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1. 发明申请

WO2009104717A1 高分子化合物审中-公开
标题翻译：聚合物化合物
公开(公告)号：WO2009104717A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/052971
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社クラレ , JSR株式会社 , 中山修 , 福本隆司 , 川上峰規 , 杉浦誠 , 楠本士朗
发明人：中山修 , 福本隆司 , 川上峰規 , 杉浦誠 , 楠本士朗
IPC分类号： C08F20/38 , C07D339/08 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC分类号： C07D339/08 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要：　酸に対する反応性および熱安定性に優れ、現像時の膨潤が小さく、波長１９３ｎｍにおける屈折率が好ましくは１．７２以上のフォトレジスト膜を形成し得るフォトレジスト組成物であって、フォトレジスト膜としてパターンニング可能なフォトレジスト組成物を得るための、下記化合物を少なくとも原料の１つとする高分子化合物を提供する。
摘要翻译：提供一种聚合物化合物，其是能够形成具有优异的酸反应性和热稳定性，显影期间溶胀最小，193nm波长的折射率优选为1.72以上的光致抗蚀剂膜，并且用于获得光刻胶组合物能够被图案化为光致抗蚀剂膜，并且具有以下化合物作为起始材料中的至少一种。

2. 发明申请

WO2009104722A1 アクリル酸エステル誘導体および高分子化合物审中-公开
标题翻译：丙烯酸酯衍生物和聚合物化合物
公开(公告)号：WO2009104722A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/052979
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社クラレ , 中山修 , 福本隆司
发明人：中山修 , 福本隆司
IPC分类号： C07D327/06 , C07D319/12 , C07D327/00 , C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , C07D319/12 , C07D327/00 , C07D327/06 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397
摘要：　１）酸に対する反応性および熱安定性に優れ、かつ、現像時の膨潤が小さい高分子化合物、２）該高分子化合物の原料となる下記化合物、および３）該高分子化合物を含有する、ＬＷＲが改善され、耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供する。（式中、ｎは０～２の整数を表し、Ｒ 1 は水素原子、メチル基等を表し、Ｒ 2 ～Ｒ 10 はそれぞれ独立して水素原子、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基等を表し、ＡおよびＢはそれぞれ独立して酸素原子又は硫黄原子を表す。）
摘要翻译：提供1）具有优异的酸反应性和热稳定性以及显影期间最小溶胀的聚合物化合物，2）用作所述聚合物化合物的起始材料的下式的化合物，和3）包含所述聚合物化合物的光致抗蚀剂组合物，其中 LWR得到了改进，具有优异的耐热性。（式中，n表示0〜2的整数，R 1表示氢原子，甲基等，R 2〜R 10各自独立地表示氢原子，直链烷基，支链烷基等， A和B各自独立地表示氧原子或硫原子。）

3. 发明申请

WO2009104727A1 アクリル酸エステル誘導体の製造方法並びにアクリル酸エステル誘導体およびその中間体审中-公开
标题翻译：生产丙烯酸酯衍生物，丙烯酸酯衍生物及其中间体的方法
公开(公告)号：WO2009104727A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/052998
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社クラレ , 中山修 , 福本隆司
发明人：中山修 , 福本隆司
IPC分类号： C07D339/08 , C08F20/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D339/08 , C07D339/00 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397
摘要：　１）酸に対する反応性および熱安定性に優れ、現像時の膨潤が小さく、波長１９３ｎｍにおける屈折率が好ましくは１．７２以上のフォトレジスト膜を形成し得るフォトレジスト組成物であって、フォトレジスト膜としてパターンニング可能なフォトレジスト組成物を得るための高分子化合物の原料となり得る下記のアクリル酸エステル誘導体の製造方法、２）該製造方法により得られる下記のアクリル酸エステル誘導体、並びに３）該アクリル酸エステル誘導体の合成中間体となるアルコールおよびエステルを提供する。
摘要翻译：公开了一种制备由下式表示的丙烯酸酯衍生物的方法，其可以是用于获得光致抗蚀剂组合物的高分子化合物的原料，该光致抗蚀剂组合物可以形成和图案化为具有优异的酸反应性和优异的热稳定性的光致抗蚀剂膜，同时在开发过程中几乎没有肿胀。光致抗蚀剂膜的波长193nm的折射率优选为1.72以上。还公开了通过制备方法制备的由下式表示的丙烯酸酯衍生物和用作丙烯酸酯衍生物的合成中间体的醇和酯。

