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1. 发明专利

JP6564552B1 MXene粒子材料、スラリー、二次電池、透明電極、MXene粒子材料の製造方法有权
公开(公告)号：JP6564552B1
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2019522342
申请日：2018-12-28
申请人：株式会社アドマテックス , 株式会社豊田中央研究所
发明人：佐藤仁俊 , 渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 須田明彦 , 深野達雄
IPC分类号： C04B35/00 , H01M4/58 , C04B35/56
摘要：導電性を有するMXene粒子材料及びその製造方法を提供することを解決すべき課題とする。 M a Al b X c 、式中のMはTi、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Taからなる群から選択される1種類以上の元素であり、XはC、[C (1−x) N x (0

(72)発明者冨田亘孝愛知県みよし市黒笹町丸根1099番地20 株式会社アドマテックス内 (72)発明者須田明彦愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者深野達雄愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内審査官神▲崎▼ 賢一 (56)参考文献国際公開第2011/136136(WO,A1) 特開2016−063171(JP,A) 特開2017−076739(JP,A) 特開昭11−279745(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.,DB名) C04B 35/56 C04B 35/00 H01M 4/58

2. 发明专利

JPWO2020136865A1 MXene粒子材料、それらの粒子材料の製造方法、及び、二次電池有权
公开(公告)号：JPWO2020136865A1
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2018048449
申请日：2018-12-28
申请人：株式会社アドマテックス , 株式会社豊田中央研究所
发明人：佐藤仁俊 , 渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 須田明彦 , 深野達雄
IPC分类号： C01B21/082 , H01M4/58 , C04B35/58
摘要：新規MXene粒子材料及びその製造方法を提供する。結晶格子内の空隙層の層間距離が0.59nmから0.70nmである層を含むTi 2 Al x [C (1−y) N y ] z (xは0.02超、0

(81)指定国・地域 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX ,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM, TN,TR,TT (72)発明者冨田亘孝愛知県みよし市黒笹町丸根1099番地20 株式会社アドマテックス内 (72)発明者須田明彦愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者深野達雄愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内 Fターム(参考) 5H050 AA08 AA19 BA15 BA16 BA17 CB01 HA02 HA04 HA05 HA13 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。

3. 发明专利

JP6564553B1 MXene粒子材料、それらの粒子材料の製造方法、及び、二次電池有权
公开(公告)号：JP6564553B1
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2019522353
申请日：2018-12-28
申请人：株式会社アドマテックス , 株式会社豊田中央研究所
发明人：佐藤仁俊 , 渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 須田明彦 , 深野達雄
IPC分类号： C04B35/00 , H01M4/58 , C04B35/56
摘要：新規MXene粒子材料及びその製造方法を提供する。結晶格子内の空隙層の層間距離が0.59nmから0.70nmである層を含むTi 2 Al x [C (1−y) N y ] z (xは0.02超、0

(72)発明者冨田亘孝愛知県みよし市黒笹町丸根1099番地20 株式会社アドマテックス内 (72)発明者須田明彦愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者深野達雄愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内審査官神▲崎▼ 賢一 (56)参考文献国際公開第2011/136136(WO,A1) 特開2016−063171(JP,A) 特開2017−076739(JP,A) 特開昭11−279745(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.,DB名) C04B 35/56 C04B 35/00 H01M 4/58

4. 发明专利

JPWO2020136864A1 MXene粒子材料、スラリー、二次電池、透明電極、MXene粒子材料の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2020136864A1
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2018048448
申请日：2018-12-28
申请人：株式会社アドマテックス , 株式会社豊田中央研究所
发明人：佐藤仁俊 , 渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 須田明彦 , 深野達雄
IPC分类号： C04B35/00 , H01M4/58 , H01M4/139 , C04B35/56
摘要：導電性を有するMXene粒子材料及びその製造方法を提供することを解決すべき課題とする。 M a Al b X c 、式中のMはTi、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Taからなる群から選択される1種類以上の元素であり、XはC、[C (1−x) N x (0

(81)指定国・地域 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX ,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM, TN,TR,TT (72)発明者冨田亘孝愛知県みよし市黒笹町丸根1099番地20 株式会社アドマテックス内 (72)発明者須田明彦愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者深野達雄愛知県長久手市横道41番地の1 株式会社豊田中央研究所内 Fターム(参考) 5H050 AA19 BA17 CB01 GA10 HA02 HA04 HA05 HA08 HA14 HA17 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。

5. 发明专利

JP2018008255A 排ガス浄化用触媒担体、それを用いた排ガス浄化用触媒、及び排ガス浄化用触媒担体の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018008255A
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：JP2016140781
申请日：2016-07-15
申请人：株式会社豊田中央研究所 , トヨタ自動車株式会社 , 株式会社アドマテックス
发明人：須田明彦 , 森川彰 , 熊谷直樹 , 田辺稔貴 , 兒玉智己 , 三浦真秀 , 鈴木宏昌 , 佐藤仁俊 , 渡辺友祐 , 野口真宜 , 山田美幸
IPC分类号： B01J37/04 , B01J37/08 , B01J32/00 , B01J23/63 , B01D53/94 , F01N3/10 , B01J23/10
摘要：【課題】高温に長時間曝された場合であっても高い酸素放出速度を示す排ガス浄化用触媒を形成することが可能な排ガス浄化用触媒担体を提供すること。【解決手段】アルミナ、セリア及びジルコニアを含有する複合金属酸化物多孔体からなり、前記多孔体に0.1質量%以上含有されるすべての金属元素について、球面収差補正機能付き走査透過型電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型X線分光分析により20nm角の微小分析範囲における前記金属元素の含有率(質量%)を100箇所の測定点で測定して得られた各金属元素の含有率の標準偏差が10以下であり、 BET法により求めた前記多孔体の比表面積が30m 2 /g以上であり、大気中、1100℃で5時間の焼成による前記多孔体の比表面積の低下率が50%以下であり、還元雰囲気と酸化雰囲気とを5分間毎に交互に切り替えながら1100℃で5時間加熱したことによる前記多孔体の比表面積の低下率が55%以下であり、還元雰囲気と酸化雰囲気とを5分間毎に交互に切り替えながら1100℃で50時間加熱したことによる前記多孔体の比表面積の低下率が80%以下である、ことを特徴とする排ガス浄化用触媒担体。【選択図】なし

