专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR100602905B1 접착성 표면 피복물의 제조방법 有权
标题翻译：生产粘合剂表面涂层的方法
公开(公告)号：KR100602905B1
公开(公告)日：2006-07-24
申请号：KR1020017005352
申请日：1999-10-20
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 바우어미카엘 , 쾰러만프레트 , 쿤츠마르틴 , 미제프류보미르
IPC分类号： B05D3/14
摘要： 본 발명은 제1 단계로서, 무기 또는 유기 기판을 저온 플라즈마 방전, 코로나 방전, 고에너지 자외선 또는 전자 방사선에 적용시킨 다음, 방사선 또는 방전을 차단시키는 단계(a),
추가 단계로서, 하나 이상의 에틸렌계 불포화 그룹을 함유하는 하나 이상의 광개시제를 진공하 또는 표준압에서 무기 또는 유기 기판 위에 도포한 다음, 이로부터 발생하는 라디칼 부위와 반응시는 단계(b) 및
광개시제로 예비 피복된 기판을 하나 이상의 에틸렌계 불포화 단량체 또는 올리고머를 함유하는 조성물로 피복시킨 다음, 피복물을 UV/VIS 방사선으로 경화시키는 단계(c1) 또는
금속, 반금속 산화물 또는 금속 산화물을 자외선의 존재하에 기체상으로부터 광개시제로 예비 피복된 기판 위에 침착시키는 단계(c2)를 포함하여, 무기 또는 유기 기판 위에 접착성 피복물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 층을 제조하는 하나 이상의 에틸렌계 불포화 그룹을 갖는 광개시제의 용도 및 이와 같은 접착성 피복물에 관한 것이다.
광개시제, 접착성 피복물, 무기 또는 유기 기판, 침착, 에틸렌계 불포화 그룹

2. 发明公开

KR1020060014423A 강한 접착성 표면 피막 无效
标题翻译：强力表面涂料
公开(公告)号：KR1020060014423A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：KR1020057022415
申请日：2004-05-14
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 볼프장-피에르 , 쿤츠마르틴
IPC分类号： B05D3/08 , B05D3/14 , C07F9/50 , C07F9/53
CPC分类号： B05D3/06 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D3/08 , B05D3/142 , C07F9/5045 , C08F283/00 , C08F290/06 , C08F290/14 , Y10T428/12569
摘要： In a process for the production of a strongly adherent coating on an inorganic or organic substrate, wherein a), a low-temperature plasma treatment, a corona discharge treatment or a flame treatment is carried out on the inorganic or organic substrate, b) one or more photoinitiators or mixtures of photoinitiators with monomers or/and oligomers, containing at least one ethylenically unsaturated group, or solutions, suspensions or emulsions of the afore-mentioned substances, are applied to the inorganic or organic substrate, and optionally, c) using suitable methods those afore-mentioned substances are dried and/or are irradiated with electromagnetic waves, it proves advantageous to use compounds of formula (I), (II), (III) and/or (IV), IN-L-RG (I), IN-L-RG1-L1- H (II), IN-L-RG1-L1-IN1 (III), IN-L-RG 1-L1-RG2-L2-IN1 (IV), wherein IN and IN1 are each independently of the others a monacylphosphine, monoacylphosphine oxide or monoacylphosphine sulfide photoinitiator group; L1 L1 and L2 are a single bond or a spacer group; RG is a monovalent radical having at least one ethylenically unsaturated C=C bond; and RG1 and RG2 are each independently of the other a divalent radical having at least one ethylenically unsaturated C=C bond.
摘要翻译：在无机或有机基底上制备强粘附涂层的方法中，其中a）在无机或有机基底上进行低温等离子体处理，电晕放电处理或火焰处理，b）一或更多的光引发剂或光引发剂与含有至少一个烯键式不饱和基团的单体或/和低聚物或上述物质的溶液，悬浮液或乳液的混合物施用于无机或有机底物，以及任选地，c）使用使用上述物质干燥和/或用电磁波照射的合适方法，证明使用式（I），（II），（III）和/或（IV）的化合物，IN-L-RG（ IN-L-RG1-L1-H（II），IN-L-RG1-L1-IN1（III），IN-L-RG1-L1-RG2-L2-IN1（IV） IN1各自独立地为单酰基膦，单酰基氧化膦或单酰基膦硫化物光引发剂基团; L1 L1和L2是单键或间隔基; RG是具有至少一个烯属不饱和C = C键的一价基团; 并且RG1和RG2各自独立地为具有至少一个烯属不饱和C = C键的二价基团。

