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1. 发明授权

KR100740017B1 신규한 옥심 설포네이트 및 잠재성 설폰산으로서의 이의용도 有权
标题翻译：新的肟磺酸盐及其作为潜在磺酸的用途
公开(公告)号：KR100740017B1
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：KR1019997012590
申请日：1998-06-19
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 야마토히토시 , 블라이어하르트무트 , 비르바움장-뤽 , 쿤쯔마르틴 , 디틀리커쿠르트 , 데레오크리스토프 , 아사쿠라도시카게
IPC分类号： C07C381/00
CPC分类号： C07D207/44 , B33Y70/00 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C323/63 , C07C381/00 , C07D213/90 , C07D333/44 , G03F7/0045 , Y10S430/114 , Y10S430/117 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： 화학식 I 또는 화학식 II의 신규한 옥심설포네이트 화합물은 잠재성 설폰산으로서 유용하고, 특히 내식막에 사용하기에 특히 유용하다.
화학식 I

화학식 II

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,
m은 0 또는 1이고,
x는 1 또는 2이며,
R
1 은, 예를 들면, 치환되지 않거나 치환된 페닐 또는 치환되지 않거나 치환된 헤테로아릴 라디칼이거나, m이 0인 경우, 추가로 C
2 -C
6 알콕시카보닐, 페녹시카보닐 또는 CN이고,
R'
1 은, 예를 들면, C
1 -C
12 알킬렌 또는 페닐렌이며,
R
2 는, 예를 들면, R
1 에 대해 정의한 라디칼들 중의 하나이고,
n은 1 또는 2이며,
R
3 은, 예를 들면, C
1 -C
18 알킬이며,
R
3 '는 x가 1인 경우, R
3 에 대해 정의한 라디칼들 중의 하나이고, x가 2인 경우 및 화학식 IV에서는, 예를 들면, C
2 -C
12 알킬렌 또는 페닐렌이고,
R
4 및 R
5 는 서로 독립적으로, 예를 들면, 수소, 할로겐 또는 C
1 -C
6 알킬이며,
R
6 은, 예를 들면, 수소 또는 페닐이고,
R
7 및 R
8 은 서로 독립적으로, 예를 들면, 수소 또는 C
1 -C
12 알킬이며,
R
9 는, 예를 들면, C
1 -C
12 알킬이고,
A는 S, O 또는 화학식 , 화학식 , 화학식 또는 화학식 의 그룹이며,
R
10 및 R
11 은 서로 독립적으로 R
4 에 대해 정의한 라디칼들 중의 하나이고,
R
12 , R
13 , R
14 및 R
15 는 서로 독립적으로, 예를 들면, 수소 또는 C
1 -C
4 알킬이며,
Z는 CR
11 또는 N이고,
Z
1 은 -CH
2 -, S, O 또는 NR
6 이다.
옥심설포네이트 화합물, 내식막, 잠산 광개시제, 화상 기록 물질

2. 发明授权

KR100686473B1 감광도가 높은 고해상도 i-라인 감광성 내식막용 알킬설포닐옥심 有权
标题翻译：用于高灵敏度的高分辨率i线光刻胶的烷基磺酰亚胺
公开(公告)号：KR100686473B1
公开(公告)日：2007-02-26
申请号：KR1019997001646
申请日：1997-08-22
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 디틀리커쿠르트 , 쿤츠마르틴 , 야마토히토시 , 데레오크리스토프
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： C07D333/22 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07D333/24 , G03F7/0045
摘要： 본 발명은 알칼리 매질 중에서 현상 가능하고, 파장이 340 내지 390㎚인 방사선에 민감하며, 이에 따라 상기 언급된 파장 범위용 포지티브 및 네가티브 감광성 내식막을 구성하는 화학적으로 증폭된 감광성 내식막에서 감광성 산 발생제로서의 화학식 1의 옥심 알킬 설포네이트의 용도에 관한 것이다.
화학식 1

