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1. 发明申请

WO2014123318A1 신너 조성물 및 이의 용도 审中-公开
标题翻译：稀释剂组合物及其用途
公开(公告)号：WO2014123318A1
公开(公告)日：2014-08-14
申请号：PCT/KR2014/000716
申请日：2014-01-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 권오환 , 윤석일 , 정종현 , 김병욱 , 조태표 , 신성건
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/168 , G03F7/16 , G03F7/162 , H01L21/31133
摘要： 본 발명은 신너 조성물 및 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명에 따른 신너 조성물은 다양한 종류의 포토레지스트에 대한 우수한 용해력과 적정한 휘발성을 가져, 에지 비드 제거 공정 등에서 불필요하게 부착된 포토레지스트를 단시간에 효율적으로 제거할 수 있을 뿐 아니라, 반도체 기판의 프리 웨팅 공정 등에 적용되어 적은 양의 포토레지스트로도 효율적인 감광막의 형성을 가능케 한다.
摘要翻译：本发明涉及一种较薄的组合物及其用途。根据本发明的较薄的组合物对于各种类型的光致抗蚀剂具有显着的溶解力和适当的挥发性，从而在短时间内有效地除去边缘珠去除过程等中不必要的粘附的光致抗蚀剂，并且被应用于预润湿半导体衬底等的处理，从而能够用少量的光致抗蚀剂形成感光膜。

2. 发明申请

WO2013168903A1 신너 조성물 审中-公开
标题翻译：薄膜组成
公开(公告)号：WO2013168903A1
公开(公告)日：2013-11-14
申请号：PCT/KR2013/003262
申请日：2013-04-18
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 신성건 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 권오환 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , G02B5/3016
摘要： 본 발명은 중합성 액정 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 광학 필름에 사용되었을 경우 열적 안정성과 액정상 구간의 온도 범위가 넓은 특성을 지니며, 비용면에서도 효율적인 중합성 액정 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 코어 구조가 연결기를 가지지 않고 서로 단일 결합으로 연결되거나 다중환 구조로 연결된 하나 이상의 환 구조를 가지는 액정성 화합물을 중합성 메소겐 화합물과 혼합하여 중합성 액정 조성물을 구성함으로써, 액정 재료간 상용성이 우수하고, 화학적으로 안정하며, 넓은 온도 범위 내에서 액정 상을 유지하고, 또한 액정 광학 필름에 사용한 경우 우수한 배향성, 내화학적으로 안정적 성질을 갖는 광학 필름을 제조할 수 있으며, 제조방법이 비교적 간단하기 때문에 비용면에서도 효율적이다.
摘要翻译：本发明涉及一种可聚合液晶组合物，更具体地说，涉及一种在光学膜中使用时，液晶相中热稳定性和温度范围广泛的成本低廉的聚合性液晶组合物。本发明的聚合性液晶组合物通过将具有至少一个环结构的核心结构不具有连接基但通过单键彼此连接的多个环结构混合而形成，具有可聚合的介晶化合物，因此在液晶材料之间具有优异的常用性质，是化学稳定的，并且在宽的温度范围内保持液晶相。在本发明用于液晶光学膜的情况下，可以制造出具有优异取向性和耐化学性特性的光学膜，并且成本效益高，因为可以通过相对简单的方式进行制造处理。

3. 发明授权

KR101886750B1 ＲＲＣ 공정용 씨너 조성물과 그의 공급 장치 및 ＥＢＲ 공정용 씨너 조성물 有权
公开(公告)号：KR101886750B1
公开(公告)日：2018-08-13
申请号：KR1020110095814
申请日：2011-09-22
申请人： 삼성전자주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤효진 , 신성건 , 이효선 , 김병욱 , 김현우 , 윤석일 , 권오환
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/168 , C11D11/0047
摘要： 본발명은알킬락테이트, 시클로헥사논, 및알킬아세테이트를포함하고, 상기알킬아세테이트의알킬치환체는탄소수 1 내지 5의비에테르계알킬기인 RRC (reduced resist coating) 공정용씨너조성물을제공한다. 본발명개념에따른 RRC 공정용씨너조성물을이용하면, 적은양의포토레지스트로도높은균일도로기판을불량없이도포할수 있어공정코스트를절감할수 있는장점이있다.

