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1. 发明专利

TW201907434A 防止異常放電及電漿濃度之絕緣體結構审中-公开
简体标题：防止异常放电及等离子浓度之绝缘体结构
公开(公告)号：TW201907434A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107115558
申请日：2018-05-08
申请人：荷蘭商ASM IP控股公司 , ASM IP HOLDING B. V.
发明人：近藤裕志 , KONDO, HIROSHI , 平山昌樹 , HIRAYAMA, MASAKI
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/02
摘要：本發明提供一種用於一處理裝置之絕緣體，該處理裝置包括一上部電極、一下部電極及一反應腔室，該絕緣體經調適成配置於該上部電極周圍，且該絕緣體包括：一底部末端，其經調適成面向該反應腔室；及一側壁，其面向該上部電極之一側壁，其中該絕緣體之該底部末端之一邊緣部分徑向向內地延伸以形成一突起部分，使得該突起部分覆蓋該上部電極之一底部表面之一邊緣以及該上部電極之該側壁與該絕緣體之該側壁之間的一間隙。
简体摘要：本发明提供一种用于一处理设备之绝缘体，该处理设备包括一上部电极、一下部电极及一反应腔室，该绝缘体经调适成配置于该上部电极周围，且该绝缘体包括：一底部末端，其经调适成面向该反应腔室；及一侧壁，其面向该上部电极之一侧壁，其中该绝缘体之该底部末端之一边缘部分径向向内地延伸以形成一突起部分，使得该突起部分覆盖该上部电极之一底部表面之一边缘以及该上部电极之该侧壁与该绝缘体之该侧壁之间的一间隙。

2. 发明专利

TW201903933A 具有連續凹部之加熱器組件审中-公开
简体标题：具有连续凹部之加热器组件
公开(公告)号：TW201903933A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107104135
申请日：2018-02-06
申请人：荷蘭商ASM IP控股公司 , ASM IP HOLDING B. V.
发明人：近藤裕志 , KONDO, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324 , H01L21/00
摘要：本發明提供一種適於安裝於包含一噴淋頭及一反應腔室之一電漿沈積或電漿蝕刻裝置中之加熱器組件，該加熱器組件適於配置於該反應腔室中以支撐一基板且包含：至少一個通孔，其穿過該加熱器組件；及其上表面上之複數個表面，其等彼此分離且由一連續凹部界定；且該連續凹部包含：複數個主要凹部或凹陷；複數個凹部通道，其等實質上連接每兩個相鄰主要凹部或凹陷；及該加熱器組件之中心處的一凹部或凹陷，其具有不同於該複數個主要凹部或凹陷之一形狀或大小。
简体摘要：本发明提供一种适于安装于包含一喷淋头及一反应腔室之一等离子沉积或等离子蚀刻设备中之加热器组件，该加热器组件适于配置于该反应腔室中以支撑一基板且包含：至少一个通孔，其穿过该加热器组件；及其上表面上之复数个表面，其等彼此分离且由一连续凹部界定；且该连续凹部包含：复数个主要凹部或凹陷；复数个凹部信道，其等实质上连接每两个相邻主要凹部或凹陷；及该加热器组件之中心处的一凹部或凹陷，其具有不同于该复数个主要凹部或凹陷之一形状或大小。

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