3. 发明公开

KR1020050042064A 신규한 이작용성 광개시제 有权
标题翻译：新型功能光电元件
公开(公告)号：KR1020050042064A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：KR1020047006995
申请日：2002-10-31
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 푸크스안드레 , 휘슬러리날도 , 슈레젠베르거크리스티안 , 쿤츠마르틴
IPC分类号： C07C49/83
CPC分类号： G03F7/031 , B33Y70/00 , C07C45/46 , C07C45/63 , C07C45/64 , C07C45/81 , C07C49/83 , C08F2/50 , C07C49/784 , C07C49/813
摘要： The invention relates to alpha-hydroxy ketones of formula I or IIa; or mixtures of compounds of formula I and II; or mixtures of compounds of formulae Ia and IIa.
摘要翻译：本发明涉及式I或IIa的α-羟基酮; 或式I和II化合物的混合物; 或式Ia和IIa化合物的混合物。

4. 发明公开

KR1020020079840A 플라즈마-활성화된 그라프팅에 의한 강한 접착성표면-피복물의 제조방법 无效
标题翻译：一种生产涂层由于表面活性接枝工艺的等离子体抗性粘附
公开(公告)号：KR1020020079840A
公开(公告)日：2002-10-19
申请号：KR1020027010246
申请日：2001-02-02
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 쿤츠마르틴 , 바우어미하엘
IPC分类号： C09D181/02
摘要： 본 발명은
제1 단계에서
(a) 무기 또는 유기 기판을 저온 플라즈마 방전, 코로나 방전, 고에너지 UV 방사선 또는 전자 방사선의 작용에 도입한 다음, 방사선 또는 방전을 중단하고,
추가의 단계에서
(b) 각각 하나 이상의 에틸렌성 불포화 그룹을 함유하는 하나 이상의 전자-공여체 또는 H-공여체를 진공 또는 정상압에서 무기 또는 유기 기판에 적용하고, 이때 형성된 유리 라디칼과 반응시키고,
(c1) 이와 같이 공개시제로 예비피복된 기판을 하나 이상의 에틸렌성 불포화 단량체 또는 올리고머 및 광개시제를 포함하는 조성물로 피복시키고, 당해 피복물을 전자기 및/또는 이온화 방사선으로 경화시키거나,
(c2) 공개시제로 예비피복된 기판을 하나 이상의 에틸렌성 불포화 단량체 또는 올리고머 및 하나 이상의 열적으로 활성가능한 개시제를 포함하는 조성물로 피복시키고 당해 피복물을 열적으로 경화시킴을 포함하는, 무기 또는 유기 기판에 강하게 접착하는 피복물의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 층 제조에서 각각 하나 이상의 에틸렌성 불포화 그룹을 갖는 전자-공여체 또는 H-공여체, 예를 들면, 아민, 티오에테르 또는 티올의 용도 및 강한 접착성 피복물 자체에 관한 것이다.

