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1. 发明申请

WO2021118066A1 스피커 장치 및 이를 포함하는 냉장고 审中-公开
公开(公告)号：WO2021118066A1
公开(公告)日：2021-06-17
申请号：PCT/KR2020/015297
申请日：2020-11-04
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김기두 , 이종육 , 조수호 , 하종헌
IPC分类号： H04R5/02 , H04R1/34 , H04R1/02 , F25D23/02 , F25D23/12
摘要： 냉장고 도어에 매립 가능한 스피커 장치가 개시된다. 본 스피커 장치는 일 면이 외부에 노출되고, 노출 면보다 넓은 면적을 갖는 측면에 노출 면에 연결되는 홈을 가지는 바디, 바디의 노출 면에 배치되는 제1 스피커 및 홈에 배치되는 제2 스피커를 포함한다.

2. 发明公开

KR1020160092761A 조명 장치 审中-实审
标题翻译：照明装置
公开(公告)号：KR1020160092761A
公开(公告)日：2016-08-05
申请号：KR1020150013551
申请日：2015-01-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 장규호 , 김기두
IPC分类号： F21S2/00 , F21S4/00 , F21S9/00 , F21Y101/02
CPC分类号： F21K9/272 , F21K9/27 , F21S2/00 , F21S4/00 , F21S9/00 , F21V3/02 , F21V23/06 , F21Y2103/10 , F21Y2115/10 , F21S2/005 , F21Y2101/00
摘要： 조명장치가개시된다. 개시된조명장치는기판상에장착된측면발광형발광소자패키지를포함할수 있으며, 기판및 측면발광형발광소자패키지는투명또는반투명의커버부내에삽입될수 있다. 상기측면발광형발광소자패키지는상기기판의제 1면또는제 2면중 적어도어느하나의면에형성될수 있으며, 서로다른발광방향을지닐수 있다.
摘要翻译：公开了一种照明装置。所公开的照明装置包括安装在基板上的侧发光型发光器件封装，并且基板和侧发光型发光器件封装可以插入透明或半透明的盖部分中。侧发光型发光器件封装可以形成在衬底的第一表面或第二表面中的至少一个上，并且可以具有彼此不同的发光方向。

3. 发明授权

KR100486690B1 기판 이송 모듈의 오염을 제어할 수 있는 기판 처리 장치및 방법 失效
标题翻译：基板处理装置及控制基板转印模块污染的方法
公开(公告)号：KR100486690B1
公开(公告)日：2005-05-03
申请号：KR1020020075458
申请日：2002-11-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안요한 , 황정성 , 김혁기 , 김기두 , 이수웅
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/00 , H01L21/67017 , Y10S414/139
摘要： 기판 이송 모듈의 오염을 제어할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법이 개시되어 있다. 본 발명의 기판 처리 장치는, 복수개의 기판을 수용하도록 형성된 용기; 상기 기판 상에 설정된 공정을 수행하기 위한 적어도 하나의 공정 챔버를 포함하는 기판 처리부; 상기 용기 내의 기판들을 상기 기판 처리부로 이송하기 위한 기판 이송 수단이 그 내부에 배치되어 있는 기판 이송 챔버 및 상기 기판 이송 챔버의 외부에 배치되고 상기 용기를 지지하기 위한 적어도 하나의 로드 포트를 포함하는 기판 이송 모듈; 및 상기 기판 이송 챔버에 연결되고, 상기 기판 이송 챔버에 퍼지 가스를 공급하여 상기 기판 이송 챔버 내부를 퍼지하는 가스 공급부 및 상기 기판 이송 챔버 내부의 퍼지 가스를 재순환시켜 상기 기판 이송 챔버로 공급하기 위한 가스 순환관을 포함하는 오염 제어부를 구비한다. 기판 이송 챔버를 퍼지 가스로 퍼지하여 상기 기판 이송 챔버 내부의 습기 및 오염 물질들을 제거함으로써, 공정이 완료된 기판들이 용기 내에서 대기하는 동안 습기 및 오염물질들과 반응하여 응축 입자를 형성하는 것을 방지한다.