6. 发明专利

JP6615060B2 排ガス浄化用触媒担体の製造方法有权
公开(公告)号：JP6615060B2
公开(公告)日：2019-12-04
申请号：JP2016140781
申请日：2016-07-15
申请人：株式会社豊田中央研究所 , トヨタ自動車株式会社
发明人：須田明彦 , 森川彰 , 熊谷直樹 , 田辺稔貴 , 兒玉智己 , 三浦真秀 , 鈴木宏昌 , 佐藤仁俊 , 渡辺友祐 , 野口真宜 , 山田美幸
IPC分类号： B01J37/04 , B01J37/08 , B01J32/00 , B01J23/63 , B01D53/94 , F01N3/10 , B01J23/10

7. 发明专利

JP2020138880A 金属酸化物粒子材料の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020138880A
公开(公告)日：2020-09-03
申请号：JP2019034937
申请日：2019-02-27
申请人：株式会社アドマテックス
发明人：渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 新井雄己
IPC分类号： C01B13/32 , C01B33/18
摘要：【課題】含有する水分の量を減少することができる金属酸化物粒子材料の製造方法を提供することを解決すべき課題とする。【解決手段】金属粒子材料と、前記金属粒子材料を分散する分散媒とをもつ金属粒子材料分散系を調製する調製工程と、前記金属粒子材料分散系を酸化雰囲気ガス中に供給し、前記金属粒子材料を燃焼させることにより、金属酸化物粒子材料を製造する燃焼工程とを有する金属酸化物粒子材料の製造方法であって、前記分散媒及び前記酸化雰囲気ガス中に含有される水分を一定値以下に制御する水分量制御工程を有する。【選択図】なし

8. 发明专利

JP6564517B1 電子材料用フィラー及びその製造方法、電子材料用樹脂組成物の製造方法、高周波用基板、並びに電子材料用スラリー有权
公开(公告)号：JP6564517B1
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2018235932
申请日：2018-12-17
申请人：株式会社アドマテックス
发明人：渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 加藤義明
IPC分类号： C09C1/28 , H01L23/14 , C08L101/00 , C08K9/06 , C01B33/18
摘要：【課題】物理吸着水以外に含有する水分の量を減少することにより電気的特性に優れた電子材料用フィラーが製造できる製造方法を提供することを解決すべき課題とする。【解決手段】乾式法にて製造されたシリカ粒子材料を調製する調製工程と、ビニル基、フェニル基、フェニルアミノ基、炭素数4以上のアルキル基、メタクリル基、又はエポキシ基を有するシラン化合物にて前記シリカ粒子材料を表面処理して第1表面処理済粒子材料とする第1表面処理工程とを有し、前記シリカ粒子材料が乾式法にて製造された後は、液体状の水に接触させず、且つ、粒径が100nm〜600nmであるか又は比表面積が5m 2 /g〜35m 2 /gである。乾式法にて製造されたシリカ粒子材料を用い、その後の工程においても水と接触させないことで電子材料用フィラーを構成するシリカ粒子材料中に含まれる水分量を低減することができるため、Df値などの電気的特性が向上できる。【選択図】なし

9. 发明专利

JP2020097498A 電子材料用フィラー及びその製造方法、電子材料用樹脂組成物の製造方法、高周波用基板、並びに電子材料用スラリー审中-公开
公开(公告)号：JP2020097498A
公开(公告)日：2020-06-25
申请号：JP2018235932
申请日：2018-12-17
申请人：株式会社アドマテックス
发明人：渡辺友祐 , 冨田亘孝 , 加藤義明
IPC分类号： C09C1/28 , H01L23/14 , C08L101/00 , C08K9/06 , C01B33/18
摘要：【課題】物理吸着水以外に含有する水分の量を減少することにより電気的特性に優れた電子材料用フィラーが製造できる製造方法を提供することを解決すべき課題とする。【解決手段】乾式法にて製造されたシリカ粒子材料を調製する調製工程と、ビニル基、フェニル基、フェニルアミノ基、炭素数4以上のアルキル基、メタクリル基、又はエポキシ基を有するシラン化合物にて前記シリカ粒子材料を表面処理して第1表面処理済粒子材料とする第1表面処理工程とを有し、前記シリカ粒子材料が乾式法にて製造された後は、液体状の水に接触させず、且つ、粒径が100nm〜600nmであるか又は比表面積が5m 2 /g〜35m 2 /gである。乾式法にて製造されたシリカ粒子材料を用い、その後の工程においても水と接触させないことで電子材料用フィラーを構成するシリカ粒子材料中に含まれる水分量を低減することができるため、Df値などの電気的特性が向上できる。【選択図】なし

10. 发明专利

JP6238440B2 シリカ被覆金属窒化物粒子およびその製造方法有权
公开(公告)号：JP6238440B2
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：JP2013243236
申请日：2013-11-25
申请人：株式会社アドマテックス
发明人：渡辺友祐 , 楊原武 , 山田美幸
IPC分类号： C01B21/068 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B21/072

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