5. 发明授权

KR101015033B1 관능성 층의 형성방법 失效
标题翻译：形成功能层的方法
公开(公告)号：KR101015033B1
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：KR1020057011655
申请日：2003-12-15
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 쿤츠마르틴 , 바우어미하엘 , 바라니야이안드레아스
IPC分类号： B05D3/02 , B05D3/06 , B05D3/08 , B05D3/14
CPC分类号： B05D7/04 , B05D1/42 , B05D3/029 , B05D3/067 , B05D3/08 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D5/00 , B05D5/04 , B05D5/12 , B05D7/02 , C08F285/00 , C08F287/00 , C08F291/18 , C08J7/18 , C08J2323/04 , C08J2323/10 , C09D4/00 , C09D5/1637 , C09D5/18 , C09D151/003 , C09D151/006 , C09D151/08 , Y10T428/31504 , C08L2666/02
摘要： 본 발명은, 무기 또는 유기 기재 위에 저온-플라즈마, 코로나 방전, 고에너지 방사선 및/또는 화염 처리를 작용시키는 단계(a),
하나 이상의 활성화 가능한 개시제(1) 또는 하나 이상의 활성화 가능한 개시제와 하나 이상의 에틸렌계 불포화 화합물(2)을 용융물, 용액, 현탁액 또는 에멀젼 형태로 무기 또는 유기 기재에 적용하는 단계(b)(여기서, 활성화 가능한 개시제 및/또는 에틸렌계 불포화 화합물에는 처리된 기재의 목적하는 표면 특성을 제공하는 하나 이상의 관능성 조절 그룹이 도입되어 있다) 및
피복된 기재를 가열하고/하거나 전자기파로 조사하여 기재에 목적하는 표면 특성을 제공하는 단계(c)를 포함하는, 관능성 층을 무기 또는 유기 기재 위에 형성시키는 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 이러한 방법에 따라 피복한 기재 및 이들의 용도에 관한 것이다.
저온 플라즈마, 코로나 방전, 고에너지 방사선, 화염 처리, 에틸렌계 불포화 화합물, 관능성 층.

6. 发明授权

KR100894974B1 신규한 이작용성 광개시제 有权
标题翻译：新型双官能光引发剂
公开(公告)号：KR100894974B1
公开(公告)日：2009-04-24
申请号：KR1020047006995
申请日：2002-10-31
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 푸크스안드레 , 휘슬러리날도 , 슈레젠베르거크리스티안 , 쿤츠마르틴
IPC分类号： C07C49/83
CPC分类号： G03F7/031 , B33Y70/00 , C07C45/46 , C07C45/63 , C07C45/64 , C07C45/81 , C07C49/83 , C08F2/50 , C07C49/784 , C07C49/813
摘要： 본 발명은 화학식 I 또는 IIa의 α-하이드록시 케톤 또는 화학식 I 및 II의 화합물의 혼합물 또는 화학식 Ia 및 IIa의 화합물의 혼합물에 관한 것이다.
화학식 I

화학식 IIa

화학식 II

화학식 Ia

α-하이드록시 케톤, 광개시제, 오버프린트 피복물, 내스크내치성 내구성 표면.

7. 发明授权

KR100686473B1 감광도가 높은 고해상도 i-라인 감광성 내식막용 알킬설포닐옥심 有权
标题翻译：用于高灵敏度的高分辨率i线光刻胶的烷基磺酰亚胺
公开(公告)号：KR100686473B1
公开(公告)日：2007-02-26
申请号：KR1019997001646
申请日：1997-08-22
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 디틀리커쿠르트 , 쿤츠마르틴 , 야마토히토시 , 데레오크리스토프
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： C07D333/22 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07D333/24 , G03F7/0045
摘要： 본 발명은 알칼리 매질 중에서 현상 가능하고, 파장이 340 내지 390㎚인 방사선에 민감하며, 이에 따라 상기 언급된 파장 범위용 포지티브 및 네가티브 감광성 내식막을 구성하는 화학적으로 증폭된 감광성 내식막에서 감광성 산 발생제로서의 화학식 1의 옥심 알킬 설포네이트의 용도에 관한 것이다.
화학식 1

