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3. 发明专利

TW201832024A 用於預測量測方法的效能之方法及設備、量測方法和設備审中-公开
简体标题：用于预测量测方法的性能之方法及设备、量测方法和设备
公开(公告)号：TW201832024A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107102311
申请日：2018-01-23
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 盧波山德巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 林楠 , LIN, NAN , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC分类号： G03F9/00 , G01N21/01
摘要：藉由一微影程序將諸如疊對光柵(Ta及Tb)之目標結構形成於一基板(W)上。運用一第一輻射光點(456a、Sa)來照明第一目標，且同時地運用一第二輻射光點(456b、Sb)來照明第二目標。一感測器(418)在不同部位處偵測已由該第一目標之特徵在一第一方向上繞射的該第一輻射之部分(460x-、460x+)及已由該第二目標之特徵在一第二方向上繞射的該第二輻射之部分(460y-、460y+)。可同時地偵測在X及Y方向上之不對稱性，從而縮減在X及Y上之疊對量測所需要之時間。可僅僅藉由激發一高階諧波產生(HHG)輻射源或逆Compton散射源中之兩個部位(710a、710b)而產生在軟x射線波長下之該兩個輻射光點。
简体摘要：借由一微影进程将诸如叠对光栅(Ta及Tb)之目标结构形成于一基板(W)上。运用一第一辐射光点(456a、Sa)来照明第一目标，且同时地运用一第二辐射光点(456b、Sb)来照明第二目标。一传感器(418)在不同部位处侦测已由该第一目标之特征在一第一方向上绕射的该第一辐射之部分(460x-、460x+)及已由该第二目标之特征在一第二方向上绕射的该第二辐射之部分(460y-、460y+)。可同时地侦测在X及Y方向上之不对称性，从而缩减在X及Y上之叠对量测所需要之时间。可仅仅借由激发一高级谐波产生(HHG)辐射源或逆Compton散射源中之两个部位(710a、710b)而产生在软x射线波长下之该两个辐射光点。

4. 发明专利

TWI699615B 用於識別塑形特徵之方法及電腦程式產品有权
简体标题：用于识别塑形特征之方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI699615B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW107109407
申请日：2018-03-20
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：庫博曼安卓尼斯康納力司馬修士 , KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , 米德克魯克斯史考特安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC分类号： G03F1/84 , G03F7/20 , G01N21/956

5. 发明专利

TW201633001A 用於影像分析之方法和裝置审中-公开
简体标题：用于影像分析之方法和设备
公开(公告)号：TW201633001A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104139497
申请日：2015-11-26
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：米德克魯克斯史考特安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 凡可拉吉馬可斯傑拉度馬堤司瑪麗亞 , VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA , 庫博曼安卓尼斯康納力司馬修士 , KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , 亨奇史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC分类号： G03F7/20 , G06T7/00
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/7065 , G06T7/12 , G06T7/149 , G06T7/60 , G06T2207/10061 , G06T2207/20161 , G06T2207/30148
摘要：本發明描述一種偵測、對位及量化一影像之方法及裝置。該方法可包括：獲得一經微影建立結構之一影像；及將一等位集方法應用於該影像的表示該結構之一物件以建立該結構之一數學表示。該方法可包括：在一參數之一標稱條件下獲得表示一結構之一參考影像物件的一第一資料集；及在該參數之一非標稱條件下獲得表示該結構之一範本影像物件的第二資料集。該方法可進一步包括獲得表示該第一資料集與該第二資料集之間的改變之一變形場。可藉由變換該第二資料集以將該範本影像物件投影至該參考影像物件上而產生該變形場。可獲得該變形場與該參數之改變之間的一相依性關係。
简体摘要：本发明描述一种侦测、对位及量化一影像之方法及设备。该方法可包括：获得一经微影创建结构之一影像；及将一等位集方法应用于该影像的表示该结构之一对象以创建该结构之一数学表示。该方法可包括：在一参数之一标称条件下获得表示一结构之一参考影像对象的一第一数据集；及在该参数之一非标称条件下获得表示该结构之一范本影像对象的第二数据集。该方法可进一步包括获得表示该第一数据集与该第二数据集之间的改变之一变形场。可借由变换该第二数据集以将该范本影像对象投影至该参考影像对象上而产生该变形场。可获得该变形场与该参数之改变之间的一相依性关系。

