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1. 发明授权

KR101058237B1 기판 지지 장치 失效
公开(公告)号：KR101058237B1
公开(公告)日：2011-08-22
申请号：KR1020090030408
申请日：2009-04-08
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 조영웅 , 임종현 , 채성병 , 김민수 , 유선중
IPC分类号： H05K13/02 , G03F7/30
摘要： 기판 지지 장치가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 프레임(frame), 프레임에 결합되며, 사이에 기판이 개재되도록 간격이 조절 가능한 한 쌍의 클램프(clamp), 및 한 쌍의 클램프의 일단부에 서로 대향하도록 각각 형성되어 기판을 지지하며, 단부로 갈수록 단면적이 감소하는 한 쌍의 돌기를 포함하는 기판 지지 장치가 제공된다. 이에 따르면, 기판의 습식 공정을 위해 기판을 지지하는 장치에 있어서, 기판의 손상 및 미현상을 최소화할 수 있다.
기판, 지지, 클램프

2. 发明公开

KR1020110051419A 에칭노즐장치 및 이를 이용한 에칭장치 失效
标题翻译：使用喷嘴装置和使用其的装置
公开(公告)号：KR1020110051419A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：KR1020090107985
申请日：2009-11-10
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 나동호 , 정영철 , 유선중 , 송상민 , 조영웅 , 박우철
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H05K3/002 , B05B13/04
摘要： PURPOSE: An etching nozzle device and an etching device using the same are provided to control the spray uniformity and spray pressure of an etching nozzle by vertically or horizontally moving the etching nozzle on both surfaces of an erected substrate. CONSTITUTION: A nozzle frame(10) is formed along the vertical direction of a substrate(5). A hole(11) is formed on both ends of the nozzle frame. A connection frame(20) is combined with the upper and lower ends of the nozzle frame. A fixed frame(30) is combined with both ends of the connection frame. An etching nozzle(40) is installed on the nozzle frame to move up and down.
摘要翻译：目的：提供一种蚀刻喷嘴装置和使用其的蚀刻装置，以通过在竖立的基板的两个表面上垂直或水平移动蚀刻喷嘴来控制蚀刻喷嘴的喷雾均匀性和喷射压力。构成：沿着基板（5）的垂直方向形成喷嘴框架（10）。在喷嘴框架的两端形成孔（11）。连接框架（20）与喷嘴框架的上端和下端相结合。固定框架（30）与连接框架的两端组合。在喷嘴框架上安装蚀刻喷嘴（40）以上下移动。

3. 发明公开

KR1020110010965A 수직이송 지그 및 이를 이용한 습식에칭 설비 无效
标题翻译：垂直传送装置和使用其进行湿蚀刻的装置
公开(公告)号：KR1020110010965A
公开(公告)日：2011-02-08
申请号：KR1020090068362
申请日：2009-07-27
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 유선중 , 정영철 , 채성병 , 조영웅
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/30 , H05K3/06
CPC分类号： H01L21/67706 , H01L21/67075 , H01L21/6708 , H01L21/67712 , H05K3/061
摘要： PURPOSE: A vertical transport jig and a wet etching device thereof are provided to remove the contact between a facility driving part and a substrate by executing a wet etching process after loading the substrate in a vertical direction. CONSTITUTION: A vertical transport jig comprises a frame, a frame supporter, and a substrate fixture. A first vertical nozzle part(310) sprays an etchant onto one side of a substrate. A second vertical nozzle part(320) sprays an etchant onto the other side of the substrate. The transport device part transfers the vertical transport jig to be upright by being contacted with the frame supporter. A loading device part positions the substrate on the frame in order to vertically fix the substrate on the frame of the vertical transport jig.
摘要翻译：目的：提供垂直输送夹具及其湿式蚀刻装置，通过在垂直方向上装载基板之后执行湿式蚀刻工艺来去除设备驱动部件和基板之间的接触。构成：垂直输送夹具包括框架，框架支撑件和基板夹具。第一垂直喷嘴部分（310）将蚀刻剂喷射到基板的一侧上。第二垂直喷嘴部分（320）将蚀刻剂喷射到基板的另一侧上。运输装置部件通过与框架支撑件接触来传送立式运输夹具以直立。加载装置部件将基板定位在框架上，以将基板垂直地固定在垂直传送夹具的框架上。

