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1. 发明授权

KR100360120B1 기판세정장치 失效
标题翻译：基材清洁装置
公开(公告)号：KR100360120B1
公开(公告)日：2002-11-07
申请号：KR1020010078556
申请日：2001-12-12
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 장치의점유스패이스를감소할수 있고, 제조라인등에이용하여합리적인기판세정장치를구성하는것에관련된것으로써, 각각의선단에서피세정기판 W를하방측으로부터지지하는복수의지지체 14a와, 상기피세정기판 W의저면을따라서이동함과동시에상기피세정기판 W의저면에대하여세정액을공급하는세정용노즐을갖고, 그세정용노즐의이동방향전방의상기지지체 14a를이동하는세정용노즐과간섭하지않도록그 세정용노즐의이동과연동하여승강이동시키는지지체의승강구동장치를갖도록기판세정장치가구성된다.
摘要翻译：的被清洗物衬底，而且可以减少占据装置的空间，这将在有关什么构成使用这样的生产线中的合理基板清洗装置中，多个用于支撑所述物体支撑至W中的每个从下侧14a上的前端和待清洁底物，因此，移动所述W的，并在同一时间下表面不与所述清洗喷嘴干扰并且其具有用于供给对所述物体的下表面上的清洗液的清洗喷嘴待清洁衬底W，在移动方向前方的清洗喷嘴移动支撑本体14a 喷嘴的互锁yidonggwa由构造成具有所述支撑装置，使得的入口的基板清洗设备的提升运动洗涤。

2. 发明授权

KR100344775B1 기판세정장치 失效
标题翻译：清洁器具
公开(公告)号：KR100344775B1
公开(公告)日：2002-07-19
申请号：KR1019990041506
申请日：1999-09-28
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 장치의점유스패이스를감소할수 있고, 제조라인등에이용하여합리적인기판세정장치를구성하는것에관련된것으로써, 각각의선단에서피세정기판 W를하방측으로부터지지하는복수의지지체 14a와, 상기피세정기판 W의저면을따라서이동함과동시에상기피세정기판 W의저면에대하여세정액을공급하는세정용노즐을갖고, 그세정용노즐의이동방향전방의상기지지체 14a를이동하는세정용노즐과간섭하지않도록그 세정용노즐의이동과연동하여승강이동시키는지지체의승강구동장치를갖도록기판세정장치가구성된다.

3. 发明公开

KR1020000028720A 기판세정장치 失效
标题翻译：清洁基材的装置
公开(公告)号：KR1020000028720A
公开(公告)日：2000-05-25
申请号：KR1019990041506
申请日：1999-09-28
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A cleansing apparatus for a substrate is provided to prevent occurrence of spots and stains, to obtain uniform cleansing effect all over the substrate, to perform cleansing in one apparatus and to be used for an assembly line. CONSTITUTION: A cleansing apparatus(1) is used by setting a substrate(W) before cleansing on a loader cassette(9) and operating a start switch by an operator. Then, the substrate is delivered on a substrate supporting part(3) from the loader cassette by a substrate delivery robot(8), and then supported on each front ends of multiple supporting pins protruded from a pin insertion hole(13c) and a pin insertion hole connection part of a first substrate holder. Multiple supporting pins(14a) in front of the moving direction of cleansing nozzles descends at every row all the time when the cleansing nozzles approach when moving the nozzles for cleansing(4,5,6,7) along the bottom of the substrate from one end of a rack base(16). But the substrate is supported on each front end of the supporting pins. The substrate is supported repeatedly on the front ends according to the ascending of the supporting pin at every row when each cleansing nozzle passes. Accordingly, the four cleansing nozzles don't interrupt the supporting pin, and passing sequentially between the substrate and a first substrate holder(13) while cleansing the bottom of the substrate. And the bottom of the substrate is cleansed by an ultra violet ray cleansing, a hydrogen water cleansing, an ozone water cleansing and a rinsing cleansing by the cleansing nozzles.
摘要翻译：目的：提供一种用于基材的清洁装置，以防止斑点和污点的发生，从而在整个基材上获得均匀的清洁效果，在一个装置中进行清洁并用于装配线。构成：通过在装载机盒（9）上清洁之前将基板（W）设置并由操作者操作启动开关来使用清洁装置（1）。然后，通过基板输送机器人（8）将基板从装载器盒输送到基板支撑部（3）上，然后支撑在从销插入孔（13c）突出的多个支撑销的前端上，并且销第一基板支架的插入孔连接部。清洁喷嘴的移动方向前面的多个支撑销（14a）在清洁喷嘴接近时在每一行下降，当沿着衬底的底部移动用于清洁的喷嘴（4,5,6,7）时（16）的端部。但是基板支撑在支撑销的每个前端上。根据每个清洁喷嘴通过的每一行的支撑销的上升，基板在前端反复支撑。因此，四个清洁喷嘴不会中断支撑销，并且在清洁基板的底部之间顺序地在基板和第一基板保持件（13）之间通过。通过紫外线清洗，氢水清洗，臭氧水清洗和清洁喷嘴进行的漂洗清洁来清洁底物的底部。