6. 发明专利

TWI410756B 判定疊對誤差的方法及元件製造方法有权
简体标题：判定叠对误差的方法及组件制造方法
公开(公告)号：TWI410756B
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW099112546
申请日：2010-04-21
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL , 凡德馬斯特卡雷爾戴德瑞克 , VAN DER MAST, KAREL DIEDERICK , 凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70633

7. 发明专利

TWI563350B 於度量衡中使用之基板及圖案化器件、度量衡方法及器件製造方法有权
简体标题：于度量衡中使用之基板及图案化器件、度量衡方法及器件制造方法
公开(公告)号：TWI563350B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW104113769
申请日：2015-04-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：昆塔尼哈李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70683

9. 发明专利

TW201546569A 於度量衡中使用之基板及圖案化器件、度量衡方法及器件製造方法审中-公开
简体标题：于度量衡中使用之基板及图案化器件、度量衡方法及器件制造方法
公开(公告)号：TW201546569A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104113769
申请日：2015-04-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：昆塔尼哈李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要：藉由一微影裝置(LA)將來自一圖案化器件(M)之一圖案施加至一基板(W)。該經施加圖案包括產品特徵及度量衡目標(600、604)。該等度量衡目標包括用於使用X射線散射(度量衡裝置104)來量測疊對之大目標(600a)及用於藉由可見光輻射之繞射(度量衡裝置102)來量測疊對之小目標(600b、604)。該等較小目標(604)中之一些分佈於該等較大目標之間的部位處，而其他小目標(600b)置放於與一大目標相同的部位處。藉由比較在該相同部位處之使用一小目標(600b)及大目標(600a)而量測之值，為了較佳準確度可校正使用所有該等小目標所量測之參數值(704)。該等大目標可主要位於切割道(SL)內，而該等小目標分佈於產品區域(602，D)內。
简体摘要：借由一微影设备(LA)将来自一图案化器件(M)之一图案施加至一基板(W)。该经施加图案包括产品特征及度量衡目标(600、604)。该等度量衡目标包括用于使用X射线散射(度量衡设备104)来量测叠对之大目标(600a)及用于借由可见光辐射之绕射(度量衡设备102)来量测叠对之小目标(600b、604)。该等较小目标(604)中之一些分布于该等较大目标之间的部位处，而其他小目标(600b)置放于与一大目标相同的部位处。借由比较在该相同部位处之使用一小目标(600b)及大目标(600a)而量测之值，为了较佳准确度可校正使用所有该等小目标所量测之参数值(704)。该等大目标可主要位于切割道(SL)内，而该等小目标分布于产品区域(602，D)内。

10. 发明专利

TW201631679A 用於影像分析之方法和裝置审中-公开
简体标题：用于影像分析之方法和设备
公开(公告)号：TW201631679A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104139494
申请日：2015-11-26
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：米德克魯克斯史考特安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 凡可拉吉馬可斯傑拉度馬堤司瑪麗亞 , VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA , 帕薩瑞可馬克辛 , PISARENCO, MAXIM , 庫博曼安卓尼斯康納力司馬修士 , KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , 亨奇史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027
CPC分类号： G06T7/001 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G06T2207/10061 , G06T2207/20068 , G06T2207/30148
摘要：本發明描述一種偵測、對位及量化一影像之方法及裝置。該方法可包括：獲得一經微影建立結構之一影像；及將一等位集方法應用於該影像的表示該結構之一物件以建立該結構之一數學表示。該方法可包括：在一參數之一標稱條件下獲得表示一結構之一參考影像物件的一第一資料集；及在該參數之一非標稱條件下獲得表示該結構之一範本影像物件的第二資料集。該方法可進一步包括：獲得表示該第一資料集與該第二資料集之間的改變之一變形場。可藉由變換該第二資料集以將該範本影像物件投影至該參考影像物件上而產生該變形場。可獲得該變形場與該參數之改變之間的一相依性關係。
简体摘要：本发明描述一种侦测、对位及量化一影像之方法及设备。该方法可包括：获得一经微影创建结构之一影像；及将一等位集方法应用于该影像的表示该结构之一对象以创建该结构之一数学表示。该方法可包括：在一参数之一标称条件下获得表示一结构之一参考影像对象的一第一数据集；及在该参数之一非标称条件下获得表示该结构之一范本影像对象的第二数据集。该方法可进一步包括：获得表示该第一数据集与该第二数据集之间的改变之一变形场。可借由变换该第二数据集以将该范本影像对象投影至该参考影像对象上而产生该变形场。可获得该变形场与该参数之改变之间的一相依性关系。

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