4. 发明授权

KR101113507B1 에칭노즐장치 및 이를 이용한 에칭장치 失效
标题翻译：蚀刻喷嘴装置及使用其的蚀刻装置
公开(公告)号：KR101113507B1
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：KR1020090107986
申请日：2009-11-10
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 나동호 , 정영철 , 조영웅 , 유선중 , 박우철
IPC分类号： H01L21/306
摘要： 본 발명의 제1 실시예에 따른 에칭노즐장치는 직립된 기판의 양면에 구비되어 에칭액을 분사하는 에칭노즐; 및 상기 기판과 상기 에칭노즐 사이에 구비되며, 상기 에칭노즐에서 에칭액 분사가 정지되면 상기 기판으로 상기 에칭노즐의 잔류 에칭액의 흐름을 차단하는 에칭액 차단부;를 포함할 수 있다.
摘要翻译：根据本发明的第一实施方式的蚀刻喷嘴装置包括设置在立式基板的两侧上的蚀刻喷嘴以喷射蚀刻液; 蚀刻剂阻挡单元设置在基板和蚀刻喷嘴之间，以在蚀刻液不从蚀刻喷嘴喷射时阻止蚀刻剂喷嘴中残留的蚀刻剂流到基板。

5. 发明授权

KR101113409B1 에칭노즐장치 및 이를 이용한 에칭장치 失效
标题翻译：使用它的喷嘴装置和装置
公开(公告)号：KR101113409B1
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：KR1020090107985
申请日：2009-11-10
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 나동호 , 정영철 , 유선중 , 송상민 , 조영웅 , 박우철
IPC分类号： H01L21/306
摘要： 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭노즐장치는 기판과 이격되어 설치되는 노즐프레임; 및 상기 노즐프레임과 이동가능하게 결합되며, 외부에서 제공되는 에칭액을 상기 기판에 분사하는 에칭노즐;을 포함할 수 있다.

6. 发明公开

KR1020110051420A 에칭노즐장치 및 이를 이용한 에칭장치 失效
标题翻译：使用喷嘴装置和使用其的装置
公开(公告)号：KR1020110051420A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：KR1020090107986
申请日：2009-11-10
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 나동호 , 정영철 , 조영웅 , 유선중 , 박우철
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： B05B15/16 , H05K3/002
摘要： PURPOSE: An etching nozzle device and an etching device using the same are provided to prevent the surface defects due to remaining etchant by blocking the flow of the remaining etchant from the etching nozzle to a substrate. CONSTITUTION: An etching nozzle(10) is vertically installed in a nozzle frame(20). The nozzle frame is formed along the vertical direction of an erected substrate. An etching nozzle unit(50) includes a connection frame(30), a fixed frame(40), and a guide groove(22,32,42). The connection frame is formed in the left and right directions of the substrate. An etchant blocking unit(60) is rotatably combined with a support stand(65).
摘要翻译：目的：提供一种蚀刻喷嘴装置和使用其的蚀刻装置，以通过阻止剩余的蚀刻剂从蚀刻喷嘴流到衬底来防止由于残留的蚀刻剂引起的表面缺陷。构成：蚀刻喷嘴（10）垂直地安装在喷嘴框架（20）中。喷嘴框沿垂直基板的垂直方向形成。蚀刻喷嘴单元（50）包括连接框架（30），固定框架（40）和引导槽（22,32,42）。连接框架形成在基板的左右方向上。蚀刻剂阻挡单元（60）可旋转地与支撑架（65）组合。