4. 发明公开

KR1020020003850A 기판세정장치 失效
标题翻译：基板清洁装置
公开(公告)号：KR1020020003850A
公开(公告)日：2002-01-15
申请号：KR1020010078556
申请日：2001-12-12
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A substrate cleaning apparatus is provided to reduce the space occupied by the apparatus and to be applicable to a production line and others. CONSTITUTION: A cleaning apparatus has supports(14a) for supporting a substrate(W) to be cleaned from the lower side by each tip, a cleaning nozzle which moves along the bottom surface of the substrate(W) and supplies a cleaning liquid to the bottom surface, and an apparatus which drives the supports(14a) vertically and is interlocked with the movement of the cleaning nozzle to prevent the interference between the supports(14a) in front of the moving direction of the nozzle and the moving nozzle.
摘要翻译：目的：提供一种基板清洁装置，以减少设备占用的空间，并适用于生产线等。构成：清洁装置具有用于通过每个尖端从下侧支撑待清洁的基板（W）的支撑件（14a），沿着基板（W）的底表面移动的清洁喷嘴，并将清洁液体供应到底部表面，以及垂直驱动支撑件（14a）并与清洁喷嘴的运动互锁的装置，以防止喷嘴移动方向前方的支撑件（14a）与移动喷嘴之间的干涉。

5. 发明授权

KR100224929B1 습식처리방법및처리장치 失效
标题翻译：湿处理方法及其设备
公开(公告)号：KR100224929B1
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019960028014
申请日：1996-07-11
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명의 목적은 피처리물을 세정할 때에, 필요최소한의 약품사용량으로 또 필요 최소한의 공정으로, 또한 종래보다 높은 세정도로 습식처리할 수 있는 습식처리방법 및 처리장치를 제공하는데 있는 것으로, 특히 Ce 제거능력이 우수하다.
피처리물을, 소정의 전기분해장치에 순수 또는 초순수를 도입하여 전해시켜 얻은 양극수 또는 음극수를 사용하여 습식처리하는 방법으로, 습식처리를, 상기 양극수또는 음극수에 소정의 전해질을 첨가한 후에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하면서 행하는 것을 특징으로 한다.

6. 发明公开

KR1020000076902A 열교환용수 및 그 공급장치 失效
标题翻译：换热水及其供水装置
公开(公告)号：KR1020000076902A
公开(公告)日：2000-12-26
申请号：KR1020000013716
申请日：2000-03-17
申请人： 오르가노 코포레이션 , 오미 다다히로 , 노무라 마이크로 싸이언스 가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 쿠마가이구미 , 히따찌 프란토 겐세쓰 가부시끼가이샤 , 다이세이 겐세쓰 가부시키가이샤 , 쿠리타 고교 가부시키가이샤 , 다카사고네츠가쿠고교가부시키가이샤
发明人： 이마오카타카시 , 모리타히로시 , 스기야마이사무 , 오오미다다히로 , 히라야마마사키
IPC分类号： F22D11/00
CPC分类号： C02F1/70 , C02F5/00 , F28D2021/0019 , F28F19/00
摘要： 기계설비, 공기, 액체등의피열교환체와열교환을행하는열교환용수에있어서, 공급/순환배관또는열교환기액체접촉부의금속재료의산화열화를방지하고, 조류나미생물의증식을억제하며, 환경에우수한열교환용수를제공한다. 이열교환용수는표준산화환원전위가표준수소전극을기준전극으로하여제로또는부의환원성물이다.

7. 发明公开

KR1019970008390A 습식처리방법및처리장치 失效
标题翻译：湿法处理方法和处理装置
公开(公告)号：KR1019970008390A
公开(公告)日：1997-02-24
申请号：KR1019960028014
申请日：1996-07-11
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명의 목적은 피처리물을 세정할 때에, 필요 최소한의 약품사용량으로 또 필요 최소한의 공정으로, 또한 종래보다 높은 세정도로 습식처리할 수 있는 습식처리방법 및 처리장치를 제공하는데 있는 것으로, 특히 Ce제거능력이 우수하다.
피처리물을, 소정의 전기분해장치에 순수 또는 초순수를 도입하여 전해시켜 얻은 양극수 또는 음극수를 사용하여 습식처리하는 방법으로, 습식처리는 상기 양극수 또는 음극수에 소정의 전해질을 첨가한 후에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하면서 행하는 것을 특징으로 한다.