위의 화학식 1에서,
R은 나프틸, 또는 이고;
R
0 는 R
1 -X 그룹 또는 R
2 이며;
X는 직접 결합, 산소원자 또는 황원자이고;
R
1 은 수소, C
1 -C
4 -알킬 또는 치환되지 않거나 클로로, 브로모, C
1 -C
4 -알킬 및 C
1 -C
4 -알킬옥시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기에 의해 치환된 페닐 그룹이고;
R
2 는 수소 또는 C
1 -C
4 -알킬이며;
R
3 은 치환되지 않거나 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄 C
1 -C
12 -알킬이다.
옥심 알킬 설포네이트, 감광성 내식막, 프린팅 플레이트, 컬러 필터, 화상 기록 물질, 필름 형성 수지, 산 발생제, 페놀 수지, 아미노 수지

3. 发明授权

KR100746506B1 신규한 옥심 설포네이트를 함유하는 조성물 有权
标题翻译：组合物包含新的肟磺酸盐
公开(公告)号：KR100746506B1
公开(公告)日：2007-08-07
申请号：KR1020067010506
申请日：1998-06-19
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 야마토히토시 , 블라이어하르트무트 , 비르바움장-뤽 , 쿤쯔마르틴 , 디틀리커쿠르트 , 데레오크리스토프 , 아사쿠라도시카게
IPC分类号： C07C381/00
CPC分类号： C07D207/44 , B33Y70/00 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C323/63 , C07C381/00 , C07D213/90 , C07D333/44 , G03F7/0045 , Y10S430/114 , Y10S430/117 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： 화학식 1 또는 화학식 2의 신규한 옥심설포네이트 화합물은 잠재성 설폰산으로서 유용하고, 특히 내식막에 사용하기에 특히 유용하다.
화학식 1

화학식 2

위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
m은 0 또는 1이고,
x는 1 또는 2이며,
R
1 은, 예를 들면, 치환되지 않거나 치환된 페닐 또는 치환되지 않거나 치환된 헤테로아릴 라디칼이거나, m이 0인 경우, 추가로 C
2 -C
6 알콕시카보닐, 페녹시카보닐 또는 CN이고,
R'
1 은, 예를 들면, C
1 -C
12 알킬렌 또는 페닐렌이며,
R
2 는, 예를 들면, R
1 에 대해 정의한 라디칼들 중의 하나이고,
n은 1 또는 2이며,
R
3 은, 예를 들면, C
1 -C
18 알킬이며,
R
3 '는 x가 1인 경우, R
3 에 대해 정의한 라디칼들 중의 하나이고, x가 2인 경우 및 화학식 4에서는, 예를 들면, C
2 -C
12 알킬렌 또는 페닐렌이고,
R
4 및 R
5 는 서로 독립적으로, 예를 들면, 수소, 할로겐 또는 C
1 -C
6 알킬이며,
R
6 은, 예를 들면, 수소 또는 페닐이고,
R
7 및 R
8 은 서로 독립적으로, 예를 들면, 수소 또는 C
1 -C
12 알킬이며,
R
9 는, 예를 들면, C
1 -C
12 알킬이고,
A는 S, O 또는 화학식 , 화학식 , 화학식 또는 화학식 의 그룹이며,
R
10 및 R
11 은 서로 독립적으로 R
4 에 대해 정의한 라디칼들 중의 하나이고,
R
12 , R
13 , R
14 및 R
15 는 서로 독립적으로, 예를 들면, 수소 또는 C
1 -C
4 알킬이며,
Z는 CR
11 또는 N이고,
Z
1 은 -CH
2 -, S, O 또는 NR
6 이다.
옥심설포네이트 화합물, 내식막, 잠산 광개시제, 화상 기록 물질

