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1. 发明专利

JP2015096472A アクリル酸エステル誘導体の製造方法並びに中間体およびその製造方法审中-公开
标题翻译：制备丙烯酸酯衍生物的方法及其中间体及其生产方法
公开(公告)号：JP2015096472A
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：JP2013236465
申请日：2013-11-15
申请人：株式会社クラレ , 東京応化工業株式会社
发明人：谷佳典 , 中山修 , 新井雅俊 , 内海義之
IPC分类号： C07D493/08
摘要：【課題】フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位の1つとしたときに、LWRなどのリソグラフィー特性に優れ、高解像度のレジストパターンを形成し得る新規なアクリル酸エステル誘導体の製造方法を提供すること。さらに、該アクリル酸エステル誘導体の中間体およびその製造方法を提供すること。【解決手段】下記一般式(1) (式中、Aは、−C(=O)−O−含有環式基、−SO 2 −含有環式基、−O−C(=O)−O−含有環式基、−NR 14 −SO 2 −含有環式基、または、−NR 14 −C(=O)−含有環式基である。Wはアルキレン基またはシクロアルキレン基を表す。X 1 は、酸素原子若しくは硫黄原子を含むまたは含まないアルキレン基、酸素原子または硫黄原子を表す。X 2 はハロゲン原子を表す。)で示されるハロエステル誘導体および該ハロエステル誘導体の製造方法、並びに該ハロエステル誘導体を用いたアクリル酸エステル誘導体の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种新型丙烯酸酯衍生物的制造方法，其能够将作为高分子化合物的结构单元使用时形成具有优异的光刻特性的抗蚀剂图案，例如LWR（线宽粗糙度）和高分辨率，包含在光致抗蚀剂组合物中，并提供丙烯酸酯衍生物的中间体及其制备方法。溶液：提供由通式（1）表示的卤代酯衍生物，其中A为-C（= 含-O-的环状基团，含-SO的环状基团，-OC（= O）-O的环状基团，含有-NR-SO的环状基团或含有NR-C（= O）的环状基团） W表示亚烷基或亚环烷基，X表示含有或不含有氧原子或硫原子，氧原子或硫原子的亚烷基，X表示卤素原子。还提供了卤代酯衍生物的制备方法和使用该卤代酯衍生物的丙烯酸酯衍生物的制造方法。

2. 发明专利

JP2021096384A レジスト組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021096384A
公开(公告)日：2021-06-24
申请号：JP2019228281
申请日：2019-12-18
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：グエンカンティン , 新井雅俊 , 道林信弘
IPC分类号： C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要：【課題】高感度化が図れ、かつ、リソグラフィー特性に優れ、矩形性の高いレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】一般式(a01−1)で表される化合物から誘導される構成単位と、一般式(a02−1)で表される化合物から誘導される構成単位とを有する樹脂成分、及び、アニオン部とカチオン部とを有する化合物からなる酸発生剤成分を含有する、レジスト組成物。[式(a01−1)中、W 1 は重合性基含有基である。C t は第3級炭素原子である。R 11 は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基である。C t のα位は、炭素−炭素不飽和結合を構成する炭素原子である。式(a02−1)中、W 2 は重合性基含有基である。Wa 2 は芳香族炭化水素基である。] 【選択図】なし

3. 发明专利

JP2021033026A レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物审中-公开
公开(公告)号：JP2021033026A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019152373
申请日：2019-08-22
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：大西行志 , 新井雅俊 , 小室嘉崇
IPC分类号： C08F20/26 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要：【課題】感度が良好で、かつ、ラフネスが改善されたレジスト組成物、レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物の樹脂成分として有用な高分子化合物、及び高分子化合物を製造するために有用な化合物の提供。【解決手段】一般式(a0)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含む、レジスト組成物(式中、Ya 0 は炭素原子である。Xa 0 は、Ya 0 と共に単環式の炭化水素基を形成する基である。Ra 00 は炭化水素基である。ただし、Xa 0 及びRa 00 の少なくとも一つは、Ya 0 のα位に、炭素−炭素不飽和結合を構成する炭素原子を有している)。【選択図】なし

4. 发明专利

JP6768370B2 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物有权
公开(公告)号：JP6768370B2
公开(公告)日：2020-10-14
申请号：JP2016123080
申请日：2016-06-21
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：新井雅俊 , 福村友貴 , 高山寿一 , 神園喬 , 矢萩真人
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C07C381/12 , C07C309/12 , C09K3/00 , C07D327/04 , G03F7/004

5. 发明专利

JP6715375B2 ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6715375B2
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：JP2019094831
申请日：2019-05-20
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：山崎広人 , 小室嘉崇 , 新井雅俊 , 川名大助 , 鈴木健太 , 藤井達也
IPC分类号： G03F7/039 , C08F212/14 , C08F220/56 , C08F220/30 , G03F7/20 , G03F7/004

6. 发明专利

JP6670555B2 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6670555B2
公开(公告)日：2020-03-25
申请号：JP2015120482
申请日：2015-06-15
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：平山拓 , 川名大助 , 小室嘉崇 , 新井雅俊 , 松丸省吾 , 鈴木健太 , 神園喬 , 藤井達也
IPC分类号： C08F220/28 , C08F220/58 , G03F7/20 , G03F7/039

7. 发明专利

JP6646990B2 レジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6646990B2
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：JP2015192666
申请日：2015-09-30
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：新井雅俊 , 小室嘉崇 , 高木大地
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/16 , G03F7/20 , G03F7/038

8. 发明专利

JP6442370B2 スルホニウム塩および光酸発生剤有权
公开(公告)号：JP6442370B2
公开(公告)日：2018-12-19
申请号：JP2015128335
申请日：2015-06-26
申请人：サンアプロ株式会社 , 東京応化工業株式会社
发明人：池田卓也 , 高嶋祐作 , 安井誠治 , 小室嘉崇 , 山崎広人 , 新井雅俊
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12

9. 发明专利

JP2018092159A レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤审中-公开
公开(公告)号：JP2018092159A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2017225206
申请日：2017-11-22
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：新井雅俊 , 前橋貴哉 , 池田卓也
IPC分类号： G03F7/039 , C07D327/04 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C25/18 , C07C307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/86 , C07C2603/88 , C08F10/00 , G03F7/0045 , G03F7/0125 , G03F7/0397
摘要：【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物と、を含有するレジスト組成物。式(b1)中、R 01 〜R 014 は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は2個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも2個は相互に結合して環構造を形成する。また、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも1個はアニオン基を有し、アニオン部全体でn価のアニオンとなる。【選択図】なし

10. 发明专利

JP6307250B2 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物有权
公开(公告)号：JP6307250B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2013236868
申请日：2013-11-15
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：新井雅俊 , 内海義之
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/10 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/28 , C08F220/36 , C08F220/38 , C08F2220/387 , C08F2220/1858 , C08F2220/283

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