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1. 发明公开

KR1020010030048A 에너지 효율을 갖는 리소그래피 레이저 失效
标题翻译：能量有效的光刻激光
公开(公告)号：KR1020010030048A
公开(公告)日：2001-04-16
申请号：KR1020000044774
申请日：2000-08-02
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 파드마반두가마랄라라게지. , 다스팔라쉬피. , 왓슨톰에이. , 잠본파올로
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/036 , H01S3/134 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： PURPOSE: An energy efficient lithography laser is provided to precisely control of the fluorine concentration in a gas discharge laser chamber. CONSTITUTION: With valves(10, 6, 15, 12, 17, 4) closed, valves(6,12) are opened, vacuum pump(13) is operated and the laser chamber is pumped down to an absolute pressure of less than 13 kPa. (A direct pump down line may be provided between the chamber 1 and vacuum pump 13 to permit a quick pump down.) Valve(12) is closed. Valve(16) is opened and 1% Kr, 99%Ne buffer gas from buffer gas bottle(16) is added to the chamber to fill it to a pressure equivalent to 262 kPa at 50 DEG C. (Note that for this 20.3 liter laser chamber, temperature correction can be approximated using a .DELTA.P/.DELTA.T correction of 1 kPa/ DEG C. for a chamber temperature deviation from 50 DEG C. So if the chamber temperature is 23 DEG C. it would be filled to 247 kPa.) Valve(17) is closed and valve(15) is opened and a quantity of the 1% F1, 1% Kr, 98% Ne mixture from halogen rich gas bottle(14) is added to chamber(1) to fill it to a pressure equivalent to 290 kPa at 50 DEG C. (Note the same temperature correction discussed above can be used.) This will produce a gas mixture in the chamber of approximately 0.1% F1, 1.0% Kr and 98.9% Ne. When the chamber is heated to about 50 DEG C. the pressure will be about 3 atm or 290 kPa.
摘要翻译：目的：提供一种高效光刻激光器，精确控制气体放电激光室中的氟浓度。构成：阀门（10,6,15,12,17,4）关闭，阀门（6,12）打开，真空泵（13）运行，激光室被泵送到绝对压力小于13 千帕。（可以在室1和真空泵13之间提供直接泵送管路，以允许快速抽吸）。阀（12）关闭。打开阀门（16），并将1％的Kr，99％的来自缓冲气瓶（16）的缓冲气体加入到室中，以在50℃下将其填充到262kPa的压力（注意，对于该20.3升激光室，温度校正可以用1Pa /℃的±DELTA.P / .DELTA.T校正近似，以使室温偏离50℃。因此，如果室温为23℃ 填充到247kPa。）阀（17）关闭并且阀（15）打开，并且将来自富含卤素的气瓶（14）的1％F1，1％Kr，98％Ne混合物的量加入到室（1）），在50℃下将其填充至290kPa的压力（注意，可以使用上述相同的温度校正）。这将在室内产生约0.1％的F1，1.0％的Kr和98.9％的气体混合物，东北。当室被加热至约50℃时，压力将为约3atm或290kPa。

2. 发明授权

KR100562009B1 정교한 파장 제어를 구비하는 협대역 레이저 有权
标题翻译：窄带激光与细微波长控制
公开(公告)号：KR100562009B1
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：KR1020027002868
申请日：2000-08-31
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 알고츠존엠. , 마치크리스토퍼에이. , 에리프레드릭지. , 벅제시디. , 얼쇼프알렉산더아이. , 다스팔라쉬피. , 포멘코브이고르브이.
IPC分类号： H01S3/10
摘要： 스마트 레이저는 파장계(22)로부터의 피드백 신호를 사용하여 펄스 에너지, 파장 및 대역폭을 자동적으로 제어하는 컴퓨터 제어기(24A)를 구비한다. 펄스 에너지는 방전 전압을 제어함으로써 제어된다. 파장은 라인 협소화 모듈의 R
MAX 미러를 매우 정교하고도 신속하게 위치결정함으로써 제어된다. 대역폭은 라인 협소화 모듈에서의 회절격자의 굴곡을 조절함으로써 제어된다. 바람직한 실시예는 빔 익스팬더 프리즘이 위치된 프리즘 플레이트의 자동 조절과 R
MAX 경사의 자동 조절을 포함한다. 다른 바람직한 실시예는 공진 공동내에서 레이저 챔버(3)의 수평 위치의 자동 조절을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 파장 모니터로부터의 피드백 신호는 R
MAX 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다. 다른 실시예에서, R
MAX 미러에서 반사되어 광다이오드 어레이로 비춰진 개개의 레이저 빔은 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다.
레이저, 파장 제어, 협대역, 스마트 레이저, 라인 협소화 모듈

3. 发明授权

KR100504071B1 팬을 지지하는 자기 베어링을 구비한 엑시머 레이져 失效
标题翻译：具有磁性轴承的EXCIMER激光支持风扇
公开(公告)号：KR100504071B1
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：KR1020007000246
申请日：1998-06-26
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 사카카말 , 우자도스키리차드씨. , 다스팔라쉬피. , 라르슨도날드지.
IPC分类号： H01S3/036
CPC分类号： G03F7/70575 , H01S3/036 , H01S3/041
摘要： 레이져 가스와 그 레이져 가스를 순환시키기 위하여 팬을 포함하고 있는 레이져 공동을 가진 전기 방전 가스 레이져. 상기 팬은 액티브 자기 베어링에 의해 지지되고 브러쉬리스 직류 모터에 의해 구동되며, 상기 모터의 로우터와 적어도 두 개의 자기 베어링이 레이져 공동내의 가스 분위기내에서 밀폐되어 있고, 상기 모터 스테이터와 베어링 전자석의 코일은 가스 분위기의 외부에 존재한다.

