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1. 发明专利

TWI573947B 管接頭有权
简体标题：管接头
公开(公告)号：TWI573947B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW102137419
申请日：2013-10-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI , 守谷修司 , MORIYA, SHUJI , 佐藤健一 , SATO, KENICHI , 中田知宏 , NAKATA, TOMOHIRO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F16L15/04 , F16L19/03
CPC分类号： F16L19/0218 , F16L19/025 , F16L23/20

2. 发明专利

TW201700893A 流體接頭用墊片及流體接頭审中-公开
简体标题：流体接头用垫片及流体接头
公开(公告)号：TW201700893A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105111302
申请日：2016-04-12
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石橋圭介 , ISHIBASHI, KEISUKE , 藥師神忠幸 , YAKUSHIJIN, TADAYUKI , 谷川毅 , TANIKAWA, TSUYOSHI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI
IPC分类号： F16L15/04 , F16J15/06
CPC分类号： F16J15/06 , F16J15/10 , F16L23/02
摘要：墊片4係具備進行第1面密封之厚壁部21、及進行第2面密封的薄壁部22。流體接頭1之環狀的墊片收納用凹部7，係具備用以收容墊片4之厚壁部21的寬幅部23、及用以收容墊片4之薄壁部22的窄幅部24。
简体摘要：垫片4系具备进行第1面密封之厚壁部21、及进行第2面密封的薄壁部22。流体接头1之环状的垫片收纳用凹部7，系具备用以收容垫片4之厚壁部21的宽幅部23、及用以收容垫片4之薄壁部22的窄幅部24。

3. 发明专利

TW201333351A 管接頭审中-公开
简体标题：管接头
公开(公告)号：TW201333351A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101134388
申请日：2012-09-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI , 守谷修司 , MORIYA, SHUJI , 佐藤健一 , SATO, KENICHI , 中田知宏 , NAKATA, TOMOHIRO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F16J15/08 , F16L19/03 , F16L23/16
CPC分类号： F16L19/0212 , F16L19/0286
摘要：本發明提供一種管接頭，可防止公螺紋構件與母螺紋構件螺合時產生的微粒子進入流體通路內，可維持高潔淨度。管接頭藉由設置在一側之接頭構件2之公螺紋構件6與設置於另一側之接頭構件3的母螺紋構件7而結合接頭構件2、3彼此。於公螺紋構件6設置有覆蓋兩接頭構件2、3之匹配部外周面的蓋部16。
简体摘要：本发明提供一种管接头，可防止公螺纹构件与母螺纹构件螺合时产生的微粒子进入流体通路内，可维持高洁净度。管接头借由设置在一侧之接头构件2之公螺纹构件6与设置于另一侧之接头构件3的母螺纹构件7而结合接头构件2、3彼此。于公螺纹构件6设置有覆盖两接头构件2、3之匹配部外周面的盖部16。

4. 发明专利

TWI568960B 管接頭有权
简体标题：管接头
公开(公告)号：TWI568960B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW101134388
申请日：2012-09-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI , 守谷修司 , MORIYA, SHUJI , 佐藤健一 , SATO, KENICHI , 中田知宏 , NAKATA, TOMOHIRO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F16J15/08 , F16L19/03 , F16L23/16
CPC分类号： F16L19/0212 , F16L19/0286

5. 发明专利

TW201425784A 管接頭审中-公开
简体标题：管接头
公开(公告)号：TW201425784A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102137419
申请日：2013-10-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI , 守谷修司 , MORIYA, SHUJI , 佐藤健一 , SATO, KENICHI , 中田知宏 , NAKATA, TOMOHIRO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F16L15/04 , F16L19/03
CPC分类号： F16L19/0218 , F16L19/025 , F16L23/20
摘要： [課題]提供一種即便反複進行裝卸亦不產生微粒子的管接頭。[解決手段]管接頭1具備：第1及第2接頭構件2、3，具有相互連通的流體通路2a、3a；圓環狀墊片4，被介設於兩接頭構件2、3的對接端面間；及螺帽6，將接頭構件2、3彼此結合。在螺帽6設有內面處理層30。內面處理層30係由設於螺帽6內面的Co(鈷)-P(磷)的合金皮膜、及設於合金皮膜表面的氟塗層所構成。
简体摘要： [课题]提供一种即便反复进行装卸亦不产生微粒子的管接头。[解决手段]管接头1具备：第1及第2接头构件2、3，具有相互连通的流体通路2a、3a；圆环状垫片4，被介设于两接头构件2、3的对接端面间；及螺帽6，将接头构件2、3彼此结合。在螺帽6设有内面处理层30。内面处理层30系由设于螺帽6内面的Co(钴)-P(磷)的合金皮膜、及设于合金皮膜表面的氟涂层所构成。

