专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2017083270A 検査方法および検査装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017083270A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2015211244
申请日：2015-10-27
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： INOUE HIROSHI , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , G03F1/84
CPC分类号： G01B11/30 , G01N21/956 , G03F1/84
摘要：【課題】擬似欠陥を低減して正確な検査を行うことのできる検査方法および検査装置を提供する。【解決手段】光源の光を高解像度の光学系を介してマスクに照射し、高解像度の光学画像データを取得する。また、この光を低解像度の光学系を介して同じマスクに照射し、低解像度の光学画像データを取得する。マスクパターンの設計データに対し、マスクの製造プロセス、およびマスクパターンが半導体基板へ転写されて製造される半導体装置の製造プロセスの少なくとも一方で定められたマスクパターンの形状と寸法が反映されるように補正し、補正後の設計データから、高解像度の光学画像データと低解像度の光学画像データとに対応する各参照画像データを生成する。そして、低解像度の光学画像データにおける欠陥の情報を参照して、高解像度の光学画像データで検出された欠陥が、真の欠陥であるか擬似欠陥であるかを判定する。【選択図】図4

2. 发明专利

JP2014215218A 検査装置有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2014215218A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2013094044
申请日：2013-04-26
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： TAYA MAKOTO , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/956
摘要：【課題】対物レンズの特性を安定に保ち、高い精度で欠陥検出を行うことができる検査装置を提供する。【解決手段】検査装置100は、マスク101の光学画像を取得する構成部Aとそこで取得された光学画像を用いて検査に必要な処理を行う構成部Bとを有する。構成部Aは、光源103、XYθテーブル102、照明光学系170、フォトダイオードアレイ105、センサ回路106およびレーザ測長システム122とそれらを収納して温度管理するチャンバ180を有する。検査装置100は、対物レンズユニット104に接続されて、チャンバ180の外部から対物レンズユニット104の内部に不活性ガスを供給するガス配管181をさらに有し、ガス配管181のチャンバ180内に配置される部分は、対物レンズユニット104の内部に供給される不活性ガスがチャンバ180の設定温度となる長さと配置構造を有する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够稳定地保持物镜的特性并且以高精度执行缺陷检测的检查装置。解决方案：检查装置100包括：用于获取掩模101的光学图像的构造部分A; 以及配置部分B，用于使用在配置部分A中获取的光学图像执行检查所需的处理。配置部分A包括：光源103; 一个XY＆thetas; 表102; 照明光学系统170; 光电二极管阵列105; 传感器电路106; 和激光长度测量系统122; 以及用于存储这些元件并执行温度管理的室180。检查装置100连接到物镜单元104，并且还包括：用于从室180的外部向物镜单元104的内部供应惰性气体的气体管道181.设置在室180内的部分气体管道181具有供给到物镜单元104的内部的惰性气体成为室180的设定温度的长度和排列结构。

3. 发明专利

JP2014055789A Pattern evaluation method, and pattern evaluation device 审中-公开
标题翻译：模式评估方法和模式评估装置
公开(公告)号：JP2014055789A
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：JP2012199366
申请日：2012-09-11
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： OGAWA TSUTOMU , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/027
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/95676
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern evaluation method and a pattern evaluation device, capable of evaluating a fine pattern with high accuracy and without causing deterioration of throughput.SOLUTION: Light from a light source 5 is radiated so as to obtain an optical image of a specimen 1 having a repetition pattern of a cycle equal to or less than a resolution of an optical system. Next, a gradation value is imparted to each pixel of the optical image so as to obtain at least either one of an average gradation value for each prescribed unit area and a variation of gradation values in the unit area. Next, at least either one of processing of converting the average gradation value to average line width information in the unit area of the repetition pattern, and processing of converting the variation of gradation values to a roughness of the repetition pattern is performed, so as to create, by using an obtained conversion value, a map representative of a distribution of at least one of the average line width information and the roughness.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案评估方法和图案评估装置，其能够高精度地评估精细图案，而不会导致生产量的劣化。解决方案：照射来自光源5的光以获得光学图像具有等于或小于光学系统的分辨率的周期的重复图案的样本1。接下来，对光学图像的每个像素赋予灰度值，以便获得每个规定单位面积的平均灰度值和单位面积中灰度值的变化中的至少一个。接下来，执行将重复图案的单位区域中的平均灰度值转换为平均线宽信息的处理，以及将灰度值的变化转换为重复图案的粗糙度的处理中的至少一个，以便通过使用获得的转换值来创建代表平均行宽信息和粗糙度中的至少一个的分布的映射。