7. 发明公开

KR1020100111925A 기판 지지 장치 失效
标题翻译：支撑基板的装置
公开(公告)号：KR1020100111925A
公开(公告)日：2010-10-18
申请号：KR1020090030408
申请日：2009-04-08
申请人： 삼성전기주식회사 , 엠파워(주)
发明人： 조영웅 , 임종현 , 채성병 , 김민수 , 유선중
IPC分类号： H05K13/02 , G03F7/30
摘要： PURPOSE: In order to be over the time cross section, it diminishes to the end part which is close a pair of protrusions with substrate the substrate support device forms. CONSTITUTION: A pair of clamp(120, 130) is combined in the frame(110). The substrate(170) is allowed in between a pair of clamps. A pair of protrusions(140, 150) is formed in order to each other face in one end of a pair of clamps. A pair of protrusions supports substrate. In one end part among a pair of protrusions, the groove(142) is formed in order to be corresponded to the location of the end part of the other one.
摘要翻译：目的：为了超越时间横截面，它减少到与基板支撑装置形成的基板相邻的一对突起的端部。构成：一对夹具（120,130）组合在框架（110）中。衬底（170）被允许在一对夹具之间。一对突起（140,150）在一对夹具的一端形成为彼此面对。一对突起支撑基板。在一对突起中的一端部形成有与另一方的端部的位置对应的槽（142）。

8. 发明公开

KR1020100052783A 기판이송장치 失效
标题翻译：基座运输装置
公开(公告)号：KR1020100052783A
公开(公告)日：2010-05-20
申请号：KR1020080111637
申请日：2008-11-11
申请人： 엠파워(주)
发明人： 임종현 , 정영철 , 김성화 , 이상광 , 한재선 , 박태우 , 유영종 , 이선호 , 홍형석 , 유선중 , 채성병 , 조영웅
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67706 , H01L21/67712 , H01L21/68728
摘要： PURPOSE: A substrate transfer apparatus is provided to protect the surface of a substrate from damaging by supporting the substrate using an elastic unit. CONSTITUTION: A chucking unit(120) chucks the outer circumference of a substrate which is vertically introduced from the outside. The chucking unit is pressurized by a pressurization unit. The chucking unit includes driving tweezers, an elastic unit, a support block and a reference axis. A frame(110) includes a pair of support frames(112) and a pair of horizontal frames. The elastic unit is a coil spring.
摘要翻译：目的：提供一种基板传送装置，用于通过使用弹性单元支撑基板来保护基板的表面免受损坏。构成：夹持单元（120）卡住从外部垂直引入的基板的外周。夹紧单元由加压单元加压。夹持单元包括驱动镊子，弹性单元，支撑块和参考轴。框架（110）包括一对支撑框架（112）和一对水平框架。弹性单元是螺旋弹簧。

9. 发明授权

KR101015937B1 기판이송장치 失效
标题翻译：基板输送装置
公开(公告)号：KR101015937B1
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：KR1020080111637
申请日：2008-11-11
申请人： 엠파워(주)
发明人： 임종현 , 정영철 , 김성화 , 이상광 , 한재선 , 박태우 , 유영종 , 이선호 , 홍형석 , 유선중 , 채성병 , 조영웅
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/677
摘要： 본 발명에 의하면, 외부로부터 수직하게 투입된 기판 외주면을 척킹하는 다수개의 척킹부재; 및 지지 프레임 및 수평 프레임에 의해 상기 척킹부재가 구비되는 프레임;을 포함하여 이루어진다.
본 발명에 의하면, 기판 이송을 수직으로 이송하며 기판 상에 공정을 실시하게 함으로써 기판이 이송과정중 이송수단에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있게 하는 효과가 있다.
기판, 로딩, 언로딩, 수직, 척킹부재

10. 发明授权

KR101238251B1 회로기판 제조방법 有权
标题翻译：电路板制造方法
公开(公告)号：KR101238251B1
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：KR1020100108238
申请日：2010-11-02
申请人： 삼성전기주식회사
发明人： 성기정 , 김굉식 , 조영웅 , 와타나베리오이치 , 김민수 , 이정한
IPC分类号： H05K3/06 , H05K3/18
摘要： 회로기판 제조방법이 개시된다. 무전해도금으로 형성된 시드층 및 전해도금으로 시드층에 형성된 회로패턴이 적층된 기판을 제공하는 단계, 회로패턴보다 시드층에 대한 에칭 비율이 큰 제1 에칭액으로 시드층을 1차로 에칭하는 단계, 제1 에칭액보다 회로패턴에 대한 에칭 비율이 큰 제2 에칭액으로 시드층을 2차로 에칭하는 단계를 포함하는 회로기판 제조방법은, 시드층 및 회로패턴에 대한 과도한 에칭을 방지하여, 언더컷 발생 및 회로패턴 폭의 감소를 최소화할 수 있다.

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