위의 화학식 1에서,
R은 나프틸, 또는 이고;
R
0 는 R
1 -X 그룹 또는 R
2 이며;
X는 직접 결합, 산소원자 또는 황원자이고;
R
1 은 수소, C
1 -C
4 -알킬 또는 치환되지 않거나 클로로, 브로모, C
1 -C
4 -알킬 및 C
1 -C
4 -알킬옥시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기에 의해 치환된 페닐 그룹이고;
R
2 는 수소 또는 C
1 -C
4 -알킬이며;
R
3 은 치환되지 않거나 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄 C
1 -C
12 -알킬이다.
옥심 알킬 설포네이트, 감광성 내식막, 프린팅 플레이트, 컬러 필터, 화상 기록 물질, 필름 형성 수지, 산 발생제, 페놀 수지, 아미노 수지

8. 发明公开

KR1020050084451A 반응성 피막을 형성하는 방법 无效
标题翻译：形成反应性涂料的方法
公开(公告)号：KR1020050084451A
公开(公告)日：2005-08-26
申请号：KR1020057011651
申请日：2003-12-15
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 쿤츠마르틴 , 바우어미하엘 , 바라니야이안드레아스
IPC分类号： C08J7/12 , C08J7/04 , C08J7/16
CPC分类号： B05D3/144 , B05D1/42 , B05D3/067 , C09J5/02
摘要： The invention relates to a method for forming coatings on an inorganic or organic substrate, in addition to substrates that have been coated according to said method. The invention is characterised in that a) the inorganic or organic substrate is exposed to a low-temperature plasma, a corona discharge, an intense irradiation and/or a flame-treatment, b) 1.) at least one activatable initiator or 2.) at least one activatable initiator and at least one ethylenically unsaturated compound in the form of melts, solutions, suspensions or emulsions is/are applied to the inorganic or organic substrate, whereby at least one group, which interacts with a subsequently applied coating as an adhesion promoter or reacts with groups contained in said coating, is incorporated into the activatable initiator and/or the ethylenically unsaturated compound c) the coated substrate is heated and/or irradiated with electromagnetic waves and an adhesion-promoter layer is formed, d) the substrate that has been pre-treated in this manner is provided with an additional coating containing reactive groups that react with the groups in the adhesion- promoter layer and/or that interact with said layer.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在无机或有机基底上形成涂层的方法，以及根据所述方法涂覆的基底。本发明的特征在于a）将无机或有机基材暴露于低温等离子体，电晕放电，强烈照射和/或火焰处理，b）1）至少一种可活化的引发剂或2。）将至少一种可活化的引发剂和至少一种熔体，溶液，悬浮液或乳液形式的烯键式不饱和化合物施加到无机或有机基底上，由此至少一个与随后涂覆的涂层相互作用的基团粘合促进剂或与所述涂层中包含的基团反应，并入可活化的引发剂和/或烯属不饱和化合物中c）涂覆的基材被电磁波加热和/或照射，形成粘附促进剂层，d）已经以这种方式预处理的底物被提供有另外的涂层，其中含有与粘附促进剂层中的基团反应的反应性基团和/ 与所述层相冲突。