4. 发明公开

KR1020130032106A ＲＲＣ 공정용 씨너 조성물과 그의 공급 장치 및 ＥＢＲ 공정용 씨너 조성물 审中-实审
标题翻译：用于RRC过程的薄膜组合物，用于提供其的装置和用于EBR工艺的薄膜组合物
公开(公告)号：KR1020130032106A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：KR1020110095814
申请日：2011-09-22
申请人： 삼성전자주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤효진 , 신성건 , 이효선 , 김병욱 , 김현우 , 윤석일 , 권오환
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/168 , C11D11/0047
摘要： PURPOSE: A thinner composition for RRC and EBR processes is provided to conduct EBR process without tailing on edge part of a photoresist and to improve process stability and increase yield. CONSTITUTION: A thinner composition for RRC and EBR processes comprises 40-90 parts by weight of an alkyl lactate, 5-30 parts by weight of cyclohexanone, and 1-30 parts by weight of alkyl acetate. The alkyl substituent of the alkyl acetate is C1-5 nonether-based alkyl group. The composition additionally comprises a silicon-based surfactant. The alkyl substituent of the alkyl acetate is a methyl group, ethyl group, or propyl group. The thinner composition for EBR process comprises 40-90 parts by weight of an alkyl lactate, 5-30 parts by weight of the cyclohexanone, and 1-30 parts by weight of the alkyl acetate. The alkyl substituent of the alkyl acetate is C1-5 nonether-based alkyl group.
摘要翻译：目的：提供用于RRC和EBR工艺的更薄的组合物以进行EBR工艺，而不会在光致抗蚀剂的边缘部分拖尾并提高工艺稳定性并提高产量。构成：用于RRC和EBR方法的较薄组合物包含40-90重量份的乳酸烷基酯，5-30重量份的环己酮和1-30重量份的乙酸烷基酯。乙酸烷基酯的烷基取代基是C1-5非醚基烷基。该组合物另外包含硅基表面活性剂。乙酸烷基酯的烷基取代基是甲基，乙基或丙基。用于EBR方法的较薄组合物包含40-90重量份的乳酸烷基酯，5-30重量份的环己酮和1-30重量份的乙酸烷基酯。乙酸烷基酯的烷基取代基是C1-5非醚基烷基。

5. 发明授权

KR101891501B1 증착 재료 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR101891501B1
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：KR1020110011876
申请日：2011-02-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： C11D7/32 , H05B33/10 , C11D11/00
摘要： 본발명은 N-메틸-2-피롤리돈및 1,3-디메틸-2-이미다조리디논(1,3-Dimethyl-2-imidazolidinone)을포함하는증착재료세정액조성물및 이를이용한세정방법에관한것으로서, 이러한조성물을이용하면전기광학기기의제조장치에부착된증착재료를신속히제거하여제조공정의시간을단축하고생산비용을절감할수 있으며, 공정의안정성을확보할수 있다.

6. 发明公开

KR1020140101156A 신너 조성물 및 이의 용도 审中-实审
标题翻译：薄膜组合物及其用途
公开(公告)号：KR1020140101156A
公开(公告)日：2014-08-19
申请号：KR1020130014459
申请日：2013-02-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 권오환 , 윤석일 , 정종현 , 김병욱 , 조태표 , 신성건
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/168 , G03F7/16 , G03F7/162 , H01L21/31133 , G03F7/42 , G03F7/09 , G03F7/32 , G03F7/327 , H01L21/0273
摘要： The present invention relates to a thinner composition and a use thereof. The thinner composition according to the present invention has excellent solubility and suitable volatility for various kinds of photoresists to not only efficiently remove a photoresist unnecessarily attached in such an edge bead removal process in a short time, but also be applied to such a pre-wetting process of a semiconductor substrate to enable forming of an efficient photosensitive film event with a less amount of photoresists.
摘要翻译：本发明涉及一种较薄的组合物及其用途。根据本发明的较薄的组合物对于各种光致抗蚀剂具有优异的溶解性和适用的挥发性，不仅可以有效地除去在短时间内不必要地附着在这种边缘珠粒去除过程中的光致抗蚀剂，而且可以应用于这种预润湿半导体衬底的工艺，以能够形成具有较少光致抗蚀剂的有效光敏膜事件。

7. 发明授权

KR101399502B1 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물 有权
标题翻译：去除TFT-LCD热固性树脂的去除组合物
公开(公告)号：KR101399502B1
公开(公告)日：2014-06-27
申请号：KR1020080091951
申请日：2008-09-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 티에프티 엘시디의 제조공정에서 티에프티 엘시디의 열경화성 수지 형성공정 중 발생하는 불량의 기판을 재사용하기 위한 박리액 조성물에 관한 것으로, (a) 암모늄 하이드록사이드 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬 암모늄 하이드록사이드 화합물 0.5 내지 15 중량부; (b) 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬렌글리콜에테르 9 내지 89 중량부; (c) 글리콜 화합물 10 내지 40 중량부; (d) 부식방지제 0.01 내지 5 중량부; 및 (e) 물 0.1 내지 5 중량부를 포함하는 열경화성 수지 박리액 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 박리액 조성물은 칼라 레지스트뿐 아니라, 네가티브 및 포지티브 유기절연막를 하부막질인 무기절연막 및 각종 금속 배선에 손상을 주지 않고 단시간에 제거하여 칼라필터 기판 및 티에프티 기판을 재사용할 수 있도록 한다.
열경화성수지, 유기절연막, 박리액, 티에프티 엘시디

