会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明申请
    • 청소 로봇 및 그 제어방법
    • 清洁机器人及其控制方法
    • WO2016129950A1
    • 2016-08-18
    • PCT/KR2016/001434
    • 2016-02-12
    • 삼성전자주식회사
    • 이동현김인주신동민유정기이동훈천지원
    • A47L9/28G05D1/02B25J19/04
    • A47L9/2852A47L5/22A47L9/009A47L9/0411A47L9/0477A47L9/28A47L9/2826A47L9/2857A47L2201/04B25J9/0003B25J19/04G05D1/02G05D1/0214G05D1/0248G05D1/0274G05D2201/0203G05D2201/0215G06K9/00664G06K9/00805H04N5/2251Y10S901/01Y10S901/47
    • 개시된 실시예는, 청소 공간의 장애물에 대한 높이정보를 포함하는 3차원 장애물 맵을 생성하고 이를 이용하여 청소공간을 청소하는 청소 로봇 및 그 제어방법을 제공한다. 또한, 개시된 실시예는 청소 중 외력에 의해 청소 로봇이 다른 영역으로 이동하는 경우 이동 전 영역의 특징점 맵과 이동 후 영역의 특징점 맵을 정합하고 정합된 특징점 맵을 이용하여 청소를 수행하는 청소 로봇 및 그 제어방법을 제공한다. 개시된 실시예에 따른 청소 로봇은 본체; 상기 본체를 이동시키는 주행부; 장애물의 높이를 감지하는 장애물 감지부; 및 상기 장애물의 높이 정보를 이용하여 3차원 장애물 맵을 생성하는 제어부;를 포함한다. 또한, 개시된 실시예에 따른 청소 로봇은 본체; 상기 본체의 상부에 마련되어 청소 로봇의 상부 영상을 획득하는 카메라; 및 상기 카메라에서 획득한 영상으로부터 특징점을 추출하여 특징점 맵을 생성하는 제어부;를 포함하고, 상기 제어부는 상기 본체가 외력에 의해 제1영역에서 제2영역으로 이동하게 되면 제1영역의 특징점 맵과 제2영역의 특징점 맵을 정합할 수 있다.
    • 一个公开的实施例提供了一种清洁机器人及其控制方法,所述机器人生成包括清洁空间中的障碍物上的高度信息的三维障碍物图,并且通过使用该图来清洁清洁空间。 此外,一个公开的实施例提供了一种清洁机器人及其控制方法,机器人在通过使用匹配的特征点图来移动和执行清洁之后的区域的特征点图之前与区域的特征点图匹配,当 清洁机器人在清洁期间通过外力移动到另一个区域。 根据一个公开的实施例的清洁机器人包括:主体; 用于移动主体的行进单元; 障碍物检测单元,用于感测障碍物的高度; 以及控制单元,用于通过使用障碍物的高度信息来产生三维障碍物图。 此外,根据一个公开的实施例的清洁机器人包括:主体; 设置在主体的上部的照相机,以获取清洁机器人上方的图像; 以及控制单元,用于从由相机获取的图像中提取特征点,以便产生特征点图,其中当主体通过外力从第一区域移动到第二区域时,控制单元可以匹配 第一区域的特征点图与第二区域的特征点图。
    • 8. 发明授权
    • 웨이퍼 세정공정의 결함개선 방법
    • 半导体波形清洗方法
    • KR100156829B1
    • 1998-12-01
    • KR1019950043288
    • 1995-11-23
    • 삼성전자주식회사
    • 신동민전승호고세종김동태
    • H01L21/304
    • 본 발명은 반도체소자의 제조장치에 관한 것으로 특히 웨이퍼의 세정시 표면의 소수성 상태에서 결함을 최소화 할 수 있는 세정의 최적화 하기위한 웨이퍼 세정공정의 결함개선 방법에 관한 것이다.
      종래의 웨이퍼 세척장비는 세정단계에서 웨이퍼의 줄무늬 파티클에 의한 웨이퍼 결함이 발생하게 되고 이러한 결함이 후속공정에서 공정불량의 원인이 되는 문제점이 있었다.
      본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로 세척공정의 공정단계중 세척조의 세척용액에 담긴 웨이퍼를 꺼내는 웨이퍼의 로딩시 세척용액과 웨이퍼사이의 정전현상이 일어나지 않도록 로보트의 의해 웨이퍼가 세척액의 액면위로 올라오는 시점부터 완전히 올라오는데 소요되는 시간을 7~10초로 설정하여 동작시킴으로서 공정시 발생하는 파티클의 결함을 억제하도록 한 것이다.