4. 发明公开

KR1020060064700A 신규한 옥심 설포네이트를 함유하는 조성물 有权
标题翻译：包含新型硫酸钠的组合物
公开(公告)号：KR1020060064700A
公开(公告)日：2006-06-13
申请号：KR1020067010506
申请日：1998-06-19
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 야마토히토시 , 블라이어하르트무트 , 비르바움장-뤽 , 쿤쯔마르틴 , 디틀리커쿠르트 , 데레오크리스토프 , 아사쿠라도시카게
IPC分类号： C07C381/00
CPC分类号： C07D207/44 , B33Y70/00 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C323/63 , C07C381/00 , C07D213/90 , C07D333/44 , G03F7/0045 , Y10S430/114 , Y10S430/117 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： New oximsulfonate compounds of formulae (I) or (II), wherein m is 0 or 1; x is 1 or 2; R1is, for example phenyl, which is unsubstituted or substituted or R1is a heteroaryl radical that is unsubstituted or substituted, or, if m is 0, R1 additionally is C2-C6 alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl or CN; R'1is for example C2-C12alkylene, phenylene; R2has for example one of the meanings of R1; n is 1 or 2; R3is for example C1-C18alkyl, R'3 when x is 1, has one of the meanings given for R3, or R'3in formula (IV) and when x is 2 in formula (I), is for example C2 -C12alkylene, phenylene; R4and R5are independently of each other for example hydrogen, halogen, C1-C6alkyl; R6 is for example hydrogen, phenyl; R7and R 8are independently of each other for example hydrogen or C1-C12alkyl; R9is for example C1-C12alkyl; A is S, O, NR6, or a group of formula (A1), (A2), (A3) or (A4); R10and R11independently of each other have one of the meanings given for R4; R 12, R13, R14 and R15independently of one another are for example hydrogen, C1-C4alkyl; Z is CR 11or N; Z1is -CH2-, S, O or NR6, are useful as latent sulfonic acids, especially in photoresist applications.
摘要翻译：式（I）或（II）的新的磺酰磺酸酯化合物，其中m为0或1; x为1或2; R1是例如未取代或取代的苯基或R1是未取代或取代的杂芳基，或者如果m是0，则R1另外是C 2 -C 6烷氧基羰基，苯氧基羰基或CN; R 1例如是C 2 -C 12亚烷基，亚苯基; R2例如是R1的含义之一; n为1或2; R3为例如C1-C18烷基，当x为1时为R'3，具有对R3给出的含义之一，或式（IV）中的R'3，当式（I）中x为2时，为例如C 2 -C 12亚烷基，苯; R4和R5彼此独立，例如氢，卤素，C1-C6烷基; R6是例如氢，苯基; R 7和R 8彼此独立地为氢或C 1 -C 12烷基; R 9为例如C 1 -C 12烷基; A是S，O，NR 6或式（A1），（A2），（A3）或（A4）的基团。 R10和R11彼此独立地具有R4给出的含义之一; R 12，R 13，R 14和R 15彼此独立地是例如氢，C 1 -C 4烷基; Z是CR 11或N; Z1is -CH2-，S，O或NR6可用作潜在的磺酸，特别是在光刻胶应用中。

