000）。

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