9. 发明公开

KR1020050100364A 관능성 층의 형성방법 失效
标题翻译：形成功能层的方法
公开(公告)号：KR1020050100364A
公开(公告)日：2005-10-18
申请号：KR1020057011655
申请日：2003-12-15
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 쿤츠마르틴 , 바우어미하엘 , 바라니야이안드레아스
IPC分类号： B05D3/02 , B05D3/06 , B05D3/08 , B05D3/14
CPC分类号： B05D7/04 , B05D1/42 , B05D3/029 , B05D3/067 , B05D3/08 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D5/00 , B05D5/04 , B05D5/12 , B05D7/02 , C08F285/00 , C08F287/00 , C08F291/18 , C08J7/18 , C08J2323/04 , C08J2323/10 , C09D4/00 , C09D5/1637 , C09D5/18 , C09D151/003 , C09D151/006 , C09D151/08 , Y10T428/31504 , C08L2666/02
摘要： The invention relates to a method for forming functional layers on an inorganic or organic substrate, characterised in that a) the inorganic or organic substrate is exposed to a low-temperature plasma, a corona discharge, an intense irradiation and/or a flame-treatment, b) 1) at least one activatable initiator or 2) at least one activatable initiator and at least one ethylenically unsaturated compound in the form of melts, solutions, suspensions or emulsions is/are applied to the inorganic or organic substrate, whereby at least one function regulating group, which regulates the desired surface characteristics of the treated substrate, is incorporated into the activatable initiator and/or the ethylenically unsaturated compound and c) the coated substrate is heated and/or irradiated with electromagnetic waves to regulate the desired surface characteristics. The invention also relates to substrates coated according to said method and to the use of said substrates.
摘要翻译：本发明涉及一种在无机或有机基底上形成功能层的方法，其特征在于：a）将无机或有机基底暴露于低温等离子体，电晕放电，强辐射和/或火焰处理，b）1）至少一种可活化的引发剂或2）至少一种可活化的引发剂和至少一种熔融物，溶液，悬浮液或乳液形式的烯键式不饱和化合物施用于无机或有机底物，其中至少一个功能调节组，其调节所需的表面特性的处理衬底被掺入到可活化的引发剂和/或烯键式不饱和化合物中，和c）涂覆的基材被加热和/或照射电磁波以调节所需的表面特性。本发明还涉及根据所述方法涂覆的基材和所述基材的用途。

10. 发明公开

KR1020050071553A 기질상에 ＵＶ 흡수층을 형성시키는 방법 无效
标题翻译：在基板上生产紫外线吸收层的方法
公开(公告)号：KR1020050071553A
公开(公告)日：2005-07-07
申请号：KR1020057006023
申请日：2003-10-08
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 바우어미카엘 , 바라뉘아이안드레아스 , 쿤츠마르틴
IPC分类号： C08J7/18 , C08J7/16 , C08F2/46
CPC分类号： B05D7/04 , B05D3/0254 , B05D3/067 , B05D3/144 , C08J7/18
摘要： The invention relates to a method for producing UV absorption layers on organic or inorganic substrates. The inventive method consists in a) acting by a low-temperature plasma, or a corona discharge, or energy-rich radiation on an organic or inorganic substrate, b) in applying at least one radical forming initiator and at least one UV absorber containing at least one unsaturated ethylene group, and a synergist agent and/or an unsaturated ethylene compound eventually in the form of a molten material, solutions, suspensions or emulsions to said organic or inorganic substrates; and c) heating the coated substrate and/or irradiating it with electromagnetic waves. The inventive substrate provided with an UV absorption layer is also disclosed. Said method generally excludes vacuum conditions, a high energetic or thermal load, and the fracture of the UV absorber. Said invention makes it possible to produce transparent UV absorption layers which exhibit high adherence ability and whose properties are usefully modulated, for example like optical density.
摘要翻译：本发明涉及一种在有机或无机基底上生产UV吸收层的方法。本发明的方法包括：a）通过低温等离子体，电晕放电或富能辐射在有机或无机基底上的作用，b）在施加至少一种自由基形成引发剂和至少一种含有至少一种不饱和亚乙基，以及最终以熔融材料形式的增效剂和/或不饱和乙烯化合物，所述有机或无机基材的溶液，悬浮液或乳液; 和c）加热涂覆的基底和/或用电磁波照射它们。还公开了具有UV吸收层的本发明的基底。所述方法通常排除真空条件，高能量或热负荷以及UV吸收体的断裂。所述发明使得可以生产出具有高粘附能力并且其性质被有效调制的透明UV吸收层，例如像光密度。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式