4. 发明专利

JP2013167608A Inspection device and inspection method 有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2013167608A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012032506
申请日：2012-02-17
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： INOUE TAKAFUMI , MATSUMOTO EIJI , KIKUIRI NOBUTAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T7/001 , G06T2207/20021 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device and an inspection method capable of reducing position errors generated during an inspection process.SOLUTION: The inspection region of a mask 101 is virtually divided by stripes 20a to 20i, and the pattern of position error correction means 10 is also virtually divided by the stripes 20a to 20i. For both of the mask 101 and the position error correction means 10, a stage 102 is moved so as to continuously scan all the stripes and obtain optical images thereof. The fluctuation values of the position coordinates of the patterns formed in the position error correction means 10 are obtained from the optical images of the position error correction means 10. The fluctuation values of the position coordinates of respective patterns in the inspection region of the mask 101 are obtained based on the fluctuation value to correct the position coordinates. Then, a map is created from the fluctuation values of the position coordinates of the respective patterns in the inspection region of the mask 101.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够减少在检查过程中产生的位置误差的检查装置和检查方法。解决方案：掩模101的检查区域实际上被条纹20a至20i划分，并且位置误差校正的图案装置10也实际上被条纹20a至20i划分。对于掩模101和位置误差校正装置10两者，移动载物台102，以连续地扫描所有的条纹并获得其光学图像。由位置误差校正装置10的光学图像获得形成在位置误差校正装置10中的图案的位置坐标的波动值。掩模101的检查区域中各图案的位置坐标的波动值基于波动值获得以校正位置坐标。然后，根据掩模101的检查区域中的各图案的位置坐标的波动值创建地图。

5. 发明专利

JP2012127856A Pattern test device and pattern test method 审中-公开
标题翻译：模式测试设备和模式测试方法
公开(公告)号：JP2012127856A
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：JP2010280584
申请日：2010-12-16
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： HASHIMOTO HIDEAKI , HIRONO MASATOSHI , HIRANO RYOICHI , OGAWA TSUTOMU , TAKEDA MASAYA , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N21/956
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern test device for detecting a defect and determining the kind of defect to be detected.SOLUTION: The pattern test device includes: a light source; a reflection illumination light system which includes a test light generation part for generating a first test light and a second test light different in polarization state and irradiates the first test light and the second test light to the same surface of a sample; an image-formation optical system for forming images of the first test light and the second test light radiated to the sample as a first image and a second image respectively; an optical expansion system for expanding the first image and the second image; an image sensor for picking up images of the first image and the second image which are expanded by the optical expansion system; a storage part for storing a first test image to be an image of the first image, and a second test image to be an image of the second image, picked up by the image sensor; a detection part for comparing the first test image stored to the storage part with a first reference image and comparing the second test image with a second reference image to detect a defect; and a determination part for determining the kind of defect of the defect.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于检测缺陷并确定要检测的缺陷的种类的图案测试装置。解决方案：图案测试装置包括：光源; 反射照明光系统，其包括用于产生第一测试光的测试光产生部分和偏振态不同的第二测试光，并将第一测试光和第二测试光照射到样品的相同表面; 图像形成光学系统，用于分别形成作为第一图像和第二图像的第一测试光和照射到样本的第二测试光的图像; 用于扩展第一图像和第二图像的光学扩展系统; 用于拾取由所述光学扩展系统扩展的所述第一图像和所述第二图像的图像的图像传感器; 用于存储作为第一图像的图像的第一测试图像的存储部分和由图像传感器拾取的作为第二图像的图像的第二测试图像; 用于将存储在存储部分的第一测试图像与第一参考图像进行比较并将第二测试图像与第二参考图像进行比较以检测缺陷的检测部件; 以及确定部件，用于确定缺陷的缺陷的种类。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2017083301A パターン検査方法及びパターン検査装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017083301A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2015211998
申请日：2015-10-28
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： INOUE TAKAFUMI , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01N23/225 , G01N23/203
CPC分类号： G01N23/2251 , G01N2223/6116 , G06T5/002 , G06T7/001 , G06T7/0081 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/2826
摘要：【課題】電子ビームによるマルチビームを用いたパターン検査においてマルチビーム検査に特有な疑似欠陥を低減可能なパターン検査方法を提供する。【解決手段】複数の電子ビームが所定のピッチで配置されたマルチビームを用いて、複数の図形パターンが形成された被検査基板上を走査し、マルチビームが照射されたことに起因して被検査基板から放出される、反射電子を含む2次電子群を検出する工程と、マルチビームのビーム毎に、当該ビームが走査した第1の領域に対応する2次電子の検出信号から得られる第1の領域像の歪みを個別に補正する工程と、ビーム毎に個別に第1の領域像の歪みが補正された各第1の領域像のデータを用いて、第1の領域よりも大きい第2の領域単位で、第2の領域像の歪みを補正する工程と、第2の領域像の歪みが補正された被検査画像を、被検査画像と同じ領域の参照画像を用いて比較し、結果を出力する工程と、を備える。【選択図】図8

