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1. 发明专利

JP6226596B2 支持体分離装置有权
公开(公告)号：JP6226596B2
公开(公告)日：2017-11-08
申请号：JP2013145864
申请日：2013-07-11
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：高瀬真治 , 稲尾吉浩
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/683

2. 发明专利

JP5926700B2 支持体分離装置及び支持体分離方法有权
标题翻译：支持分离装置和支撑分离方法
公开(公告)号：JP5926700B2
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：JP2013095969
申请日：2013-04-30
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：高瀬真治 , 稲尾吉浩 , 中村彰彦
IPC分类号： B32B43/00 , H01L21/02 , H01L21/683
CPC分类号： B32B43/006 , H01L21/67092 , B32B2457/14 , H01L2221/68386 , Y10T156/1132 , Y10T156/1168 , Y10T156/1195 , Y10T156/1944 , Y10T156/1978 , Y10T156/1994

3. 发明专利

JP6261508B2 積層体、積層体の分離方法、および分離層の評価方法有权
公开(公告)号：JP6261508B2
公开(公告)日：2018-01-17
申请号：JP2014538496
申请日：2013-09-24
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：高瀬真治 , 松下淳
IPC分类号： H01L21/683 , C23C14/12 , B32B7/06
CPC分类号： C23C16/30 , B01D1/14

4. 发明专利

JP5977532B2 支持体分離方法及び支持体分離装置有权
标题翻译：支持分离方法和支持分离装置
公开(公告)号：JP5977532B2
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：JP2012034433
申请日：2012-02-20
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：藤井恭 , 高瀬真治
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02
CPC分类号： B32B43/006 , B32B38/0008 , H01L21/6835 , B32B2310/0843 , B32B2457/14 , B32B38/10 , H01L2221/68318 , H01L2221/6834 , Y10T156/1158 , Y10T156/1917

5. 发明专利

JP6101095B2 搬送ハンド、搬送装置および搬送方法有权
公开(公告)号：JP6101095B2
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：JP2013020890
申请日：2013-02-05
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：稲尾吉浩 , 中村彰彦 , 宮成淳 , 高瀬真治 , 福島偉仁 , 対馬修吾
IPC分类号： B25J15/06 , H01L21/677

6. 发明专利

JP2016209844A 塗布装置、塗布システム及び塗布方法有权
标题翻译：涂布装置，涂布系统和涂布方法
公开(公告)号：JP2016209844A
公开(公告)日：2016-12-15
申请号：JP2015098020
申请日：2015-05-13
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：高瀬真治
IPC分类号： B05C5/02 , H01L21/027 , B05D3/12 , B05C11/10
摘要：【課題】脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図る。【解決手段】塗布対象に塗布液を塗布する塗布部と、前記塗布部に前記塗布液を供給する供給部と、前記塗布液の脱気を行う第一の脱気部及び第二の脱気部と、前記第一の脱気部によって前記脱気が行われる間に、前記第二の脱気部から前記塗布部に前記塗布液が供給されるように前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を切り替える切替部と、を備える。【選択図】図1
摘要翻译：本发明可以进行连续涂覆处理，同时执行所述脱气过程，提高了生产效率。和用于在涂层目标上涂覆涂布液的涂料单元，其中供给单元用于供给涂敷液，所述第一脱气装置和所述第二脱气进行涂布液的脱气到涂布单元份和，而脱气由第一脱气单元执行，所述第二，所述第一脱气单元和使得涂层液体从脱气单元提供给涂层单元包括切换单元，用于切换所述第二脱气单元。点域1

7. 发明专利

JP2015228483A 支持体分離方法有权
标题翻译：支持身体分离方法
公开(公告)号：JP2015228483A
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：JP2015039478
申请日：2015-02-27
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：岩田泰昌 , 稲尾吉浩 , 中村彰彦 , 高瀬真治 , 吉岡孝広
IPC分类号： H01L21/02 , C09J7/00 , C09J201/00 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67092 , B32B37/02 , B32B38/10 , B32B38/1858 , B32B43/006 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , B32B2037/268 , B32B2307/202 , B32B2310/0825 , B32B2310/0843 , B32B2311/00 , B32B2313/00 , B32B2457/14 , H01L2221/68318 , H01L2221/68327 , H01L2221/68381 , H01L2221/68386 , Y10S156/93 , Y10S156/941 , Y10T156/1111 , Y10T156/1158 , Y10T156/1189 , Y10T156/1917
摘要：【課題】基板と支持体とを分離するときに基板が破損することを防止する。【解決手段】基板1とサポートプレート2とが接着層3を介して積層されてなる積層体10において、基板1におけるサポートプレート2に対向する側の面における周縁部分の少なくとも一部、又は、サポートプレート2における基板1に対向する側の面における周縁部分の少なくとも一部に設けられた分離層4の少なくとも一部の接着力を低下させる予備処理工程と、予備処理工程の後、基板1及びサポートプレート2のうちの一部を固定し、他方に力を加えることで基板1からサポートプレート2を分離する分離工程と、を包含する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：当基板与支撑体分离时，防止基板受损。解决方案：支撑体分离方法包括：预处理步骤，在通过将基板1和支撑体板2通过粘合剂层3，降低了设置在基板1侧表面上的周边部分的至少一部分上的剥离层4的至少一部分的粘合力，面向支撑体或者在支撑板2的一侧的表面的周边部分的至少一部分上，面向基板1的表面; 以及分离步骤，在预处理步骤之后，将部件固定在基板1和支撑板2中的一个中，并且通过向另一个施加力将基板1与基板1分离。

8. 发明专利

JP2015146352A 洗浄装置及び洗浄方法审中-公开
标题翻译：清洁装置和清洁方法
公开(公告)号：JP2015146352A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：JP2014017857
申请日：2014-01-31
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：宮成淳 , 高瀬真治
IPC分类号： B05B15/08 , H01L21/304
摘要：【課題】基板を洗浄するときに基板を載置する載置台まで洗浄残りなく洗浄することができる洗浄装置を提供する。【解決手段】基板10を洗浄するための洗浄液を吐出する複数のノズル1a〜1cを備えている洗浄装置であって、複数のノズル1の吐出方向を互いに独立して変更する吐出方向変更手段2a〜2cを備え、また、複数のノズル1a〜1cのうち少なくとも一つのノズルの洗浄液の吐出方向変更する工程を含む。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够清洁基板的清洁装置，该基板包括用于在其上装载基板的装载台，而不会在清洁基板时留下未清洁的部分。解决方案：公开了一种装备有多个喷嘴1a至1c的清洁装置用于排出用于清洁基板10的清洁流体。该装置包括用于相互独立地改变多个喷嘴1的排出方向的排出方向改变装置2a至2c。此外，清洁方法包括用于改变多个喷嘴1a至1c中的至少一个喷嘴的清洗液的排出方向的步骤。

9. 发明专利

JP6450620B2 基板剥離装置および基板剥離方法有权
公开(公告)号：JP6450620B2
公开(公告)日：2019-01-09
申请号：JP2015063895
申请日：2015-03-26
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：菊地浩之 , 高瀬真治 , 升芳明
IPC分类号： G09F9/00 , H05K3/00 , G02F1/13 , B65H41/00

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