6. 发明专利

TW201303196A 氣體減壓供應裝置、具備其之壓缸櫃、閥箱及基板處理裝置，以及氣體減壓供應方法审中-公开
简体标题：气体减压供应设备、具备其之压缸柜、阀箱及基板处理设备，以及气体减压供应方法
公开(公告)号：TW201303196A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101106870
申请日：2012-03-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI
IPC分类号： F17D1/04 , F17C1/00 , F16K1/30
CPC分类号： H01L21/67253 , C23C16/45557 , C23C16/45561 , H01L21/67017 , Y02E60/321 , Y02E60/34 , Y10T137/0396 , Y10T137/2599 , Y10T137/7039 , Y10T137/7043 , Y10T137/776 , Y10T137/7761 , Y10T137/7762
摘要：本發明提供一種以低於大氣壓之製程壓力來進行製程而對腔室供應氣體之氣體減壓供應裝置。該氣體減壓供應裝置具備有：壓力調整器，係將一次壓減壓，而將二次壓調整成低於大氣壓但高於製程壓力之壓力；壓力測量器，係測量壓力調整器之二次側配管內的壓力；第1開閉閥，係設置於二次側配管；開閉閥控制器，係開閉第1開閉閥；壓力比較器，係將藉由壓力測量器所測量的二次側配管內壓力與第1設定壓力相比較；以及控制部，係當壓力比較器判斷二次側配管內的壓力為第1設定壓力以下時，會向開閉閥控制器輸出關閉第1開閉閥之關閉訊號。
简体摘要：本发明提供一种以低于大气压之制程压力来进行制程而对腔室供应气体之气体减压供应设备。该气体减压供应设备具备有：压力调整器，系将一次压减压，而将二次压调整成低于大气压但高于制程压力之压力；压力测量器，系测量压力调整器之二次侧配管内的压力；第1开闭阀，系设置于二次侧配管；开闭阀控制器，系开闭第1开闭阀；压力比较器，系将借由压力测量器所测量的二次侧配管内压力与第1设置压力相比较；以及控制部，系当压力比较器判断二次侧配管内的压力为第1设置压力以下时，会向开闭阀控制器输出关闭第1开闭阀之关闭信号。

7. 发明专利

TWI697037B 處理裝置有权
简体标题：处理设备
公开(公告)号：TWI697037B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW105136551
申请日：2016-11-10
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菊池誠弘 , KIKUCHI, MASAHIRO , 岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/324 , C23C16/455

8. 发明专利

TW201739953A 基板處理裝置、氣體供給方法、基板處理方法及成膜方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、气体供给方法、基板处理方法及成膜方法
公开(公告)号：TW201739953A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106109622
申请日：2017-03-23
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菊池一行 , KIKUCHI, KAZUYUKI , 岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI , 福島講平 , FUKUSHIMA, KOHEI
IPC分类号： C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45561 , C23C16/45546 , C23C16/45557
摘要：本發明包含有處理容器、壓力檢測機構、排氣側閥、氣體儲存槽、氣體量測定機構、及控制閥，該處理容器可收納基板；該壓力檢測機構用以測定該處理容器內之壓力；該排氣側閥設於用以將該處理容器內排氣之排氣管；該氣體儲存槽藉由第1氣體供給管連接於該處理容器；該氣體量測定機構用以測定儲存於該氣體儲存槽之氣體量；該控制閥設於該第1氣體供給管，並依據以該壓力檢測機構檢測出之該處理容器內的壓力，使閥開度變化，來控制從該氣體儲存槽供至該處理容器之氣體的流路面積，藉此，可控制該處理容器內之壓力。
简体摘要：本发明包含有处理容器、压力检测机构、排气侧阀、气体存储槽、气体量测定机构、及控制阀，该处理容器可收纳基板；该压力检测机构用以测定该处理容器内之压力；该排气侧阀设于用以将该处理容器内排气之排气管；该气体存储槽借由第1气体供给管连接于该处理容器；该气体量测定机构用以测定存储于该气体存储槽之气体量；该控制阀设于该第1气体供给管，并依据以该压力检测机构检测出之该处理容器内的压力，使阀开度变化，来控制从该气体存储槽供至该处理容器之气体的流路面积，借此，可控制该处理容器内之压力。