4. 发明申请

WO2009104726A1 （メタ）アクリル酸エステル誘導体およびその中間体並びに高分子化合物审中-公开
标题翻译：（METH）丙烯酸酯衍生物，其中间体和聚合物化合物
公开(公告)号：WO2009104726A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/052994
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社クラレ , 佐藤純子 , 中山修 , 福本隆司
发明人：佐藤純子 , 中山修 , 福本隆司
IPC分类号： C07D327/06 , C07D339/08 , C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D327/06 , C07D339/08 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F222/06 , C08F232/08
摘要：　現像時の膨潤が小さい高分子化合物の原料として有用な下記の重合性化合物、該重合性化合物を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物を含有するＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物、並びに前記重合性化合物の効率的な製造方法を提供する。（式中、ｎは０～２の整数を表す。Ｒ 1 は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ 2 、Ｒ 3 、Ｒ 4 、Ｒ 5 、Ｒ 6 、Ｒ 7 、Ｒ 8 、Ｒ 9 、Ｒ 10 は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基などを表す。Ｗは、炭素数１～１０のアルキレン基などを表す。Ｙ 1 およびＹ 2 は、酸素原子または硫黄原子を表す。）
摘要翻译：公开了由下式表示的可聚合化合物，其可用作在显影期间几乎没有溶胀的高分子化合物的原料。还公开了通过聚合含有可聚合化合物的原料，含有高分子化合物的光致抗蚀剂组合物和具有改进的LWR而获得的高分子化合物和有效地制备可聚合化合物的方法。（式中，n表示0-2的整数，R 1表示氢原子，甲基或三氟甲基; R 2，R 3，R 4，R 5，R 6，R 7，R 8，R 9，R 10各自表示氢原子，具有1-6个碳原子的烷基等; W表示具有1-10个碳原子等的亚烷基; Y1和Y2各自表示氧原子或硫原子。）

5. 发明专利

JP2016023153A アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法审中-公开
标题翻译：丙烯酸酯衍生物及其制备方法
公开(公告)号：JP2016023153A
公开(公告)日：2016-02-08
申请号：JP2014147282
申请日：2014-07-18
申请人：株式会社クラレ
发明人：森本圭亮 , 中山修
IPC分类号： C07C67/10 , C08F22/20 , C08F265/06 , C07C69/67
摘要：【課題】露光条件下で良好な硬度を有し、透明性、耐熱黄変性、耐光性に優れ、かつ現像の際にスカム(溶け残り)が生じない絶縁層を形成する絶縁層形成用組成物を与える新規なアクリル酸エステル誘導体、及びその製造方法の提供。【解決手段】式(1)で示されるアクリル酸エステル誘導体。 (R 1 はH、メチル基又はトリフルオロメチル基;R 2 はH、C1〜10のアルキル基又はC1〜10のアルコキシ基;WはC1〜15のアルキレン基;Xは単結合、C1〜7のアルキレン基;Y 1 及びY 2 は各々独立にC1〜15のアルキレン基;ZはCO 2 H、SO 3 H又はPO 3 H) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够提供用于形成绝缘层的组合物的新的丙烯酸酯衍生物，用于形成在暴露条件下具有良好硬度的绝缘层，具有优异的透明性，耐黄变性和耐光性，并且不产生浮渣（溶解残渣），并提供其制造方法。解决方案：提供由式（1）表示的丙烯酸酯衍生物：其中R代表H，甲基或三氟甲基; R代表 H，碳原子数1〜10的烷基或碳原子数1〜10的烷氧基; W表示碳原子数1〜15的亚烷基，X表示单键或碳原子数1〜7的亚烷基。 Yand Yeach独立地表示具有1至15个碳原子的亚烷基; Z表示COH，SOH或POH）选择的图：无

6. 发明专利

JP6078526B2 アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法、中間体およびその製造方法、高分子化合物、フォトレジスト組成物有权
标题翻译：丙烯酸酯衍生物和其制备方法，中间体和它们的制备方法，聚合物化合物，光致抗蚀剂组合物
公开(公告)号：JP6078526B2
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：JP2014502221
申请日：2013-02-25
申请人：株式会社クラレ
发明人：竹田明展 , 福本隆司 , 中山修
IPC分类号： C08F20/38 , G03F7/039 , C07D275/06
CPC分类号： G03F7/038 , C07D275/04 , C07D275/06 , C08F128/06 , C08F20/38 , C08F228/02 , G03F7/0397