7. 发明专利

JP2013195958A Inspection device and inspection method 有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2013195958A
公开(公告)日：2013-09-30
申请号：JP2012066065
申请日：2012-03-22
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： INOUE TAKAFUMI , KIKUIRI NOBUTAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G03F1/84 , G01B11/00 , G01N21/956
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a position error caused in an inspection process.SOLUTION: Position error correction means 10 where a pattern to be virtually divided by multiple stripes has been formed is arranged in an area different from a mask 101 on a stage 102. A first displacement amount acquisition circuit 124 acquires a displacement (a first displacement amount) of the position error correction means 10 on the basis of an optical image of the position error correction means 10 and a reference image. A second displacement amount acquisition circuit 125 acquires a displacement (a second displacement amount) of a position coordinate of the pattern formed at the position error correction means 10. A position correction circuit 126 uses the first displacement amount to correct a positional relationship between the mask 101 and the position error correction means 10, and uses the second displacement amount to obtain a variation value of the position coordinate of each pattern in an inspection area of the mask 101 and to correct the position coordinate.
摘要翻译：要解决的问题：减少在检查过程中引起的位置误差。解决方案：位置误差校正装置10，其中形成了被虚线划分的多个条纹的图案被布置在与平台102上的掩模101不同的区域中第一位移量获取电路124基于位置误差校正装置10的光学图像和参考图像来获取位置误差校正装置10的位移（第一位移量）。第二位移量获取电路125获取在位置误差校正装置10处形成的图案的位置坐标的位移（第二位移量）。位置校正电路126使用第一位移量来校正掩模 101和位置误差校正装置10，并且使用第二位移量来获得掩模101的检查区域中的每个图案的位置坐标的变化值，并校正位置坐标。