9. 发明专利

TW201337490A 流量控制裝置及處理裝置审中-公开
简体标题：流量控制设备及处理设备
公开(公告)号：TW201337490A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101137591
申请日：2012-10-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI , 守谷修司 , MORIYA, SHUJI , 松野一成 , MATSUNO, KAZUSHIGE
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/68 , G01F5/00 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8158
摘要：一種流量控制裝置，係對流經氣體通路之氣體流量進行控制者；具備有：主氣體管；流量檢測機構，係對流經該主氣體管之氣體的流量進行檢測並輸出流量訊號；流量控制閥機構，係控制流量；換算數據記憶部，係記憶和複數氣體種類相對應之複數換算數據，該複數換算數據係用以表示從外部輸入之流量指示訊號與目標流量之關係；以及流量控制本體，係基於從外部輸入之氣體種類選擇訊號而從複數換算數據選擇對應之換算數據，並基於流量指示訊號來算出該目標流量，而基於目標流量與流量訊號以控制流量控制閥機構。
简体摘要：一种流量控制设备，系对流经气体通路之气体流量进行控制者；具备有：主气体管；流量检测机构，系对流经该主气体管之气体的流量进行检测并输出流量信号；流量控制阀机构，系控制流量；换算数据记忆部，系记忆和复数气体种类相对应之复数换算数据，该复数换算数据系用以表示从外部输入之流量指示信号与目标流量之关系；以及流量控制本体，系基于从外部输入之气体种类选择信号而从复数换算数据选择对应之换算数据，并基于流量指示信号来算出该目标流量，而基于目标流量与流量信号以控制流量控制阀机构。

10. 发明专利

TW201729257A 處理裝置审中-公开
简体标题：处理设备
公开(公告)号：TW201729257A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105136551
申请日：2016-11-10
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菊池誠弘 , KIKUCHI, MASAHIRO , 岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/324 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45578 , C23C16/4409 , C23C16/45561
摘要：一種處理裝置，係具有：處理容器；分歧管係具有：噴射器支撐部，係配置於該處理容器之下端部，沿著該處理容器內之壁面來加以延伸，並具有可插入且外嵌支撐管狀構件的插入孔；以及氣體導入部，係從該噴射器支撐部朝外側伸出，並於內部具有可連通該插入孔與該處理容器外部而流通氣體的氣體流道；噴射器，係被插入固定於該插入孔，而沿著該壁面使得整體延伸為直線狀，並在插入至該插入孔之處具有連通於該氣體流道的開口；以及氣體供給配管，係連通而連接於該氣體導入部之該氣體流道的外側端部。
简体摘要：一种处理设备，系具有：处理容器；分歧管系具有：喷射器支撑部，系配置于该处理容器之下端部，沿着该处理容器内之壁面来加以延伸，并具有可插入且外嵌支撑管状构件的插入孔；以及气体导入部，系从该喷射器支撑部朝外侧伸出，并于内部具有可连通该插入孔与该处理容器外部而流通气体的气体流道；喷射器，系被插入固定于该插入孔，而沿着该壁面使得整体延伸为直线状，并在插入至该插入孔之处具有连通于该气体流道的开口；以及气体供给配管，系连通而连接于该气体导入部之该气体流道的外侧端部。

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