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    • 1. 发明申请
    • 발광다이오드용 기판의 제조방법, 이에 의해 제조된 발광다이오드용 기판 및 이 발광다이오드용 기판을 구비한 발광다이오드의 제조방법
    • 用于制造用于发光二极管的基板的方法,用于其制造的发光二极管的基板以及用于制造用于发光二极管的基板的发光二极管的方法
    • WO2013012194A2
    • 2013-01-24
    • PCT/KR2012/005465
    • 2012-07-10
    • 포항공과대학교 산학협력단이종람이환건손준호송양희김범준
    • 이종람이환건손준호송양희김범준
    • H01L33/20H01L33/22
    • H01L33/007H01L33/22H01L33/32
    • 본 발명은 발광다이오드용 기판의 제조방법, 이에 의해 제조된 발광다이오드용 기판 및 이 발광다이오드용 기판을 구비한 발광다이오드의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 발광다이오드용 기판의 제조방법은, 소정의 기판부재의 상면을 상기 기판부재에 비해 건식에칭이 용이한 물질로 이루어진 나노구조체로 코팅하는 단계; 상기 나노구조체를 마스크로 이용하여 상기 기판부재와 함께 건식에칭함으로써 상기 기판부재의 상면에 상면 요철부를 형성하는 단계; 상기 기판부재의 하면을 상기 나노구조체로 코팅하는 단계; 및 상기 나노구조체를 마스크로 이용하여 상기 기판부재와 함께 건식에칭함으로써 상기 기판부재의 하면에 하면 요철부를 형성하는 단계;를 포함한다. 본 발명에 의하면, 제조단가가 높고 복잡한 포토리소그래피 패터닝을 사용하지 않고도 나노구조체를 코팅하여 이를 마스크로 이용해 건식에칭하는 방식으로 용이하게 요철부가 형성된 발광다이오드용 기판을 제조할 수 있으므로, 그 제조 시간 및 단가를 절감할 수 있다.
    • 本发明涉及一种制造用于发光二极管的基板的方法,由此制造的发光二极管的基板,以及一种制造发光二极管的基板的制造方法。 根据本发明的用于制造用于发光二极管的基板的方法包括以下步骤:用纳米结构涂覆预定基板构件的上表面,其包括比基板构件更容易干蚀刻的材料 ; 通过使用纳米结构作为掩模,通过干蚀刻所述纳米结构和所述基板部件,在所述基板部件的上表面上形成上表面不平坦部分; 用纳米结构涂覆衬底构件的下表面; 并且通过使用纳米结构作为掩模,通过干蚀刻纳米结构和衬底构件,在衬底构件的下表面上形成下表面不平坦部分。 本发明使得可以制造发光二极管的基板,该发光二极管的基板具有通过涂覆纳米结构容易地形成的不均匀部分,并且使用它们作为用于干法蚀刻的掩模,而不是使用光刻图案,其具有 制造成本高且复杂,因此能够减少发光二极管的基板的制造时间和成本。