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    • 4. 发明申请
    • 발광다이오드 및 그 제조방법
    • 发光二极管及其制造方法
    • WO2012091275A1
    • 2012-07-05
    • PCT/KR2011/008243
    • 2011-11-01
    • 포항공과대학교 산학협력단이종람송양희김범준
    • 이종람송양희김범준
    • H01L33/22H01L33/50
    • H01L33/08H01L33/20H01L33/508
    • 본 발명은 발광다이오드 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 발광다이오드는 도전성 기판 상에 형성된 p형 전극, 상기 p형 전극 상에 형성된 p형 질화물 반도체층, 상기 p형 질화물 반도체층 상에 형성된 활성층, 상기 활성층 상에 형성된 n형 질화물 반도체층 및 상기 n형 질화물 반도체층 상에 형성된 n형 전극을 포함하여 구성되고, 상기 n형 질화물 반도체층의 일부 영역에 요철부가 형성되어 있고, 상기 n형 전극은 상기 n형 질화물 반도체층에 형성되어 있는 요철부의 철부 상에 형성되어 있고, 상기 n형 질화물 반도체층에 형성되어 있는 요철부의 요부에는 형광체가 채워진 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 형광체의 도포 면적 및 형광변환효율을 획기적으로 증가시킬 수 있는 새로운 구조의 발광다이오드 및 그 제조방법이 제공되는 효과가 있다.
    • 发光二极管及其制造方法技术领域本发明涉及一种发光二极管及其制造方法。 根据本发明的发光二极管中,p型电极,在电极上形成的p型的p型氮化物半导体层,形成在有源层上的n型氮化物半导体层上的p型氮化物半导体层,形成在形成于导电衬底上的有源层, 并包括:形成在所述半导体层的一部分而形成的附加凹凸的n型氮化物半导体层,所述n型和氮化上的n型电极,形成在n型氮化物半导体层上的n型电极 并且,形成在n型氮化物半导体层中的凹凸部的凹部被荧光体填充。 根据本发明,提供具有能够大幅度增加荧光体的涂布面积和荧光转换效率的新颖结构的LED及其制造方法。
    • 7. 发明申请
    • 반도체 발광 소자 및 이의 제조 방법
    • 半导体发光元件及其生产方法
    • WO2011028076A2
    • 2011-03-10
    • PCT/KR2010/006056
    • 2010-09-07
    • 서울옵토디바이스주식회사포항공과대학교 산학협력단이종람송양희손준호김범준
    • 이종람송양희손준호김범준
    • H01L33/36H01L33/38H01L33/40
    • H01L33/40H01L33/0095H01L33/32H01L33/387
    • 본 발명은 발광 구조를 갖는 반도체층; 상기 반도체층 상에 형성된 나노 도트층, 접촉층, 확산 방지층 및 캡핑층을 구비하는 오믹 전극을 포함하고, 상기 나노 도트층은 상기 반도체층의 질소 극성면 상에 형성되고, Ag, Al, Au 중 적어도 하나의 물질로 형성되는 반도체 발광 소자 및 이의 제조 방법을 제공한다. 이와 같은 반도체 발광 소자에서 나노 도트층/접촉층/확산 방지층/캡핑층을 포함하는 다층 구조의 오믹 전극은 나노 도트층이 질화물 반도체의 질소 극성면으로 전하 주입 특성을 향상시켜 우수한 오믹 특성을 얻을 수 있으며, 접촉층이 확산 장벽층으로 작용하여 질소 분위기 열처리 및 고온, 고전류 주입 조건에서 발생하는 열에 의한 열화를 억제하기 때문에 열적 안정성이 우수하다.
