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2. 发明专利

TW315493B 加熱裝置及熱處理裝置失效
简体标题：加热设备及热处理设备
公开(公告)号：TW315493B
公开(公告)日：1997-09-11
申请号：TW086102446
申请日：1997-02-27
申请人：東京電子股份有限公司
发明人：青木一二 , 大加瀨亘 , 八木宏憲 , 野村正道
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67115 , C23C16/481 , C30B25/10 , C30B25/14
摘要：一種熱處理裝置，係在內部使晶片具備被熱處理之處理室。在處理室內係使晶片配置有被載置之載置台。在該處理室內係使處理氣體安全所供應。在該處理室之下側係通過透過窗，設有主加熱裝備用以架熱晶片。該主加熱裝備係將熱線照射於載置台，而具有：複數之加熱源間接用以加熱晶片；及旋轉台使此等加熱源設於表面上。進而，該熱處理裝置，係具備補助加熱裝備，利用主加熱裝備藉由晶片之加熱將產生於晶片之表面上的溫度不均加以補償。做為補助加熱裝備之加熱源，係在旋轉台之表面上與做為主加熱裝備之加熱源一起設置，並與主加熱裝備之加熱源另外獨立而可控制其輸出。
简体摘要：一种热处理设备，系在内部使芯片具备被热处理之处理室。在处理室内系使芯片配置有被载置之载置台。在该处理室内系使处理气体安全所供应。在该处理室之下侧系通过透过窗，设有主加热装备用以架热芯片。该主加热装备系将热线照射于载置台，而具有：复数之加热源间接用以加热芯片；及旋转台使此等加热源设于表面上。进而，该热处理设备，系具备补助加热装备，利用主加热装备借由芯片之加热将产生于芯片之表面上的温度不均加以补偿。做为补助加热装备之加热源，系在旋转台之表面上与做为主加热装备之加热源一起设置，并与主加热装备之加热源另外独立而可控制其输出。

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