7. 发明专利

JP2015168735A 新規なアルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、ハロエステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物审中-公开
标题翻译：新型酒精衍生物，丙烯酸衍生物，阴离子衍生物，聚合物和光电子组合物
公开(公告)号：JP2015168735A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014043416
申请日：2014-03-06
申请人：株式会社クラレ
发明人：谷佳典 , 中山修 , 竹田明展
IPC分类号： G03F7/039 , C07D493/22 , C08F20/28
摘要：【課題】半導体フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位としたときに、線幅変動等のリソグラフィー特性に優れるアクリル酸エステル誘導体、該アクリル酸エステル誘導体の中間体、その製造方法、該アクリル酸エステル誘導体を構成単位として含有する高分子化合物、及び該高分子化合物を含む半導体用フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】一般式(1)で示されるアクリル酸エステル誘導体。 (R1〜R4及びR6〜R11は各々独立してH又はC1〜5のアルキル基;R12はH、メチル基又はトリフルオロメチル基;WはC1〜10のアルキレン基又はC5〜10のシクロアルキレン基;nは0又は1) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种丙烯酸酯衍生物，当衍生物用作要结合到半导体光致抗蚀剂组合物中的高分子化合物的结构单元时，显示出优异的平版印刷特性，例如线宽度变化，丙烯酸酯衍生物的中间体，这些化合物的方法，含有丙烯酸酯衍生物作为结构单元的高分子化合物和含有该聚合物的半导体光致抗蚀剂组合物。溶液：丙烯酸酯衍生物由通式（1）表示。在该式中，R 1至R 4和R 6和R 11各自独立地表示H或具有1至5个碳原子的烷基; R 12表示H，甲基或三氟甲基; W表示碳原子数1〜10的亚烷基或碳原子数5〜10的亚环烷基。 n表示0或1。

8. 发明专利

JP2015096472A アクリル酸エステル誘導体の製造方法並びに中間体およびその製造方法审中-公开
标题翻译：制备丙烯酸酯衍生物的方法及其中间体及其生产方法
公开(公告)号：JP2015096472A
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：JP2013236465
申请日：2013-11-15
申请人：株式会社クラレ , 東京応化工業株式会社
发明人：谷佳典 , 中山修 , 新井雅俊 , 内海義之
IPC分类号： C07D493/08
摘要：【課題】フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位の1つとしたときに、LWRなどのリソグラフィー特性に優れ、高解像度のレジストパターンを形成し得る新規なアクリル酸エステル誘導体の製造方法を提供すること。さらに、該アクリル酸エステル誘導体の中間体およびその製造方法を提供すること。【解決手段】下記一般式(1) (式中、Aは、−C(=O)−O−含有環式基、−SO 2 −含有環式基、−O−C(=O)−O−含有環式基、−NR 14 −SO 2 −含有環式基、または、−NR 14 −C(=O)−含有環式基である。Wはアルキレン基またはシクロアルキレン基を表す。X 1 は、酸素原子若しくは硫黄原子を含むまたは含まないアルキレン基、酸素原子または硫黄原子を表す。X 2 はハロゲン原子を表す。)で示されるハロエステル誘導体および該ハロエステル誘導体の製造方法、並びに該ハロエステル誘導体を用いたアクリル酸エステル誘導体の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种新型丙烯酸酯衍生物的制造方法，其能够将作为高分子化合物的结构单元使用时形成具有优异的光刻特性的抗蚀剂图案，例如LWR（线宽粗糙度）和高分辨率，包含在光致抗蚀剂组合物中，并提供丙烯酸酯衍生物的中间体及其制备方法。溶液：提供由通式（1）表示的卤代酯衍生物，其中A为-C（= 含-O-的环状基团，含-SO的环状基团，-OC（= O）-O的环状基团，含有-NR-SO的环状基团或含有NR-C（= O）的环状基团） W表示亚烷基或亚环烷基，X表示含有或不含有氧原子或硫原子，氧原子或硫原子的亚烷基，X表示卤素原子。还提供了卤代酯衍生物的制备方法和使用该卤代酯衍生物的丙烯酸酯衍生物的制造方法。

9. 发明专利

JP5860820B2 アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物有权
标题翻译：丙烯酸酯衍生物，聚合物化合物和光刻胶组合物
公开(公告)号：JP5860820B2
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：JP2012555787
申请日：2012-01-18
申请人：株式会社クラレ
发明人：中山修
IPC分类号： C07C271/34 , C07D309/10 , H01L21/027 , C08F20/36
CPC分类号： G03F7/0397 , C07C271/34 , C07D307/20 , C07D309/10 , C08F20/36 , C08F220/36 , C07C2101/04 , C07C2101/08 , C07C2101/14 , C07C2103/74 , C08F2220/365 , C08F224/00 , C08F228/06

10. 发明专利

JP5840146B2 ビニルスルホン酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物有权
标题翻译：乙烯基磺酸酯衍生物，聚合物化合物和光刻胶组合物
公开(公告)号：JP5840146B2
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：JP2012553657
申请日：2012-01-10
申请人：株式会社クラレ
发明人：中山修 , 谷佳典 , 福本隆司 , 竹田明展
IPC分类号： C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , C07D307/33 , C08F28/02 , G03F7/039 , C07D307/00
CPC分类号： C07D307/33 , C07D327/04 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D497/18 , C08F228/02 , G03F7/0397

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