5. 发明公开

KR1020010014409A 신규한 옥심 설포네이트 및 잠재성 설폰산으로서의 이의용도 有权
标题翻译：新型肟磺酸盐及其作为潜在磺酸的用途
公开(公告)号：KR1020010014409A
公开(公告)日：2001-02-26
申请号：KR1019997012590
申请日：1998-06-19
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 야마토히토시 , 블라이어하르트무트 , 비르바움장-뤽 , 쿤쯔마르틴 , 디틀리커쿠르트 , 데레오크리스토프 , 아사쿠라도시카게
IPC分类号： C07C381/00
CPC分类号： C07D207/44 , B33Y70/00 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C323/63 , C07C381/00 , C07D213/90 , C07D333/44 , G03F7/0045 , Y10S430/114 , Y10S430/117 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： 화학식 I 또는화학식 II의신규한옥심설포네이트화합물은잠재성설폰산으로서유용하고, 특히내식막에사용하기에특히유용하다. 화학식 I 화학식 II 위의화학식 I 및화학식 II에서, m은 0 또는 1이고, x는 1 또는 2이며, R은, 예를들면, 치환되지않거나치환된페닐또는치환되지않거나치환된헤테로아릴라디칼이거나, m이 0인경우, 추가로 C-C알콕시카보닐, 페녹시카보닐또는 CN이고, R'은, 예를들면, C-C알킬렌또는페닐렌이며, R는, 예를들면, R에대한정의중의하나이고, n은 1 또는 2이며, R은, 예를들면, C-C알킬이며, R'는 x가 1인경우, R에대한정의중의하나이고, x가 2인경우및 화학식 IV에서는, 예를들면, C-C알킬렌또는페닐렌이고, R및 R는서로독립적으로, 예를들면, 수소, 할로겐또는 C-C알킬이며, R은, 예를들면, 수소또는페닐이고, R및 R은서로독립적으로, 예를들면, 수소또는 C-C알킬이며, R는, 예를들면, C-C알킬이고, A는 S, O 또는화학식, 화학식, 화학식또는화학식의그룹이며, R및 R은서로독립적으로 R에대한정의중의하나이고, R, R, R및 R는서로독립적으로, 예를들면, 수소또는 C-C알킬이며, Z는 CR또는 N이고, Z은 -CH-, S, O 또는 NR이다.
摘要翻译：式I或式II的新型有机磺酸盐化合物可用作潜磺酸，并且特别适用于抗蚀剂应用。其中m为0或1，x为1或2，R为例如未取代或取代的苯基或未取代或取代的杂芳基，当m为0时，还有C 1 -C 6烷氧基羰基，苯氧基羰基或CN，R'例如为C 1 -C 6亚烷基或亚苯基，R为例如， R是例如C 1 -C 6烷基，并且R'是当x是1时R的定义之一，并且当x是2并且在式IV中时，并且R和R彼此独立，例如氢，卤素或C ^烷基，R是例如氢或苯基，并且R和R独立地是， R为例如C 1 -C 6烷基，A为S，O或式，式，式或式的基团，并且R和R'独立地为和R，R，R，R和R的定义中的一个相互独立地为，例如，是氢或C-C烷基，Z是CR或N，Z是-CH-，S，O或NR。

6. 发明公开

KR1020000068387A 감광도가 높은 고해상도 i-라인 감광성 내식막용 알킬설포닐옥심 有权
标题翻译： - 用于高灵敏度的高分辨率I线光刻胶的烷基磺酰亚胺
公开(公告)号：KR1020000068387A
公开(公告)日：2000-11-25
申请号：KR1019997001646
申请日：1997-08-22
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 디틀리커쿠르트 , 쿤츠마르틴 , 야마토히토시 , 데레오크리스토프
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： C07D333/22 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07D333/24 , G03F7/0045
摘要： 본발명은알칼리매질중에서현상할수 있고 340 내지 390㎚의파장에서광 조사에민감하며상기언급된파장범위에대한포지티브및 네가티브감광성내식막을상응하게구성하는화학적으로증폭된감광성내식막에서감광성산 발생제로서의화학식 1의옥심알킬설포네이트의용도에관한것이다. 화학식 1 상기식에서, R은나프틸,또는이고; R는 R-X 그룹또는 R이고; X는직접결합, 산소원자또는황 원자이고; R은수소, C-C-알킬또는비치환되거나클로로, 브로모, C-C-알킬및 C-C-알킬옥시로이루어지는그룹으로부터선택되는치환기에의해치환되는페닐그룹이고; R는수소또는 C-C-알킬이며; R은비치환되거나하나이상의할로겐원자에의해치환되는직쇄또는측쇄 C-C-알킬이다.

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