8. 发明专利

JP2013077683A Reticle support mechanism and inspection apparatus for reticle 有权
标题翻译：反馈支持机制和检验手段
公开(公告)号：JP2013077683A
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：JP2011216363
申请日：2011-09-30
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/84 , H01L21/683
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reticle support mechanism in which deformation of a reticle can be suppressed to a minimum, and an inspection apparatus for the reticle.SOLUTION: A reticle support mechanism 1 supporting a reticle 104 is configured by comprising a reticle support stage 102 and an intermediate member 103 placed on the reticle support stage 102, such that the reticle support stage 102 supports the reticle 104 via the intermediate member 103. The reticle support stage 102 supports the reticle 104 at two points using neighboring two corners of the reticle 104, and supports the intermediate member 103 at one point. The intermediate member 103 supports the reticle 104 using two corners different from the two corners of the reticle 104. By using the reticle support mechanism 1, an inspection apparatus 100 is configured.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种掩模版支撑机构，其中可以将掩模版的变形抑制到最小限度，以及用于掩模版的检查装置。解决方案：支撑标线片104的掩模版支撑机构1通过包括掩模版支撑台102和放置在光罩支撑台102上的中间部件103构成，使得标线片支撑台102经由中间件支撑标线片104 标线片支撑台102使用标线片104的相邻两个角部在两个点处支撑标线片104，并且在一个点处支撑中间构件103。中间构件103使用与标线片104的两个角不同的两个角部来支撑标线片104.通过使用掩模版支撑机构1，构成检查装置100。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2017090063A パターン検査装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017090063A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015216089
申请日：2015-11-02
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： KIKUIRI NOBUTAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/045 , H01J37/141 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/20285 , H01J2237/20292 , H01J2237/2448 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01J2237/30422 , H01J2237/30438 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764
摘要：【課題】電子ビームのビーム径が小さい場合でも、現実的ではない相当に大規模なプロセッサ群を搭載せずに転送及びデータ処理が可能なパターン検査装置を提供する。【解決手段】反射電子を含む2次電子を検出する検出器422と、電子ビームが照射される照射単位領域毎の検出データを入力し、2次元状のn1×m1個の照射単位領域で構成される領域を、検査用の測定画像を構成する2次元状のn2×m2個の画像基準領域のうちの1つの画像基準領域として、画像基準領域毎に、当該画像基準領域内のすべての照射単位領域の検出データから得られる統計値を演算し、当該画像基準領域に統計値を画像基準データとして定義する検出回路106と、画像基準領域毎の画像基準データの転送を受け、n2×m2個の画像基準領域で構成される測定画像に対応する参照画像を用いて、当該測定画像と参照画像とを画像基準領域毎に比較する比較回路108と、を備えた。【選択図】図1

10. 发明专利

JP2014228375A 検査感度評価方法有权
标题翻译：检测灵敏度评估方法
公开(公告)号：JP2014228375A
公开(公告)日：2014-12-08
申请号：JP2013107837
申请日：2013-05-22
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： HASHIMOTO HIDEAKI , KIKUIRI NOBUTAKA
IPC分类号： G01B11/02 , G01N21/956 , G06T1/00 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148
摘要：【目的】要求される精度の位置ずれを検査可能か評価することが可能な検査感度評価方法を提供する。【構成】本発明の一態様の検査感度評価方法は、基準設計データに基づく、複数の図形パターンの基準設計画像を作成する工程と、基準設計データに定義された複数の図形パターンに対して画像内の複数の図形パターンを一様に位置ずれさせた、予め設定された複数の位置ずれ量に基づく位置ずれ量が異なる複数の位置ずらし設計画像を作成する工程と、基準設計データに基づいて作製されたフォトマスクの光学画像を取得する工程と、基準設計画像と光学画像との間での第1の位置ずれ量を演算する工程と、複数の位置ずらし設計画像の各位置ずらし設計画像と光学画像との間での第2の位置ずれ量を演算する工程と、第1と第2の位置ずれ量を用いて、検出可能な位置ずれ量を取得する工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以所需精度评估检查位置偏差的可能性的检查灵敏度评估方法。解决方案：检查灵敏度评估方法包括以下步骤：基于多个图形的基准设计图像参考设计数据; 基于多个预设量的位置偏差，产生具有不同数量的位置偏差的多个位置偏移设计图像，其中图像中的多个图形相对于所定义的多个图形模式以均匀的方式位置偏离通过参考设计数据; 获取基于参考设计数据产生的光掩模的光学图像; 计算参考设计图像和光学图像之间的第一位置偏差; 计算所述多个位置偏差设计图像中的每一个与所述光学图像之间的第二位置偏差量; 以及使用所述第一和第二位置偏差量获取可检测量的位置偏差。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式