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1. 发明公开

KR1020080036427A 증착 장치 无效
标题翻译：溅射装置
公开(公告)号：KR1020080036427A
公开(公告)日：2008-04-28
申请号：KR1020060102999
申请日：2006-10-23
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 김형민 , 김재중 , 최용중 , 이정열
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： H01L51/56 , H01L51/52
摘要： A deposition apparatus is provided to improve uniformity of a film thickness by using a mesh through which a deposition material is evaporated to be passed. A substrate(25) for deposition is loaded on a deposition chamber(10). A substrate fixing unit(20) is arranged on an upper side in the deposition chamber to fix the substrate. A furnace(30) is arranged on a lower side in the deposition chamber to receive a deposition material. A mesh(40) is arranged between the substrate fixing unit and the furnace so that the deposition material is evaporated to be passed through the mesh. The mesh forms a collection region that is formed by collecting plural openings having a same dimension. The plural collection regions include a first collection region and a second collection region. A dimension of the opening formed on the first collection region is different from that of the opening formed on the second collection region.
摘要翻译：提供了一种沉积设备，通过使用通过蒸镀的蒸镀材料的网来提高膜厚的均匀性。用于沉积的基板（25）被装载在沉积室（10）上。基板固定单元（20）布置在沉积室的上侧以固定基板。在沉积室中的下侧设置炉（30）以接收沉积材料。在基板固定单元和炉之间布置有网格（40），使得沉积材料蒸发以通过网格。网形成通过收集具有相同尺寸的多个开口形成的收集区域。多个收集区域包括第一收集区域和第二收集区域。形成在第一收集区域上的开口的尺寸与形成在第二收集区域上的开口的尺寸不同。

2. 发明公开

KR1020070054871A 유기박막 증착장치 有权
标题翻译：沉积有机薄膜的设备
公开(公告)号：KR1020070054871A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：KR1020050112939
申请日：2005-11-24
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 김재중 , 유경태 , 김형민 , 이정열 , 박준영
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/26 , H01L51/001 , H01L51/56
摘要： 본 발명은 이동이 가능한 증착소스유닛 및 각도제한부재를 구비하여 균일한 유기박막을 형성할 수 있는 유기박막 증착장치를 제공하는 것을 목적으로 하며, 이 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 유기물 가스를 방출하며 증착 공정 시 이동이 가능한 증착소스유닛과, 적어도 일부가 상기 유기물 가스의 방출경로 상에 형성되어 상기 유기물 가스의 방출방향의 각도를 제한하는 각도제한부재와, 상기 증착소스유닛 및 상기 각도제한부재를 이동시키는 이송수단을 포함하는 유기박막 증착장치를 제공한다.

3. 发明授权

KR100684739B1 유기물 증착장치 有权
标题翻译： 유기물증착장치
公开(公告)号：KR100684739B1
公开(公告)日：2007-02-20
申请号：KR1020050111657
申请日：2005-11-22
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 최용중 , 김재중 , 김형민 , 이정열
IPC分类号： C23C14/12 , C23C14/24
摘要： An organic matter depositing equipment capable of effectively extending the life of a film thickness sensor while preventing sensing flaws of film thickness is provided. An organic matter depositing equipment comprises: a deposition chamber; a substrate mounting part disposed in an upper part within the deposition chamber; a crucible which is disposed in a lower part within the deposition chamber, and in which a deposition material is filled; a film thickness sensor(50) for sensing a film thickness of the deposition material that is evaporated from the crucible and deposited on a substrate of the substrate mounting part; and a chopper(60') comprising a plate(64') having a plurality of holes(62') formed on a concentric circle thereof and meshes(66'a-66'd) with set opening ratios adhered to the holes, wherein the chopper is installed adjacently to a lower part of the film thickness sensor. The chopper further comprises a cover(68') installed adjacently to a lower part of the chopper to allow only a selected mesh to be exposed to the deposition material.
摘要翻译：本发明提供一种能够有效延长膜厚传感器的使用寿命，同时防止膜厚感应缺陷的有机物存放设备。有机物沉积设备包括：沉积室; 衬底安装部分，设置在沉积室内的上部; 坩埚，其设置在沉积室内的下部，并且其中填充有沉积材料; 膜厚度传感器（50），用于感测从坩埚蒸发并沉积在基底安装部分的基底上的沉积材料的膜厚度; 和包括具有形成在其同心圆上的多个孔（62'）的板（64'）和具有固定开口比的孔眼的网眼（66'a-66'd）的切碎器（60'），其中，斩波器邻近薄膜厚度传感器的下部安装。切碎机还包括邻近切碎机的下部安装的盖子（68'），以仅允许选定的网状物暴露于沉积材料。