8. 发明公开

KR1019950004446A 전자소자 및 그 제조방법 失效
标题翻译：电子装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1019950004446A
公开(公告)日：1995-02-18
申请号：KR1019940016727
申请日：1994-07-12
申请人： 가부시키가이샤후론텍크 , 오미 다다히로
发明人： 오오미다다히로 , 후쿠다고우이치 , 오오바도모후미 , 미야자키마사노리 , 후쿠이히로후미 , 이와사키치사토 , 가사마야스히코 , 구보다마사루 , 기타가와히토시 , 나카노아키라 , 요시다오사무
IPC分类号： H01L21/31
摘要： 본 발명은, 단층에서도 탁월한 절연내압을 가지는 질화규소절연막을 이용한 TFT에 대표되는 전자소자 및 이것을 확실하게 제조하는 제조방법을 제공하는 것으로, 절연성 기체의 표면에 도전성의 배선패턴이 형성되어 있고, 그 위를 덮어서 절연층이 형성되어 있는 전자소자에서 절연층은 질화규소절연막으로 되며, 배선패턴 의 기체와의 접촉각도(θ)는 60°≤θ이고, 질화규소절연막의 막두께(Tn
1 )와 상기 배선패턴의 막두께(Tg)와의 비(Tn
1 /Tg)는 2≤Tn
1 /Tg이며, 질화규소절연막이 배선패턴의 단차부 때문에 솟아올라있는 솟아오름 개시위치와 배선패턴의 상단부와의 수평거리(Tn
2 )는 0.6≤Tn
2 /Tn
1 의 관계인 것을 특징으로 한다.

9. 发明公开

KR1020010022203A 압력식 유량제어장치를 구비한 가스공급설비 有权
标题翻译：气体供应设施与压力式流量控制装置
公开(公告)号：KR1020010022203A
公开(公告)日：2001-03-15
申请号：KR1020007000775
申请日：1999-05-27
申请人： 가부시키가이샤 후지킨 , 오미 다다히로 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 카가쯔메사토시 , 이케다노부카즈 , 니시노코오지 , 요시카와카즈히로 , 이데타에이지 , 도히료수케 , 우노토미오 , 야마지미치오 , 오오미다다히로
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要： 반도체제조장치등에서사용하는압력식유량제어장치를구비한가스공급설비를보다소형화해서제조비용의절감을도모하는동시에, 과도유량특성을개선해서가스공급개시시의가스의오버슈트현상의발생을방지하고, 유량제어정밀도나설비의신뢰성을높임으로써, 반도체제품의품질불량을적게하는동시에반도체제품의제조능률을높이도록한 것이다. 구체적으로는, 오리피스의상류측압력을오리피스의하류측압력의약 2배이상으로유지한상태에서가스의유량제어를행하면서오리피스대응밸브를통해프로세스로가스를공급하도록한 압력식유량제어장치를구비한가스공급설비에있어서, 가스공급원으로부터가스를수용하는제어밸브와, 제어밸브의하류측에설치한오리피스대응밸브와, 상기제어밸브와오리피스대응밸브와의사이에설치한압력검출기와, 오리피스대응밸브의밸브기구부의하류측에설치한오리피스와, 상기압력검출기의검출압력(P1)에서유량을 P에서유량을 Qc=KP(단 K는정수)로서연산하는동시에, 유량지령신호 Qs와유량연산신호 Qc와의차를제어신호 Qy로서제어밸브의구동부로출력하는연산제어장치로가스공급설비를구성한것이다.

10. 发明公开

KR1019970026926A 이온수 제조장치 및 이온수 제조방법, 전해이온수 제조시스템 및 전해이온수 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019970026926A
公开(公告)日：1997-06-24
申请号：KR1019960058842
申请日：1996-11-28
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로 , 오르가노 코포레이션
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 가사마야스히꼬 , 야마나까고오지 , 이마오까다까시 , 오오미다다히로
IPC分类号： C02F1/46 , C25B1/06
摘要： 본 발명은 저농도의 전해질을 함유하는 이온수를 재현성 좋게 제조할 수 있는 이온수 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 안정된 전해이온수를 얻을 수 있는 전해이온수 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
원수와 기체를 혼합하는 기액혼합수단과, 상기 기액혼합수단에 의해 얻어지는 기액혼합액에 초음파를 인가하여 이온을 생성시키는 초음파 가진수단을 적어도 가지는 것을 특징으로 한다.
또, 원수와 물에 용해되고 이온을 생성한느 기체를 혼합하는 기액혼합수단을 가지는 것을 특징으로 하고, 또 상기 기액혼합수단은 기체만을 투과시키는 기체투과막을 개재하여 상기 기체와 상기 원수를 분리하고, 상기 기체를 원수측으로 투과시켜 상기 원수에 혼합시키는 것을 특징으로 한다.

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