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    • 4. 发明公开
    • 표시 기판 및 그 제조 방법
    • 显示基板及其制造方法
    • KR1020080022778A
    • 2008-03-12
    • KR1020060086369
    • 2006-09-07
    • 삼성전자주식회사
    • 김범준허명구이종환이홍우이종혁김유진
    • G02F1/136
    • G02F1/1362G02F2001/136231
    • A display substrate and a manufacturing method thereof are provided to use only two sheets of photo masks and perform exposing and developing processes only twice, thereby reducing the number of the whole processes and accordingly reducing process costs. A display substrate manufacturing method comprises the following steps of: forming a first conductive film on a substrate(1), and forming gate line(10), a gate terminal electrode(18), a gate electrode(11) and a first electrode(15) by patterning the first conductive film; forming a gate insulating film, a semiconductor film, an ohmic contact film and a second conductive film on the gate line; forming first photosensitive film patterns, having a first thickness and a second thickness thicker than the first thickness according to areas and exposing the gate terminal electrode, on the second conductive film; forming a data line(30), a data terminal electrode(38), a data electrode and a second electrode(35) by etching the second conductive film by using the first photosensitive film pattern as an etching mask; forming an ohmic contact film pattern, a semiconductor film pattern(22) and a gate insulating film pattern by etching the ohmic contact film, the semiconductor film and the gate insulating film by using the first photosensitive film pattern as the etching mask; forming a second photosensitive film pattern for exposing a part of the data electrode by removing the first photosensitive film pattern as much as the first thickness; forming source and drain electrodes(31,32), separated from each other, by etching the data electrode by using the second photosensitive film pattern as an etching mask; etching the ohmic contact film pattern exposed between the source electrode and the drain electrode; and forming a passivation film pattern for exposing the gate terminal electrode and the data terminal electrode on the data line.
    • 提供显示基板及其制造方法仅使用两张照相掩模,仅进行曝光和显影处理两次,从而减少整个处理的数量,从而降低处理成本。 显示基板的制造方法包括以下步骤:在基板(1)上形成第一导电膜,形成栅极线(10),栅极端子电极(18),栅极电极(11)和第一电极 15)通过图案化第一导电膜; 在栅极线上形成栅绝缘膜,半导体膜,欧姆接触膜和第二导电膜; 在所述第二导电膜上形成第一感光膜图案,其具有根据区域具有比所述第一厚度厚的第一厚度和第二厚度并暴露所述栅极端子电极; 通过使用第一感光膜图案作为蚀刻掩模蚀刻第二导电膜,形成数据线(30),数据端电极(38),数据电极和第二电极(35) 通过使用第一感光膜图案作为蚀刻掩模,通过蚀刻欧姆接触膜,半导体膜和栅极绝缘膜来形成欧姆接触膜图案,半导体膜图案和栅极绝缘膜图案; 通过除去与第一厚度一样多的第一感光膜图案形成用于暴露数据电极的一部分的第二感光膜图案; 通过使用第二感光膜图案作为蚀刻掩模来蚀刻数据电极,形成彼此分离的源极和漏极(31,32); 蚀刻暴露在源电极和漏电极之间的欧姆接触膜图案; 以及形成用于使数据线上的栅极端子电极和数据端子电极露出的钝化膜图案。
    • 5. 发明授权
    • 강유전성 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
    • 铁电液晶显示器及其制造方法
    • KR100695304B1
    • 2007-03-14
    • KR1020000067392
    • 2000-11-14
    • 삼성전자주식회사
    • 홍성규박관선김유진
    • G02F1/141
    • 하판 위에 박막 트랜지스터와 화소 전극을 형성하고, 그 위에 감광막으로 이루어진 스페이서 패턴을 형성한다. 하판과 마주하는 상판 위에 블랙 매트릭스, 색 필터 및 공통 전극을 형성한다. 스페이서 패턴은 기판의 단축 방향에 대하여 a만큼, 장축 방향에 대하여 b만큼의 간격으로 블랙 매트릭스와 중첩되도록 형성한다. 두 기판 위에 배향막을 도포하고 배향막을 기판의 장축 방향에 대하여 ±5°만큼 기울인 방향으로 러빙한다. 이러한 두 기판을 정렬하여 조립한 후 두 기판 사이에 강유전성 액정을 채운다. 이때, 러빙을 장축 방향에 대하여 θ만큼 기울인 방향으로 실시하므로 빛샘이 스페이서 패턴을 따라 단축 방향과 평행하게 발생하는데 이 부분은 블랙 매트릭스에 의해 가려지므로 빛샘이 차단되어 대비비가 향상된다.
