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1. 发明专利

KR102232258B1 KR102232258B1 - Display Substrate and Method for Preparing the Same 有权
公开(公告)号：KR102232258B1
公开(公告)日：2021-03-29
申请号：KR1020140112344A
申请日：2014-08-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최영주
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/13 , G02F1/1343 , G02F1/1368
CPC分类号： H01L27/124 , H01L27/1225 , H01L29/24
摘要： 본 발명은 표시 기판 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 수평 수평 전계 모드(PLS)의 액정 표시 장치에 사용되는 표시 기판 제작시 에치 스톱퍼 방식을 이용하면서, 포토 마스크 수를 현저히 감소시키고 직접-접촉부(D-CNT)를 더 포함시켜 내로우 베젤을 구현시킨 표시 기판 및 그의 제조방법이다.

2. 发明专利

KR102227519B1 KR102227519B1 - Display Substrate and Method for Preparing the Same 有权
公开(公告)号：KR102227519B1
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：KR1020140112346A
申请日：2014-08-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최영주
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号： H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/4908
摘要： 본 발명은 표시 기판 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 수평 전계 모드(PLS)의 액정 표시 장치에 있어서, 표시 기판 제작시 활용되는 5 마스크(M) 공정을 4 마스크 공정으로 감소시켜 생산성을 증대시킨 표시 기판 및 그의 제조방법에 관한 것이다.

3. 发明公开

KR1020090127997A 저식각율 에천트 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：具有低蚀刻速率的蚀刻剂及使用其制造显示基板的方法
公开(公告)号：KR1020090127997A
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：KR1020080053964
申请日：2008-06-10
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 최영주 , 이지선 , 서남석 , 김기섭 , 이승용 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 양승재 , 이현규 , 장상훈 , 임민기
IPC分类号： C09K13/06
摘要： PURPOSE: An etchant with low etch rate is provided to remove a factor obstructing the evaporation of a post film in advance and to also remove impurities caused by contacting oxygen with the surface of a buffer layer, a gate metal layer and/or data metal layer. CONSTITUTION: An etchant with low etch rate comprises hydrogen peroxide (H2O2) 1-10 weight% etching a metal layer and/or metal oxide layer; additives 1-10 weight% controlling the reaction with hydrogen peroxide; and solvent 80-95 weight%. The additives comprises at least one compound selected from the group consisting of persulfate-based compound and an azole-based compound'.
摘要翻译：目的：提供具有低蚀刻速率的蚀刻剂，以预先阻止后膜的蒸发的因素，并且还除去由氧与缓冲层，栅极金属层和/或数据金属层的表面接触引起的杂质。构成：具有低蚀刻速率的蚀刻剂包括1-10重量％的过氧化氢（H 2 O 2）蚀刻金属层和/或金属氧化物层; 添加剂1-10重量％控制与过氧化氢的反应; 和80-95重量％的溶剂。添加剂包括至少一种选自过硫酸盐基化合物和唑类化合物的化合物。