4. 发明公开

KR1020010064039A 케미컬 필터 평가 시스템 및 이를 이용한 케미컬 필터평가 방법 无效
标题翻译：化学过滤器评价体系及其使用化学过滤器的评价方法
公开(公告)号：KR1020010064039A
公开(公告)日：2001-07-09
申请号：KR1019990062155
申请日：1999-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김기두 , 함동석
IPC分类号： G01N15/08
摘要： PURPOSE: An evaluation system of chemical filter and an evaluation method of chemical filter using the same are provided to be capable of evaluating the presence of contamination substance in a chemical filter itself. CONSTITUTION: A chamber(44) is isolated from external contamination sources and has the same internal conditions as those of a clean room. A first gas line(L1) is connected to one side of the chamber(44). A second gas line(L2) is connected to the other side of the chamber(44) to oppose the first gas line(L1). A temperature controller(48) for constantly maintaining the internal temperature of the chamber(44) is mounted on a wall of the chamber(44). A mass flow controller(50) is mounted on the first gas line(L1) to control the gas amount flowing in the chamber(44) through the first gas line(L1).
摘要翻译：目的：提供化学过滤器的评估系统和使用其的化学过滤器的评估方法，以便能够评估化学过滤器本身中污染物质的存在。构成：室（44）与外部污染源隔离，并且具有与洁净室相同的内部条件。第一气体管线（L1）连接到腔室（44）的一侧。第二气体管线（L2）连接到腔室（44）的另一侧以与第一气体管线（L1）相对。用于恒定地保持室（44）的内部温度的温度控制器（48）安装在室（44）的壁上。质量流量控制器（50）安装在第一气体管线（L1）上，以通过第一气体管线（L1）控制在室（44）中流动的气体量。

5. 发明授权

KR100265285B1 정전기 센서를 이용한 표면 정전기 분포상태 측정방법과 장치 및 표면 정전기 분포상태 측정 시스템 失效
标题翻译：使用静电传感器的表面静电分布状态测量方法和系统
公开(公告)号：KR100265285B1
公开(公告)日：2000-09-15
申请号：KR1019970079195
申请日：1997-12-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김태호 , 김재봉 , 이순영 , 김기두
IPC分类号： G01R22/00
摘要： PURPOSE: An apparatus for measuring a surface electrostatic distribution state is provided to analyze a static electricity to a whole surface of a target such as a wafer or glass using a line sensing assembly having a plurality of electrostatic sensors and a flat sensing assembly having a matrix structure of electrostatic sensor. CONSTITUTION: In an apparatus for measuring a surface electrostatic distribution state, a transverse directional driving device has an electrostatic sensor for measuring a single position of static electricity thereunder, wherein the first reciprocating body(10) thereof is hold, guided and driven with reciprocating motion to the first guide axis. A vertical directional driving device moves and guides the first and second reciprocating devices(18,20) with a transverse direction to the second and third guide axises, wherein the first and second reciprocating devices fix the first guide axis in both transverse directional ends. A base member has an upper holding part, an under holding part(30,32) and a holding plate(34), wherein the upper and under parts hold the second and third guide axises in both vertical ends and the holding plate has a flat plate for placing the target thereon and is located between the upper and under parts.
摘要翻译：目的：提供一种用于测量表面静电分布状态的装置，以使用具有多个静电传感器的线感测组件和具有矩阵的平面感测组件来分析诸如晶片或玻璃的靶的整个表面的静电静电传感器结构。构成：在用于测量表面静电分布状态的装置中，横向驱动装置具有静电传感器，用于测量下述静电的单个位置，其中第一往复运动体（10）通过往复运动保持，引导和驱动到第一引导轴。垂直方向驱动装置沿着与第二和第三导向轴线的横向移动并引导第一和第二往复运动装置（18,20），其中第一和第二往复运动装置将第一导向轴线固定在两个横向端部。基座部件具有上保持部，下保持部（30,32）和保持板（34），其中，上下部在两个垂直端保持第二和第三引导轴线，并且保持板具有平坦部用于将目标放置在其上并位于上部和下部之间的板。