4. 发明公开

KR1020010041553A 신뢰성있고 모듈화되고 생성력이 우수한 협대역 ＫｒＦ엑시머 레이저 有权
标题翻译：窄带KrF准分子激光器，可靠，模块化且生产效率高
公开(公告)号：KR1020010041553A
公开(公告)日：2001-05-25
申请号：KR1020007009736
申请日：1999-02-16
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 아졸라제임즈에이치. , 베샤우셀레헤르베에이. , 다스팔라쉬피. , 에르소브알렉산더아이. , 주하스즈티보르 , 네스리차드엠. , 오자르스키로버트지. , 파틀로웰리암엔. , 로스웨일다니엘에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 유자즈도우스키리차드씨. , 와트슨톰웨이 , 포멘코프이고르브이.
IPC分类号： H01S3/225
摘要： 약 0.6pm이하의 대역폭을 가지고 1000Hz에서 10mJ 레이저 펄스를 생성할 수 있는 신뢰성있고 모듈화되고 생성력이 우수한 협대역 KrF 엑시머 레이저. 본 발명은 특히 집적회로의 리소그래피 제조에서의 장기간의 24 시간 연속동작에 적합하다. 종래 레이저보다 향상된 것은 단일 업스트림 예비전리기 튜브 및 음향 배플을 포함하는 것이다. 바람직한 실시예는 감소된 플루오르 농도, 블로워 베이링 상에 공기역학적 반작용력을 감소시키도록 형상화된 애노드 지지바, 빠른 펄스 상승 시간을 제공하는 변형된 펄스 전력 시스템, 실질적으로 증가된 반사율을 갖는 출력 커플러, CaF 프리즘 빔 익스팬더를 구비한 라인 협소화 모듈, 더욱 정확한 파장계, 새롭고 향상된 펄스 에너지 제어 알고리즘으로 프로그래밍된 레이저 컴퓨터 컨트롤러를 포함한다.

5. 发明授权

KR100850450B1 초협대역이고 고 반복율로 동작하는 두개 챔버를 갖는가스 방전 레이저 시스템 有权
标题翻译：非常窄带，两个室，高倍率气体放电激光系统
公开(公告)号：KR100850450B1
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：KR1020037004934
申请日：2001-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라미터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라미터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
엑시머 레이저, 가스 방전 레이저, 마스터 발진기, 펄스 에너지, 포토다이오드, 파워 증폭기

6. 发明授权

KR100394397B1 신뢰성있고 모듈화되고 생성력이 우수한 협대역 ＫｒＦ엑시머 레이저 有权
标题翻译： 신뢰성있고모듈화되고생성력이우수한협대역KrF엑시머레이저
公开(公告)号：KR100394397B1
公开(公告)日：2003-08-09
申请号：KR1020007009736
申请日：1999-02-16
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 아졸라제임즈에이치. , 베샤우셀레헤르베에이. , 다스팔라쉬피. , 에르소브알렉산더아이. , 주하스즈티보르 , 네스리차드엠. , 오자르스키로버트지. , 파틀로웰리암엔. , 로스웨일다니엘에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 유자즈도우스키리차드씨. , 와트슨톰웨이 , 포멘코프이고르브이.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G01J9/0246 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/0971 , H01S3/1055 , H01S3/1392 , H01S3/225
摘要： A reliable, modular, production quality narrow-band KrF excimer laser capable of producing 10 mJ laser pulses at 1000 Hz with a bandwidth of about 0.6 pm or less. The present invention is especially suited to long-term round-the-clock operation in the lithographic production of integrated circuits. Improvements over prior art lasers include a single upstream preionizer tube and acoustic baffles. A preferred embodiment includes reduced fluorine concentration, an anode support bar shaped to reduce aerodynamic reaction forces on blower bearings, a modified pulse power system providing faster pulse rise time, an output coupler with substantially increased reflectivity, a line narrowing module with CaF prism beam expanders, a more accurate wavemeter, a laser computer controller programmed with new and improved pulse energy control algorithm.
摘要翻译：一种可靠的模块化生产质量的窄带KrF准分子激光器，能够以1000Hz的频率产生10mJ的激光脉冲，带宽约为0.6pm或更小。本发明特别适用于集成电路光刻生产中的长期全天候操作。现有技术激光器的改进包括单个上游预电离子管和隔音板。一个优选的实施例包括降低的氟浓度，成形为减少鼓风机轴承上的空气动力学反作用力的阳极支撑杆，提供更快的脉冲上升时间的改进的脉冲功率系统，具有显着提高的反射率的输出耦合器，具有CaF棱镜光束扩展器，更精确的波长计，一种用新的和改进的脉冲能量控制算法编程的激光计算机控制器。