4. 发明授权

KR100637226B1 증착 마스크 및 이를 이용한 증착 방법 有权
标题翻译： 증착마스크및이를이용한증착방법
公开(公告)号：KR100637226B1
公开(公告)日：2006-10-23
申请号：KR1020050045617
申请日：2005-05-30
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 남궁성태 , 김형민 , 금지환 , 조영수 , 지창순
IPC分类号： H05B33/10
摘要： A deposition mask and a deposition method using the same are provided to deposit a thin film with an accurate thickness on a substrate by suppressing erroneous operation of a film thickness monitoring unit. A deposition mask includes plural unit masks(115) and at least one film thickness measuring aperture(111). The unit masks have plural apertures. The film thickness measuring aperture is formed on a region except for an effective region, on which the unit masks are arranged. The deposition mask is fixed on a mask support portion having a hollow frame-like structure. A deposition process is performed on the effective region of a substrate. The film thickness measuring aperture is formed between an outer portion of the effective region and an inner portion of a region, where the deposition mask is fixed on the mask support portion.
摘要翻译：通过抑制膜厚监视单元的错误操作，提供沉积掩模和使用其的沉积方法，以在衬底上沉积具有精确厚度的薄膜。沉积掩模包括多个单元掩模（115）和至少一个膜厚测量孔径（111）。单元掩模具有多个孔。膜厚度测量孔形成在除了布置有单位掩模的有效区域之外的区域上。沉积掩模固定在具有中空框架状结构的掩模支撑部分上。在衬底的有效区域上执行沉积工艺。膜厚度测量孔形成在有效区域的外部与其中沉积掩模固定在掩模支撑部分上的区域的内部之间。

5. 发明授权

KR100805526B1 박막 증착장치 및 이를 이용한 박막 증착방법 失效
标题翻译：薄膜蒸发装置及其薄膜蒸发方法
公开(公告)号：KR100805526B1
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：KR1020060042321
申请日：2006-05-11
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박석환 , 정경훈 , 권윤상 , 유경태 , 김형민
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 본 발명은 풀컬러(full-color) 구현을 위해 기판 상에 유기박막을 형성할 시에, 배치(Batch) 타입으로 하나의 기판에 증착될 양의 각각의 증착물질을 증발원 내부에 위치시키고, 기판 장착 후, 펌핑(Pumping), 증착(deposition) 및 기판 취출(Vent)을 한 라인(line)에서 연속적으로 수행할 수 있는 박막 증착장치 및 이를 이용한 박막 증착방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박막 증착장치는 내부를 진공으로 유지시키는 펌프부를 구비하며, 기판 상에 증착물질을 증착하는 공정을 수행하는 적어도 하나의 챔버; 상기 챔버 내부에 증착물질이 증착될 상기 기판 및 마스크를 지지하는 기판홀더; 상기 챔버 내부에 상기 기판과 대향하도록 설치되고, 적어도 하나의 증착물질을 수납ㆍ가열하여 증발시키는 다중 증착물질 도가니와, 상기 증착물질 중 선택되는 어느 하나를 국부적으로 가열하는 가열부를 구비하는 증발원; 및 상기 챔버를 적어도 하나의 챔버 안착 위치에 순차적으로 이동시키는 챔버 이동 수단;을 포함한다. 이러한 구성에 의하여, 증착물질의 가열 및 승온에 걸리는 시간을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 간단한 챔버 구성에 의해 제작비 및 운영비를 저감할 수 있다.
박막 증착장치, 챔버 이동 수단, 챔버 안착 위치