6. 发明公开

KR1019990059000A 정전기 센서를 이용한 표면 정전기 분포상태 측정방법과 장치 및 표면 정전기 분포상태 측정 시스템 失效
标题翻译：使用静电传感器和表面静电分散状态测量系统的表面静电分散状态测量方法和装置
公开(公告)号：KR1019990059000A
公开(公告)日：1999-07-26
申请号：KR1019970079195
申请日：1997-12-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김태호 , 김재봉 , 이순영 , 김기두
IPC分类号： G01R22/00
摘要： 반도체 제조 공정 중에 웨이퍼나 글래스(Glass)와 같은 부도체의 표면에 발생되는 정전기(Static Electricty)를 정전기 센서를 이용한 스캐닝으로 평면적 분포 상태를 분석하는 정전기 센서를 이용한 표면 정전기 분포 상태 측정 방법과 장치 및 표면 정전기 분포 상태 측정 시스템에 관한 것르로서, 정전기 센서 또는 정전기 센서가 소정 열 또는 평면으로 구성된 라인 센싱 어셈블리나 평면 센싱 어셈블리를 이용하여 웨이퍼나 글래스와 같은 부도체 재질의 대상물의 소정 평면에 대한 정전기의 전위 분포를 측정하고 그 데이터를 저장하고 차트화 또는 방전에 이용함으로써 효과적으로 부도체 평면에 대한 정전기 분포를 판단하여 그에 대한 대책을 강구할 수 있고, 그에 따른 수율의 향상을 꾀할 수 있다.

7. 发明公开

KR1020160076869A 전자제품 审中-实审
标题翻译：电子器具
公开(公告)号：KR1020160076869A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：KR1020140187458
申请日：2014-12-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강정혜 , 배아현 , 김기두 , 김진오
IPC分类号： G02F1/1335 , G06F3/041 , H01L33/00
CPC分类号： G02B6/0076 , F21V23/04 , F21V33/0044 , G02B6/0023 , G02B6/0055 , G02B6/0065 , G02B6/0068 , G02B6/0083 , G02B6/0093 , G09F13/18 , G09F23/0058 , G09F2013/185 , G09F2013/1863 , G09F2013/222 , G02F1/133524 , G02F1/133512 , G02F1/133553 , G06F3/041 , H01L33/00
摘要： 다중이미지(multi-image) 전환이가능하도록개선된구조를가지는전자제품을개시한다. 전자제품은복수의이미지를표시하는표시장치를가지고, 상기표시장치는서로선택적으로표시되는제 1이미지및 제 2이미지, 상기화면과인접하도록배치되는제 1도광층, 상기제 1도광층을사이에두고상기화면과마주하도록배치되는제 2도광층및 상기제 1도광층및 상기제 2도광층에선택적으로조광할수 있도록배치되는적어도하나의광원을포함하고, 상기광원에서발산되어상기제 2도광층으로유입되는광량이상기광원에서발산되어상기제 1도광층으로유입되는광량보다많도록상기제 2도광층은상기제 1도광층의두께보다 25%이상 45%이하더 두꺼운두께를가지는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了具有能够执行多图像转换的改进结构的电子设备。根据本发明的实施例的电子设备包括显示多个图像的显示装置。显示装置包括：第一图像和第二图像，以选择性地彼此显示; 布置成与屏幕相邻的第一导光层; 第二导光层，其通过在其间具有第一导光层而布置成面对屏幕; 以及至少一个光源，其布置成选择性地照亮所述第一导光层或所述第二导光层，其中所述第二导光层的厚度比所述第一导光层的厚度大至少25％且至多45％导光层，使得从第二导光层接收的光源发射的光量大于从光源发射并由第一导光层接收的光量。

