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热词
    • 2. 发明专利
    • 降壓方法及其降壓設備
    • 降压方法及其降压设备
    • TW201643978A
    • 2016-12-16
    • TW104117695
    • 2015-06-02
    • 精曜有限公司ARCHERS INC.
    • 曹承育TSAU, CHENG-YU黃正忠HUANG, ZHENG-ZHONG
    • H01L21/67
    • 一種降壓方法係為使用抽氣裝置及升溫裝置以對容置有板件之腔室進行降壓升溫操作。此降壓方法包含使用抽氣裝置對腔室進行抽氣以降低腔室之實際氣壓至真空氣壓、使用升溫裝置於腔室之實際氣壓在下降至真空氣壓之期間落在真空電弧發生壓力範圍之外時開啟複數個加熱單元以加熱板件至製程溫度,以及使用升溫裝置於腔室之實際氣壓在下降至真空氣壓之期間介於真空電弧發生壓力範圍內時關閉複數個加熱單元。
    • 一种降压方法系为使用抽气设备及升温设备以对容置有板件之腔室进行降压升温操作。此降压方法包含使用抽气设备对腔室进行抽气以降低腔室之实际气压至真空气压、使用升温设备于腔室之实际气压在下降至真空气压之期间落在真空电弧发生压力范围之外时打开复数个加热单元以加热板件至制程温度,以及使用升温设备于腔室之实际气压在下降至真空气压之期间介于真空电弧发生压力范围内时关闭复数个加热单元。
    • 5. 发明专利
    • 降溫裝置及其操作方法
    • 降温设备及其操作方法
    • TW201409625A
    • 2014-03-01
    • TW101131383
    • 2012-08-29
    • 精曜有限公司ARCHERS INC.
    • 曹承育TSAU, CHENG YU黃正忠HUANG, ZHENG ZHONG
    • H01L23/24
    • 本發明提供一種降溫裝置,設置於一裝卸腔中且用以對放置於該裝卸腔中的至少一玻璃基板降溫。降溫裝置包括至少一氣流引導組,設置於至少一玻璃基板的一側。各氣流引導組包括至少一氣流入口及多個氣流出口,這些氣流出口朝向各玻璃基板。氣流入口至各氣流出口的氣流路徑的長度實質上相同。本發明更提供一種降溫裝置的操作方法,用以對放置於一裝卸腔中的至少一玻璃基板降溫。降溫裝置的操作方法包括:配置降溫裝置至裝卸腔中且位於至少一玻璃基板之一側,以及各氣流引導組間歇地朝各玻璃基板噴出一氣流,以使各玻璃基板降溫至一第一溫度。
    • 本发明提供一种降温设备,设置于一装卸腔中且用以对放置于该装卸腔中的至少一玻璃基板降温。降温设备包括至少一气流引导组,设置于至少一玻璃基板的一侧。各气流引导组包括至少一气流入口及多个气流出口,这些气流出口朝向各玻璃基板。气流入口至各气流出口的气流路径的长度实质上相同。本发明更提供一种降温设备的操作方法,用以对放置于一装卸腔中的至少一玻璃基板降温。降温设备的操作方法包括:配置降温设备至装卸腔中且位于至少一玻璃基板之一侧,以及各气流引导组间歇地朝各玻璃基板喷出一气流,以使各玻璃基板降温至一第一温度。
    • 7. 发明专利
    • 取放腔室
    • TW201703169A
    • 2017-01-16
    • TW104122842
    • 2015-07-15
    • 精曜有限公司ARCHERS INC.
    • 雷 仲禮LEI, LAWRENCE CHUNG-LAI黃正忠HUANG, ZHENG-ZHONG
    • H01L21/67
    • 一種取放腔室包含腔室主體與位於腔室主體內之第一板件升降裝置、第二板件升降裝置及加熱裝置。腔室主體具有第一及第二出入口。加熱裝置用來加熱未處理板件至製程溫度。第一板件升降裝置用來承接已處理板件升降。第二板件升降裝置與第一板件升降裝置相對以用來承接未處理板件升降。當第一板件升降裝置承接已處理板件上升時,第二板件升降裝置承接已加熱之未處理板件上升以經由第一出入口進入半導體製程系統。當第二板件升降裝置承接未處理板件下降時,第一板件升降裝置承接已處理板件下降以經由第二出入口離開腔室主體。
    • 一种取放腔室包含腔室主体与位于腔室主体内之第一板件升降设备、第二板件升降设备及加热设备。腔室主体具有第一及第二出入口。加热设备用来加热未处理板件至制程温度。第一板件升降设备用来承接已处理板件升降。第二板件升降设备与第一板件升降设备相对以用来承接未处理板件升降。当第一板件升降设备承接已处理板件上升时,第二板件升降设备承接已加热之未处理板件上升以经由第一出入口进入半导体制程系统。当第二板件升降设备承接未处理板件下降时,第一板件升降设备承接已处理板件下降以经由第二出入口离开腔室主体。