4. 发明公开

KR1020100062538A 포토레지스트 박리제 조성물 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：光电子剥离器的组合物和制造薄膜晶体管阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020100062538A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：KR1020080121221
申请日：2008-12-02
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 정종현 , 박홍식 , 홍선영 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 서남석 , 이승용 , 김태희 , 박면규 , 김병묵 , 홍형표 , 홍헌표 , 정진우
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , G02F1/13458 , G02F1/136286 , G03F7/0236 , H01L27/1214 , H01L29/4908 , H01L29/7869
摘要： PURPOSE: A photoresist stripper composition and a method for manufacturing a thin film transistor array substrate using the same are provided to prevent a lower film from being damaged when the photoresist is stripped. CONSTITUTION: A photoresist stripper composition comprises: alkanol amine compound 1 ~ 40 weight%; water-soluble polar organic solvent compound 5 ~ 60 weight%; alkylene glycol alkyl ether compound 10 ~ 80 weight%; straight-chain or a chain type compound including carboxyl group 0.1 ~ 5 weight%; and deionized distilled water 5 ~ 30 weight%. The alkanol amine compound which is selected from a group comprising monoethanolamine, monopropanolamine, monoisopropanolamine, butanolamine, 2-propoxyethyl amine, N-butylethanolamine, N-methylethanolamine, N-ethlyethanolamine and diglycolamine.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂剥离剂组合物和使用其的薄膜晶体管阵列基板的制造方法，以防止在剥离光致抗蚀剂时下部膜受损。构成：光致抗蚀剂脱模剂组合物包含：链烷醇胺化合物1〜40重量％; 水溶性极性有机溶剂化合物5〜60重量％; 亚烷基二醇烷基醚化合物10〜80重量％; 直链或链状化合物，含羧基0.1〜5重量％; 和去离子蒸馏水5〜30重量％。选自单乙醇胺，单丙醇胺，单异丙醇胺，丁醇胺，2-丙氧基乙胺，N-丁基乙醇胺，N-甲基乙醇胺，N-乙基乙醇胺和二甘醇二胺的烷醇胺化合物。

5. 发明公开

KR1020100051321A 식각액 조성물, 이를 사용한 금속 패턴의 형성 방법 및 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 有权
标题翻译：蚀刻组合物，形成金属图案的方法和使用其制造薄膜晶体管阵列的方法
公开(公告)号：KR1020100051321A
公开(公告)日：2010-05-17
申请号：KR1020080110435
申请日：2008-11-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최영주 , 김봉균 , 이병진 , 정종현 , 홍선영 , 서남석 , 박홍식 , 김기섭 , 이승용 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 양승재 , 이현규 , 장상훈 , 임민기
IPC分类号： C09K13/06 , G03F7/32
CPC分类号： H01L21/32134 , C09K13/06 , C23F1/18 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/66765
摘要： PURPOSE: An etchant composition, a formation method of a metal pattern, and a manufacturing method of the thin film transistor array panel using thereof are provided to maintain an etching profile, and to improve the productivity. CONSTITUTION: An etchant composition contains 40~65wt% of phosphoric acid, 2~5wt% of nitric acid, 2~20wt% of acetic acid, 0.1~2wt% of compound including phosphate, 0.1~2wt% of compound including an amino group and a carboxyl group, and water. A formation method of a metal pattern comprises the following steps: lamination copper or a copper alloy on a metal layer; forming a photoresist pattern on the metal layer; etching the photoresist pattern using the etchant composition; and removing the photoresist pattern.
摘要翻译：目的：提供蚀刻剂组成，金属图案的形成方法以及使用其的薄膜晶体管阵列板的制造方法以保持蚀刻轮廓，并提高生产率。构成：蚀刻剂组合物含有40〜65重量％的磷酸，2〜5重量％的硝酸，2〜20重量％的乙酸，0.1〜2重量％的化合物，包括磷酸盐，0.1〜2重量％的包括氨基的化合物，羧基和水。金属图案的形成方法包括以下步骤：在金属层上层压铜或铜合金; 在所述金属层上形成光致抗蚀剂图案; 使用蚀刻剂组合物蚀刻光致抗蚀剂图案; 并去除光致抗蚀剂图案。

6. 发明授权

KR101520921B1 식각액 조성물, 이를 사용한 금속 패턴의 형성 방법 및 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101520921B1
公开(公告)日：2015-05-18
申请号：KR1020080110435
申请日：2008-11-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최영주 , 김봉균 , 이병진 , 정종현 , 홍선영 , 서남석 , 박홍식 , 김기섭 , 이승용 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 양승재 , 이현규 , 장상훈 , 임민기
IPC分类号： C09K13/06 , G03F7/32
CPC分类号： H01L21/32134 , C09K13/06 , C23F1/18 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/66765
摘要： 본발명은인산 40 내지 65 중량%, 질산 2 내지 5 중량%, 초산 2 내지 20 중량%, 인산염을포함하는화합물 0.1 내지 2 중량%, 아미노기와카르복실기를동시에함유하는화합물 0.1 내지 2 중량% 및전체조성물의총 중량이 100 중량%가되도록하는물을포함하는식각액조성물, 이를사용한금속패턴의형성방법및 박막트랜지스터표시판의제조방법에관한것이다.