6. 发明授权

KR100709265B1 유기물 증착장치 및 증착 방법 有权
标题翻译：有机材料沉积装置和沉积方法
公开(公告)号：KR100709265B1
公开(公告)日：2007-04-19
申请号：KR1020050111661
申请日：2005-11-22
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 이정열 , 김형민 , 최용중 , 김재중
IPC分类号： C23C14/12 , C23C14/24
摘要： 막 두께 감지 센서의 수명을 연장시킬 수 있는 유기물 증착장치 및 증착 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 증착 방법은 막 두께 감지 센서의 인접 하부에 셔터를 설치하고, 증착 시간 동안에는 상기 셔터를 증착 위치에 위치시키며, 비증착 시간 동안에는 상기 셔터를 비증착 위치에 위치킨다. 이로써, 비증착 시간 동안 증착 물질이 막 두께 감지 센서에 증착되는 것이 방지된다.
오엘이디, 유기, 발광, 증착, 메쉬, 셔터
摘要翻译：本发明提供一种能够延长膜厚传感器的使用寿命的有机材料蒸镀装置以及蒸镀方法。根据本发明的一个实施例的沉积方法被安装相邻于厚度检测传感器的下部快门膜，sikimyeo位置在沉积位置，只要沉积时间的快门，有点位置期间在非沉积站非沉积时间的快门。结果，防止沉积材料在非沉积时间期间沉积在膜厚度感测传感器上。

7. 发明公开

KR1020070028183A 가열용기와 이를 이용한 증착장치 有权
标题翻译：加热可溶性和沉积物使用它们
公开(公告)号：KR1020070028183A
公开(公告)日：2007-03-12
申请号：KR1020050083429
申请日：2005-09-07
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 남궁성태 , 금지환 , 지창순 , 김형민 , 조영수
IPC分类号： H05B33/10 , C23C14/24
CPC分类号： H01L51/001 , C23C2/003 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/529 , H01L51/56 , H01L2924/12044
摘要： A heating crucible and a deposit apparatus utilizing the same are provided to eliminate a dim phenomenon during an imaging and a pattern error while forming a deposition pattern on a substrate by preventing an organic compound mass from being deposited on the substrate. In a heating crucible of a deposit apparatus, a main body(310) comprises a space(321) accommodating an organic compound and a nozzle unit(311) through which the evaporated organic compound is discharged. A first inner plate(330) installed in the main body(310) includes a first opening unit through which the evaporated organic compound passes to correspond to the nozzle unit(311). A second inner plate(340) installed on an upper face of the first inner plate inside the main body(310) includes a second opening unit(341) arranged to cross with the first opening unit of the first inner plate(330).
摘要翻译：提供加热坩埚和使用该加热坩埚的沉积装置，以通过防止有机化合物堆积在基板上而在基板上形成沉积图案时在成像期间消除暗淡现象和图案错误。在沉积装置的加热坩埚中，主体（310）包括容纳有机化合物的空间（321）和排出有机化合物的喷嘴单元（311）。安装在主体（310）中的第一内板（330）包括第一打开单元，蒸发的有机化合物通过该第一打开单元对应于喷嘴单元（311）。安装在主体（310）内的第一内板的上表面上的第二内板（340）包括布置成与第一内板（330）的第一开口单元交叉的第二开口单元（341）。

8. 发明授权

KR100658731B1 증발원 및 이를 구비하는 유기물 증착장치 有权
标题翻译： 증발원및이를구비하는유기물증착장치
公开(公告)号：KR100658731B1
公开(公告)日：2006-12-15
申请号：KR1020050111660
申请日：2005-11-22
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 이정열 , 최용중 , 김재중 , 김형민
IPC分类号： H05B33/10 , C23C14/24
摘要： An evaporation source and an organic matter sputtering apparatus with the same are provided to prevent a deformation of crucible occurring in a cleansing process with a sand process. In an evaporation source, a crucible(10) is arranged in a lower part of a deposition chamber. An anti-sticking board(20) is arranged in the crucible(10) and is filled with a deposition material inside. A heat source(40) heats the crucible(10). The crucible(10) comprises a lower crucible(14) equipped with the heat source(40) and an upper crucible(12) coupled at an upper part of the lower crucible(14).
摘要翻译：提供一种蒸发源和具有该蒸发源的有机物溅射设备，以防止在利用砂处理的清洁处理中发生坩埚变形。在蒸发源中，坩埚（10）布置在沉积室的下部。坩埚（10）内设有防粘板（20），内部填充有沉积材料。热源（40）加热坩埚（10）。坩埚（10）包括配备有热源（40）的下坩埚（14）和连接在下坩埚（14）上部的上坩埚（12）。

