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1. 发明授权

KR100772844B1 반도체 제조설비의 감광액 공급장치 失效
标题翻译：用于在半导体器件制造设备中分配光敏溶液的设备
公开(公告)号：KR100772844B1
公开(公告)日：2007-11-02
申请号：KR1020050115742
申请日：2005-11-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박진준 , 윤석필
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67253 , B01D19/0036 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： 감광액 코팅 공정에서 감광액에 내포되는 기포들을 최소화 또는 감소시키기 위한 감광액 공급장치가 개시된다. 그러한 감광액 공급장치는, 감광액을 수용하는 적어도 하나이상의 공급용기; 상기 공급용기에 수용된 상기 감광액을 공급받아 일시 저장하는 적어도 하나이상의 탱크; 상기 탱크에 저장된 감광액을 소정의 압력으로 펌핑하는 펌프부; 상기 펌프부에서 펌핑된 감광액을 필터링하여 오염물질을 제거하는 필터부; 상기 탱크 또는 상기 필터부의 상단으로 연결되는 관로를 통해 상기 필터부에서 필터링 되는 상기 감광액, 또는 상기 탱크에 일시 저장된 상기 감광액에 함유된 기포들을 제거하는 적어도 하나이상의 탈기부를 포함함에 의해, 기포 제거의 신뢰성을 향상시킬 수 있기 때문에 생산수율을 향상시킬 수 있다.

감광액(photo-resist), 필터(filter), 탱크(tank), 탈기, 기포

2. 发明公开

KR1020070056726A 반도체 제조설비의 감광액 공급장치 失效
标题翻译：用于在半导体器件制造设备中分配感光性溶液的装置
公开(公告)号：KR1020070056726A
公开(公告)日：2007-06-04
申请号：KR1020050115742
申请日：2005-11-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박진준 , 윤석필
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67253 , B01D19/0036 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： An apparatus for dispensing a photosensitive solution in semiconductor device fabrication equipment is provided to remove air bubbles from the photosensitive solution by using a degassing unit. One or more supply receptacles(100) are used for storing a photosensitive solution. One or more tanks(200) are used for receiving the photosensitive solution from the supply receptacles and storing temporarily the photosensitive solution. A pump unit(300) pumps the photosensitive solution stored in the tanks. A filter unit(400) removes contaminants from the photosensitive solution by filtering the photosensitive solution of the pump unit. One or more degassing units(500,550) remove air bubbles from the filtered photosensitive solution or the stored photosensitive solution.
摘要翻译：提供一种用于在半导体器件制造设备中分配光敏溶液的设备，以通过使用脱气单元从感光溶液中除去气泡。一个或多个供应容器（100）用于存储光敏溶液。一个或多个罐（200）用于从供应容器接收光敏溶液并暂时存储感光溶液。泵单元（300）泵送存储在箱中的感光溶液。过滤器单元（400）通过过滤泵单元的感光溶液来从感光溶液中去除污染物。一个或多个脱气单元（500,550）从过滤的感光溶液或存储的感光溶液中除去气泡。

3. 发明公开

KR1020070000742A 이송 플레이트와 웨이퍼와의 접촉을 방지하는 웨이퍼 이송시스템 无效
标题翻译：用于防止转移板和滚筒之间的接触的转移传送系统
公开(公告)号：KR1020070000742A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：KR1020050056318
申请日：2005-06-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 윤석필
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/68707 , H01L21/67242 , H01L21/67742
摘要： A wafer transfer system is provided to restrain the contact between a transfer plate and a wafer by checking previously a leveling state between the transfer plate and the wafer using at least one leveling detecting sensor. A wafer transfer system includes a transfer arm, a driving unit, a control unit and a leveling detecting sensor. The transfer arm(210) includes a transfer plate for unloading a wafer from a wafer cassette. The driving unit(220) is used for driving the transfer arm. The control unit(230) is connected with the transfer arm and the driving unit in order to control the driving of the transfer arm. The leveling detecting sensor(240) is installed on the transfer arm in order to check a leveling state between the transfer plate and the wafer. The leveling detecting sensor is connected with the control unit.
摘要翻译：提供晶片传送系统以通过使用至少一个调平检测传感器先前检查转印板和晶片之间的调平状态来限制转印板和晶片之间的接触。晶片传送系统包括传送臂，驱动单元，控制单元和调平检测传感器。传送臂（210）包括用于从晶片盒卸载晶片的转印板。驱动单元（220）用于驱动传送臂。控制单元（230）与传送臂和驱动单元连接，以便控制传送臂的驱动。调平检测传感器（240）安装在传送臂上，以便检查转印板和晶片之间的调平状态。调平检测传感器与控制单元连接。

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