8. 发明公开

KR1020110068483A 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：剥离器组合物
公开(公告)号：KR1020110068483A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020090125458
申请日：2009-12-16
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 신성건 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 권오환 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D11/00
CPC分类号： G03F7/422 , C11D11/0047
摘要： PURPOSE: A resist stripper composition is provided to completely remove and clean a resist without generating a corrosion on a metal wire during a removing and cleaning process. CONSTITUTION: A resist stripper composition contains an imidazolidine system compound marked with chemical formula 1, and a solvent. In the chemical formula 1, R1 and R2 are a linear or branched alkyl with 1~5carbons, alkyl amino with 1~5carbons, alryl, hydroxyalkyl with 1~5carbons, or alkylphenyl with 1~5carbons, separately. The solvent is selected from the group consisting of a protic polar solvent, an aprotic polar solvent, and there mixture.
摘要翻译：目的：提供抗蚀剂剥离剂组合物，以在去除和清洁过程中完全除去和清洁抗蚀剂，而不会在金属丝上产生腐蚀。构成：抗蚀剂剥离剂组合物含有用化学式1标记的咪唑烷体系化合物和溶剂。在化学式1中，R 1和R 2分别是具有1〜5个碳原子的直链或支链烷基，具有1〜5个碳原子的烷基氨基，1〜5个碳原子的烷基氨基，1〜5个碳原子的烷基苯基，1〜5个碳原子的烷基苯基。溶剂选自质子极性溶剂，非质子极性溶剂和混合物。

9. 发明公开

KR1020100033006A 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물 有权
标题翻译：去除TFT-LCD热敏树脂的组合物
公开(公告)号：KR1020100033006A
公开(公告)日：2010-03-29
申请号：KR1020080091951
申请日：2008-09-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C08G77/38 , C08L61/34 , C11D11/0047 , G03F7/34 , G03F7/422
摘要： PURPOSE: A stripper composition is provided to reuse a color filter base material and a TFT substrate by removing a color resist and negative and positive organic insulating films in a short time. CONSTITUTION: A stripper composition comprises 0.5 ~ 15 parts by weight of alkylammonium hydroxide compound with ammonium hydroxide or C1-4 alkyl group, 9 ~ 89 parts by weight of alkyleneglycolether with C1-4 alkyl group, 10 ~ 40 parts by weight of glycol ether compound, 10 ~ 40 parts by weight of glycol ether compound, 0.01 ~ 5 parts by weight of corrosion inhibitor, and 0.1 ~ 5 parts by weight of water.
摘要翻译：目的：提供剥离剂组合物以在短时间内除去彩色抗蚀剂和负极和正性有机绝缘膜来再利用滤色器基材和TFT基板。组成：汽提组合物包含0.5〜15重量份的烷基氢氧化铵与氢氧化铵或C1-4烷基，9〜89重量份的具有C1-4烷基的亚烷基二醇醚，10〜40重量份的乙二醇醚化合物，10〜40重量份的二醇醚化合物，0.01〜5重量份的缓蚀剂和0.1〜5重量份的水。

10. 发明授权

KR101403516B1 액정표시장치의 색 필터 온 어레이 제조공정의포토레지스트 박리제 조성물 有权
标题翻译：用于在LCD阵列上制备滤色片的光刻胶剥离剂组合物
公开(公告)号：KR101403516B1
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020080070280
申请日：2008-07-18
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/34
摘要： 본 발명은 액정표시장치의 색 필터 온 어레이(color filter on array, COA) 제조공정의 포토레지스트 박리제 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 1 내지 40 중량%의 수용성 유기아민 화합물, 3 내지 40 중량%의 물, 및 잔량의 수용성 유기용매를 포함하여, 액정표시장치의 색 필터 온 어레이 구조 형성시 색 필터의 팽윤현상이 없고 금속부식방지 및 감광막 제거능이 매우 우수한 액정표시장치의 색 필터 온 어레이 제조공정의 포토레지스트 박리제 조성물에 관한 것이다.
박리제, 색 필터 온 어레이, 액정표시장치, 팽윤

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