9. 发明授权

KR100649200B1 박막 증착장치 有权
标题翻译： 박막증착장치
公开(公告)号：KR100649200B1
公开(公告)日：2006-11-24
申请号：KR1020050111659
申请日：2005-11-22
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 이정열 , 심상진 , 최용중 , 김재중 , 김형민
IPC分类号： C23C14/34
摘要： A thin film deposition apparatus capable of preventing thin films with irregular thicknesses from being formed on substrates by characteristics of a film thickness sensor is provided. A thin film deposition apparatus comprises: a deposition chamber; a substrate mounting part disposed in an upper part within the deposition chamber; a crucible which is disposed in a lower part within the deposition chamber, and in which a deposition material is filled; a film thickness sensor(50) having plural crystal sensors(58) to sense a film thickness of the deposition material that is evaporated in the crucible and deposited on a substrate of the substrate mounting part; and a control part for outputting a sensor exchange signal for exchanging a crystal sensor that needs to be exchanged, and controlling a deposition temperature by receiving an electric signal from the crystal sensors to maintain a thin film deposition ratio to a set value. The film thickness sensor comprises: a sensor installation frame(52) mounted in the chamber; a chopper installation frame(54) formed on the sensor installation frame; a chopper(56) and a motor(M2) installed on the chopper installation frame.
摘要翻译：提供了一种薄膜沉积设备，其能够通过膜厚度传感器的特性防止在基板上形成具有不规则厚度的薄膜。薄膜沉积设备包括：沉积室; 衬底安装部分，设置在沉积室内的上部; 坩埚，其设置在沉积室内的下部，并且其中填充有沉积材料; 具有多个晶体传感器（58）的膜厚度传感器（50），用于检测在坩埚中蒸发并沉积在基板安装部分的基板上的沉积材料的膜厚度; 以及控制部分，用于输出用于交换需要交换的晶体传感器的传感器交换信号，并且通过从晶体传感器接收电信号来控制沉积温度，以将薄膜沉积比保持为设定值。膜厚度传感器包括：安装在腔室中的传感器安装框架（52）在传感器安装框架上形成的斩波器安装框架（54）安装在斩波器安装框架上的斩波器（56）和电动机（M2）。

10. 发明授权

KR100823508B1 증발원 및 이를 구비한 증착 장치 有权
标题翻译：蒸发源和有机物喷雾装置
公开(公告)号：KR100823508B1
公开(公告)日：2008-04-21
申请号：KR1020060101913
申请日：2006-10-19
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 김형민 , 최용중 , 김재중 , 이정열 , 심상진
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： H01L51/56 , C23C14/243
摘要： An evaporation source is provided to minimize a temperature deviation in a high-capacity crucible by installing a heater structure in a crucible wherein the heater structure is divided in each section of the crucible. A deposition material is positioned in a crucible whose upper surface(10a) is partially opened. A nozzle part(20) has an opening(11) for injecting the deposition material, connected to the open portion of the crucible. A heater supplies heat to the crucible. At least one partition(15a,15b) is formed in the crucible, connected to the bottom surface of the crucible and separated from the upper surface of the crucible. The partition is separated from the inner lateral surface of the crucible to divide the inner space of the crucible into a plurality of spaces. The upper surface of the crucible and the horizontal section of the partition are made of circular types, and an interval between the partitions is the same as that between the partition and the inner lateral surface of the crucible. The heater can include an upper heater(30) formed on the circumference of the nozzle part, a first lower heater(31) surrounding the outer lateral surface of the crucible, and a second lower heater(32) installed in the partition.
摘要翻译：提供蒸发源以通过在坩埚中安装加热器结构来最小化高容量坩埚中的温度偏差，其中加热器结构在坩埚的每个部分中分开。沉积材料位于其上表面（10a）部分打开的坩埚中。喷嘴部分（20）具有用于喷射沉积材料的开口（11），连接到坩埚的开放部分。加热器为坩埚提供热量。在坩埚中形成有至少一个分隔壁（15a，15b），与坩埚的底面连接并与坩埚的上表面分离。分隔件与坩埚的内侧表面分开，将坩埚的内部空间分成多个空间。坩埚的上表面和分隔壁的水平部分由圆形形成，并且隔板之间的间隔与坩埚的间隔件和内侧表面之间的间隔相同。加热器可以包括形成在喷嘴部分的圆周上的上加热器（30），围绕坩埚的外侧表面的第一下加热器（31）和安装在隔板中的第二下加热器（32）。

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