    • 提供:半导体发光元件,包括具有发光结构的半导体层; 以及在所述半导体层上并入有纳米点层,接触层,扩散防止层和覆盖层的欧姆电极,其中所述纳米点层形成在所述半导体层的N-极性表面上,并且由包含 Ag,Al和Au中的至少一种。 还提供了一种生产方法。 在这种半导体发光元件中具有包含纳米点层/接触层/扩散防止层/覆盖层的多层结构的欧姆电极中,纳米点层构成氮化物半导体的N-极性表面 并且提高了电荷注入特性,从而可以获得突出的欧姆特性,而接触层用作扩散阻挡层,并且抑制由于在氮气氛热处理中产生的热和高温和高电流引起的劣化 注射条件,因此热稳定性突出。
    • 9. 发明申请
    • 발광다이오드용 기판의 제조방법, 이에 의해 제조된 발광다이오드용 기판 및 이 발광다이오드용 기판을 구비한 발광다이오드의 제조방법
    • 用于制造用于发光二极管的基板的方法,用于其制造的发光二极管的基板以及用于制造用于发光二极管的基板的发光二极管的方法
    • WO2013012194A2
    • 2013-01-24
    • PCT/KR2012/005465
    • 2012-07-10
    • 포항공과대학교 산학협력단이종람이환건손준호송양희김범준
    • 이종람이환건손준호송양희김범준
    • H01L33/20H01L33/22
    • H01L33/007H01L33/22H01L33/32
    • 본 발명은 발광다이오드용 기판의 제조방법, 이에 의해 제조된 발광다이오드용 기판 및 이 발광다이오드용 기판을 구비한 발광다이오드의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 발광다이오드용 기판의 제조방법은, 소정의 기판부재의 상면을 상기 기판부재에 비해 건식에칭이 용이한 물질로 이루어진 나노구조체로 코팅하는 단계; 상기 나노구조체를 마스크로 이용하여 상기 기판부재와 함께 건식에칭함으로써 상기 기판부재의 상면에 상면 요철부를 형성하는 단계; 상기 기판부재의 하면을 상기 나노구조체로 코팅하는 단계; 및 상기 나노구조체를 마스크로 이용하여 상기 기판부재와 함께 건식에칭함으로써 상기 기판부재의 하면에 하면 요철부를 형성하는 단계;를 포함한다. 본 발명에 의하면, 제조단가가 높고 복잡한 포토리소그래피 패터닝을 사용하지 않고도 나노구조체를 코팅하여 이를 마스크로 이용해 건식에칭하는 방식으로 용이하게 요철부가 형성된 발광다이오드용 기판을 제조할 수 있으므로, 그 제조 시간 및 단가를 절감할 수 있다.
    • 本发明涉及一种制造用于发光二极管的基板的方法,由此制造的发光二极管的基板,以及一种制造发光二极管的基板的制造方法。 根据本发明的用于制造用于发光二极管的基板的方法包括以下步骤:用纳米结构涂覆预定基板构件的上表面,其包括比基板构件更容易干蚀刻的材料 ; 通过使用纳米结构作为掩模,通过干蚀刻所述纳米结构和所述基板部件,在所述基板部件的上表面上形成上表面不平坦部分; 用纳米结构涂覆衬底构件的下表面; 并且通过使用纳米结构作为掩模,通过干蚀刻纳米结构和衬底构件,在衬底构件的下表面上形成下表面不平坦部分。 本发明使得可以制造发光二极管的基板,该发光二极管的基板具有通过涂覆纳米结构容易地形成的不均匀部分,并且使用它们作为用于干法蚀刻的掩模,而不是使用光刻图案,其具有 制造成本高且复杂,因此能够减少发光二极管的基板的制造时间和成本。
    • 10. 发明申请
    • 저저항 발광 다이오드 및 그 제조방법
    • 低电阻发光二极管及其制造方法
    • WO2012173366A1
    • 2012-12-20
    • PCT/KR2012/004621
    • 2012-06-12
    • 포항공과대학교 산학협력단송양희이종람김범준
    • 송양희이종람김범준
    • H01L33/36H01L33/12
    • H01L33/40H01L33/0079H01L33/02
    • 본 발명은 저저항 발광 다이오드 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저저항 발광 다이오드는 지지 기판, 상기 지지 기판 상에 형성되어 있으며 상기 지지 기판과의 오믹 접촉(ohmic contact)을 이루는 오믹 접촉층, 상기 오믹 접촉층 상에 형성된 p형 전극, 상기 p형 전극 상에 형성된 p형 반도체층, 상기 p형 반도체층 상에 형성된 활성층, 상기 활성층 상에 형성된 n형 반도체층으로 이루어진 발광 구조체 및 상기 n형 반도체층 상에 형성된 n형 전극을 포함하여 구성된다. 본 발명에 따르면, 실리콘 재질의 지지 기판과 p형 전극 사이의 접촉 저항을 낮출 수 있으며, 열적 안정성이 우수하고, 저전압 구동이 가능하고 동작의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 저저항 발광 다이오드 및 그 제조방법이 제공되는 효과가 있다.
    • 低电阻发光二极管及其制造方法技术领域本发明涉及低电阻发光二极管及其制造方法。 根据本发明的低电阻发光二极管包括:发光结构,包括支撑衬底,形成在支撑衬底上并与支撑衬底形成欧姆接触的欧姆接触层,p型 在欧姆接触层上形成的电极,形成在p型电极上的p型半导体层,形成在p型半导体层上的有源层和形成在该p型半导体层上的n型半导体层 在活动层上; 以及形成在n型半导体层上的n型电极。 根据本发明,可以减少由硅材料制成的支撑基板与p型电极之间的接触电阻,并且具有优异的热稳定性的低电阻发光二极管,其以低电压驱动 并且能够提高操作可靠性,有效地提供其制造方法。