      배향막, 강유전성 액정, 스페이서 패턴, 블랙 매트릭스, 빛샘, 대비비
    • 7. 发明公开
    • 표시 기판 및 이를 구비한 표시 장치
    • 显示基板和显示装置
    • KR1020070014242A
    • 2007-02-01
    • KR1020050068679
    • 2005-07-28
    • 삼성전자주식회사
    • 강신택이용순김성만안병재문연규이종혁김유진박형준이봉준김범준
    • G02F1/133
    • G02F1/1345G02F1/136286G09G3/3648
    • A display substrate and a display device having the same are provided to reduce the contact resistance at the contact portion, in which high voltage or high current flows, thereby preventing the erosion of a gate circuit part due to moisture. Pixel transistors are formed in a display area which is defined by gate lines and data lines. The pixel transistors are electrically and respectively connected to pixel electrodes. A gate circuit part(210) is composed of a plurality of stages formed in a peripheral area surrounding the display area, and outputs gate signals to the gate lines. Each of the stages includes plural transistors and plural contact portions. In the contact portions, a first contact portion(CNT1) formed at a metal electrode, on which the prior gate signal or the vertical starting signal is applied, has a relatively larger contact area than any other contact portion(CNT2).
    • 提供了一种显示基板及具有该显示基板的显示装置,以降低高电压或高电流流动的接触部分处的接触电阻,从而防止由于水分导致的栅极电路部分的侵蚀。 像素晶体管形成在由栅极线和数据线限定的显示区域中。 像素晶体管电连接并分别连接到像素电极。 门电路部分(210)由围绕显示区域的外围区域中形成的多个级组成,并将门信号输出到栅极线。 每个级包括多个晶体管和多个接触部分。 在接触部分中,形成在其上施加现有栅极信号或垂直启动信号的金属电极处的第一接触部分(CNT1)具有比任何其它接触部分(CNT2)更大的接触面积。
    • 8. 发明公开
    • 액정표시장치 및 그 제조방법
    • 液晶显示及其制造方法
    • KR1020070008882A
    • 2007-01-18
    • KR1020050062750
    • 2005-07-12
    • 삼성전자주식회사
    • 김범준김유진이종혁
    • G02F1/1335G02F1/1337
    • G02F1/136209G02F1/133707G02F1/136286G02F2001/13356H01L27/124
    • An LCD (liquid crystal display device) and a fabrication method thereof are provided to prevent a poor image quality due to decrease in a liquid crystal response time by reducing an alignment error of liquid crystals when driving the LCD. A gate line(21) and a data line(90) define a pixel region. A pixel electrode(110) is formed in the pixel region. A thin film transistor is connected between the gate line, the data line, and the pixel electrode. Light blocking lines are formed at both sides of the data line such that at least a portion of the light blocking lines is parallel to a liquid crystal alignment direction. A contact electrode and a contact hole connect the date line with the light blocking lines.
    • 提供LCD(液晶显示装置)及其制造方法,以通过在驱动LCD时降低液晶的取向误差来防止由于液晶响应时间的降低而造成的图像质量差。 栅极线(21)和数据线(90)限定像素区域。 像素电极(110)形成在像素区域中。 薄膜晶体管连接在栅极线,数据线和像素电极之间。 遮光线形成在数据线的两侧,使得至少一部分遮光线平行于液晶排列方向。 接触电极和接触孔将日期线与遮光线连接。
    • 10. 发明公开
    • 반도체 공정용 식각장치
    • KR1019970052744A
    • 1997-07-29
    • KR1019950059518
    • 1995-12-27
    • 삼성전자주식회사
    • 김유진
    • H01L21/306
    • 순수로 인한 오염을 제거할 수 있는 반도체 공정용 식각장치에 대해 기재되어 있다. 이는, 웨이퍼 상에 형성된 소정의 반도체막을 식각하기 위한 시각용액 및 식각이 완료된 웨이퍼를 세척하기 위한 순수가 담겨진 메인베쓰, 및 웨이퍼를 건조하기 위한 스핀 드라이어를 구비하여 이루어진 반도체 공정용 식각장치에 있어서, 스핀 드라이어와 인접하는 메인베쓰 상부의 가장자리에 설치된 방지턱과, 스핀 드라이어의 상부에 연장하여 형성되되, 상기 방지턱과 접촉하지 않으면서 오버랩 되도록 설치된 방지판을 추가로 구비하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 스핀 드라이어의 건조동작에 따른 진동이 메인베쓰에 전달되지 않으면서 순수등이 크린룸의 바닥이나 기타 기계 장치부에 떨어져 기계 장치를 부식시키거나 반도체칩에 악영향을 미치는 오염의 발생을 방지할 수 있게 된다.