7. 发明授权

KR102232258B1 표시 기판 및 그의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102232258B1
公开(公告)日：2021-03-29
申请号：KR1020140112344
申请日：2014-08-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최영주
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1343 , G02F1/1368 , G02F1/13
摘要： 본발명은표시기판및 그의제조방법에관한것으로, 수평수평전계모드(PLS)의액정표시장치에사용되는표시기판제작시에치스톱퍼방식을이용하면서, 포토마스크수를현저히감소시키고직접-접촉부(D-CNT)를더 포함시켜내로우베젤을구현시킨표시기판및 그의제조방법이다.

8. 发明授权

KR101987985B1 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101987985B1
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：KR1020120053719
申请日：2012-05-21
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 류혜영 , 김기원 , 박재우 , 윤갑수 , 최영주
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/136

9. 发明公开

KR1020160090961A 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：液晶显示及其制造方法
公开(公告)号：KR1020160090961A
公开(公告)日：2016-08-02
申请号：KR1020150010709
申请日：2015-01-22
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최영주 , 곽창하 , 윤희정 , 김진율 , 이재필
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1368 , G02F1/1362
CPC分类号： G02F1/133345 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F2001/134372 , G02F2202/10 , G02F1/134309 , G02F1/136286 , G02F1/1368
摘要： 본발명의실시예에따른액정표시장치및 그의제조방법에따르면, 공통전압선바로위에면형의공통전극을형성하고, 공통전극과게이트선위에반도체층을형성하여, 게이트절연막으로이용한다. 따라서, 하나의기판위에공통전극및 화소전극을형성하고, 공통전압선바로위에공통전극을형성함으로써공통전압의신호지연을방지하면서도, 제조비용증가를방지할수 있다.
摘要翻译：根据本发明的实施方式的液晶显示装置及其制造方法，在公共电力线上直接形成平面型公共电极。在公共电极和栅极线上形成半导体层。半导体层用作栅极绝缘层。因此，在基板上形成公共电极和像素电极。公共电极直接形成在公共电力线上。从而防止公共电压的信号延迟。此外，可以防止制造成本的增加。

10. 发明公开

KR1020160084537A 박막 트랜지스터 기판 审中-实审
标题翻译：薄膜晶体管基板包括它
公开(公告)号：KR1020160084537A
公开(公告)日：2016-07-14
申请号：KR1020150000616
申请日：2015-01-05
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최영주
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L27/1244 , H01L27/1225 , H01L29/78618 , H01L29/78606 , H01L29/7869
摘要： 박막트랜지스터기판이제공된다. 일실시예에따른박막트랜지스터기판은상기반도체층을덮고있는식각방지막; 상기식각방지막을관통하는제1 및제2 콘택홀; 상기식각방지막상에배치되고, 상기제1 콘택홀을통해상기반도체층과전기적으로연결된소스전극; 상기식각방지막상에서상기소스전극과이격배치되고, 상기제2 콘택홀을통해상기반도체층과전기적으로연결되며, 투명전도성산화물층과금속층을포함하는드레인전극; 및상기식각방지막상에배치되고상기투명전도성산화물층으로구성된화소전극;을포함하는제1 영역을포함한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供可靠性和可加工性提高的薄膜晶体管基板。根据本发明的实施例，薄膜晶体管基板包括第一区域，包括：覆盖半导体层的防蚀膜; 第一和第二接触孔，以穿透防蚀膜; 源电极，设置在所述防蚀膜中，经由所述第一接触孔与所述半导体层电连接; 布置在防蚀膜中的漏电极，与源电极分离，经由第二接触孔与半导体层电连接，并且包括透明导电氧化物层和金属层; 以及设置在防蚀膜中并形成有透明导电氧化物层的像素电极。

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