8. 发明公开

KR1020100062392A 반도체 제조설비 및 그의 제조방법 无效
标题翻译：制造半导体器件的设备及其制造方法
公开(公告)号：KR1020100062392A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：KR1020080121013
申请日：2008-12-02
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오형섭 , 김기두 , 김혁기 , 안요한 , 이민선 , 이우용
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/00 , H01L21/48
CPC分类号： H01L21/67772 , H01L21/67265
摘要： PURPOSE: Machines and a method for manufacturing semiconductor devices are provided to increase or maximize a production yield by emitting a purge gas between a plurality of wafers mounted inside of a front opening unified pod(FOUP) in order to increase purge efficiency. CONSTITUTION: An FOUP(10) in which a plurality of wafers(1) is mounted is loaded on a load port(20). A process module(50) performs semiconductor manufacturing processes of the wafer. A transfer module(40) successively transfers the wafer between the process module and the load port. A machine front end module(30) provides a cleaning space between the process module and the load port. The machine front end module includes an opener which opens and closes the door of the FOUP. A purge module(60) purges inside of the FOUP.
摘要翻译：目的：提供用于制造半导体器件的机器和方法，以通过在安装在前开口统一容器（FOUP）内部的多个晶片之间发射吹扫气体来增加或最大化生产产量，以便提高净化效率。构成：其中安装有多个晶片（1）的FOUP（10）被装载在负载端口（20）上。处理模块（50）执行晶片的半导体制造工艺。传送模块（40）在处理模块和负载端口之间依次传送晶片。机器前端模块（30）在处理模块和装载端口之间提供清洁空间。机器前端模块包括打开和关闭FOUP的门的开启器。吹扫模块（60）清洗FOUP内部。

9. 发明授权

KR100583726B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 失效
标题翻译：基板处理装置及基板处理方法
公开(公告)号：KR100583726B1
公开(公告)日：2006-05-25
申请号：KR1020030079859
申请日：2003-11-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김혁기 , 이건형 , 이옥선 , 김기두 , 조창민
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/67772 , H01L21/67775
摘要： 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 FOUP이 놓여지는 스테이지와 FOUP 도어를 개폐하는 도어 오프너를 가진다. 도어 오프너는 FOUP 도어와 결합되어 FOUP 도어를 FOUP으로부터 분리하는 도어 홀더를 가지며, 도어 홀더에는 FOUP 도어에 형성된 유입홀을 통해 FOUP 내로 질소가스를 분사하는 분사구와 FOUP 내의 공기가 배기되는 배기구가 형성된다.
FOUP, 도어 오프너, 도어 홀더, 분사구, 불활성 가스, 배기구, 로드포트
摘要翻译：基板处理装置技术领域本发明涉及一种基板处理装置，其具有载置FOUP的载台和用于开闭FOUP门的开门器。门开启器与FOUP门接合具有用于从FOUP分离FOUP门的门架，所述门架已经通过形成在FOUP门入口孔形成的排出口是在喷射口的空气和FOUP用于注入氮气到FOUP排气。

10. 发明公开

KR1020010057478A 간이 청정 작업대 无效
标题翻译：简单清洁
公开(公告)号：KR1020010057478A
公开(公告)日：2001-07-04
申请号：KR1019990060920
申请日：1999-12-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박경호 , 이옥선 , 류재준 , 김기두
IPC分类号： H01L21/02
摘要： PURPOSE: A simple clean bench is provided to minimize an accumulation of impure particles due to an eddy of the outside air at a sharp corner of a clean room. CONSTITUTION: The simple clean bench includes the first structure defining a space into which the outside air flows, and the second structure(6) formed on the first structure and defining the clean room(6a). The first structure has a pre-filter, while the second structure(6) has a HEPA filter(5). In addition, an operation table is interposed between the first and second structures, and a ventilating motor(4) is disposed on the front of the first structure. Particularly, the simple clean bench further includes a roundish air guide(7) formed at the corner of the clean room(6a) near both sides of the HEPA filter(5), so that the outside air flowing into the cleaning room(6a) is prevented from moving in an eddy.
摘要翻译：目的：提供一个简单的洁净台，以便在洁净室的尖角处由于外部空气的涡流而使不纯的颗粒积聚最小化。构成：简单的清洁台包括限定外部空气流动的空间的第一结构和形成在第一结构上并限定洁净室（6a）的第二结构（6）。第一结构具有预过滤器，而第二结构（6）具有HEPA过滤器（5）。此外，在第一和第二结构之间插入操作台，并且在第一结构的前部设置通风电动机（4）。特别地，简单的清洁工作台还包括形成在洁净室（6a）的靠近HEPA过滤器（5）两侧的角落处的圆形空气引导件（7），使得流入清洁室（6a）的外部空气被防止在涡流中移动。

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