7. 发明公开

KR1020010021688A 팬을 지지하는 자기 베어링을 구비한 엑시머 레이져 失效
标题翻译：一种准分子激光器，具有用于支撑风扇的磁轴承
公开(公告)号：KR1020010021688A
公开(公告)日：2001-03-15
申请号：KR1020007000246
申请日：1998-06-26
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 사카카말 , 우자도스키리차드씨. , 다스팔라쉬피. , 라르슨도날드지.
IPC分类号： H01S3/036
CPC分类号： G03F7/70575 , H01S3/036 , H01S3/041
摘要： 레이져가스와그 레이져가스를순환시키기위하여팬을포함하고있는레이져공동을가진전기방전가스레이져. 상기팬은능동자기베어링에의해지지되고브러쉬리스직류모터에의해구동되며, 상기모터의로우터와적어도두 개의자기베어링이레이져공동내의가스분위기내에서밀폐되어있고, 상기모터스테이터와베어링전자석의코일은가스분위기의외부에존재한다.

8. 发明公开

KR1020030041151A 초협대역이고 고 반복율로 동작하는 두개 챔버를 갖는가스 방전 레이저 시스템 有权
标题翻译： 초협대역이고고반복율로동작하는두개챔버를갖는가스방전레이저시스템
公开(公告)号：KR1020030041151A
公开(公告)日：2003-05-23
申请号：KR1020037004934
申请日：2001-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라메터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라메터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
摘要翻译：一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。

9. 发明公开

KR1020020026613A 정교한 파장 제어를 구비하는 협대역 레이저 有权
标题翻译：窄带激光与精密的波长控制
公开(公告)号：KR1020020026613A
公开(公告)日：2002-04-11
申请号：KR1020027002868
申请日：2000-08-31
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 알고츠존엠. , 마치크리스토퍼에이. , 에리프레드릭지. , 벅제시디. , 얼쇼프알렉산더아이. , 다스팔라쉬피. , 포멘코브이고르브이.
IPC分类号： H01S3/10
摘要： 스마트 레이저는 파장계(22)로부터의 피드백 신호를 사용하여 펄스 에너지, 파장 및 대역폭을 자동적으로 제어하는 컴퓨터 제어기(24A)를 구비한다. 펄스 에너지는 방전 전압을 제어함으로써 제어된다. 파장은 라인 협소화 모듈의 R
MAX 미러를 매우 정교하고도 신속하게 위치결정함으로써 제어된다. 대역폭은 라인 협소화 모듈에서의 회절격자의 굴곡을 조절함으로써 제어된다. 바람직한 실시예는 빔 익스팬더 프리즘이 위치된 프리즘 플레이트의 자동 조절과 R
MAX 경사의 자동 조절을 포함한다. 다른 바람직한 실시예는 공진 공동내에서 레이저 챔버(3)의 수평 위치의 자동 조절을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 파장 모니터로부터의 피드백 신호는 R
MAX 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다. 다른 실시예에서, R
MAX 미러에서 반사되어 광다이오드 어레이로 비춰진 개개의 레이저 빔은 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다.

10. 发明公开

KR1020010030047A 자동 플루오르 제어 시스템 有权
标题翻译： EXCIMER激光自动荧光浓度控制系统
公开(公告)号：KR1020010030047A
公开(公告)日：2001-04-16
申请号：KR1020000044773
申请日：2000-08-02
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 공멩씨옹 , 카레시제이슨알. , 바인더마이클씨. , 다스팔라쉬피.
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： H01S3/03 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/134 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： PURPOSE: An automatic fluorine concentration control system for excimer laser is provided to keep the laser operating in desired sweet spots by monitoring the parameter DELTA E/ DELTA V representing the change of pulse energy with charging voltage. CONSTITUTION: An excimer laser system comprising: a laser chamber containing two spaced apart elongated electrodes; a laser gas comprising:a noble gas, luorine, a buffer gas; a blower for flowing the laser gas between the two spaced apart electrodes; a fluorine source; a means for determining DELTA E/ DELTA V; and a fluorine control system arranged to automatically control fluorine injection flow based on determined values of DELTA E/ DELTA V in order to permit the laser to operate within a desired sweet spot determined by fluorine concentration in the laser chamber.
摘要翻译：目的：提供一种用于准分子激光的自动氟浓度控制系统，通过监测表示脉冲能量随充电电压变化的参数DELTA E / DELTA V来保持激光在所需的甜点中的运行。构成：准分子激光系统，包括：激光室，其包含两个间隔开的细长电极; 一种激光气体，包括：惰性气体，罗林碱，缓冲气体; 用于使激光气体在两个间隔开的电极之间流动的鼓风机; 氟源; 确定DELTA E / DELTA V的方法; 以及氟控制系统，其布置成基于DELTA E / DELTA V的确定值来自动控制氟注入流量，以允许激光器在由激光室中的氟浓度确定的期望的甜点内操作。

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