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1. 发明专利

TW201824441A 基板處理方法及基板處理系統审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理系统
公开(公告)号：TW201824441A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106128681
申请日：2017-08-24
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：西野徹 , NISHINO, TORU , 飯島清仁 , IIJIMA, KIYOHITO , 石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU
IPC分类号： H01L21/677
摘要：本發明之目的為：使各個類別之基板的處理及搬運達到最佳化。本發明提供一種基板處理方法，將收納有基板之基板收納容器載置到載入口，對收納在所載置的該基板收納容器之基板的類別進行自動判別，並且參照儲存有「和各個類別的基板之搬運條件逐一相關的參數資料」之儲存部，而依據和自動判別得到的該基板之類別相對應的參數資料，對該基板收納容器所收納之基板的搬運進行控制，而進行基板處理。
简体摘要：本发明之目的为：使各个类别之基板的处理及搬运达到最优化。本发明提供一种基板处理方法，将收纳有基板之基板收纳容器载置到加载口，对收纳在所载置的该基板收纳容器之基板的类别进行自动判别，并且参照存储有“和各个类别的基板之搬运条件逐一相关的参数数据”之存储部，而依据和自动判别得到的该基板之类别相对应的参数数据，对该基板收纳容器所收纳之基板的搬运进行控制，而进行基板处理。

2. 发明专利

TWI686894B 基板運送方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板运送方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI686894B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW105107832
申请日：2016-03-15
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU
IPC分类号： H01L21/677

3. 发明专利

TWI451520B 基板處理裝置、基板搬送裝置及基板搬送裝置之控制方法有权
简体标题：基板处理设备、基板搬送设备及基板搬送设备之控制方法
公开(公告)号：TWI451520B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW099138338
申请日：2010-11-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU , 近藤昌樹 , KONDO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/6833 , H01L21/67742

4. 发明专利

TWI414035B 搬送臂的洗淨方法、基板處理裝置的洗淨方法及基板處理裝置失效
简体标题：搬送臂的洗净方法、基板处理设备的洗净方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI414035B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW099138275
申请日：2010-11-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU , 近藤昌樹 , KONDO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/304 , C23C16/44 , B25J15/06
CPC分类号： B08B6/00 , H01L21/67028 , H01L21/67742 , H01L21/6833

5. 发明专利

TWI389235B 被處理體的搬送裝置有权
简体标题：被处理体的搬送设备
公开(公告)号：TWI389235B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW095123214
申请日：2006-06-27
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：町山彌 , MACHIYAMA, WATARU , 石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU , 小泉浩 , KOIZUMI, HIROSHI , 廣木勤 , HIROKI, TSUTOMU , 近藤圭祐 , KONDOH, KEISUKE
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/00 , B25J9/10
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67276 , H01L21/67742

6. 发明专利

TW201812901A 聚焦環更換方法审中-公开
简体标题：聚焦环更换方法
公开(公告)号：TW201812901A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106122463
申请日：2017-07-05
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32807 , B08B7/0035 , H01J37/32642 , H01J37/32862
摘要：本發明之課題係提供一種可提昇生產力之聚焦環更換方法。為了解決上述課題，本發明提供一種聚焦環更換方法，其使用於可針對設在處理室的內部之載置台上所載置之基板進行電漿處理之電漿處理裝置，將以圍繞前述基板周圍之方式載置在前述載置台之聚焦環加以更換，其特徵為包括：搬出步驟，在未使該處理室開放於大氣的情況下，藉由用來搬運該聚焦環之搬運裝置，從該處理室內將該聚焦環搬出；清洗步驟，前述搬出步驟後，將前述載置台之載置前述聚焦環的面進行清洗處理：以及搬入步驟，前述清洗步驟後，在未使該處理室開放於大氣的情況下，藉由前述搬運裝置將聚焦環搬入至前述處理室內，並載置在前述載置台。
简体摘要：本发明之课题系提供一种可提升生产力之聚焦环更换方法。为了解决上述课题，本发明提供一种聚焦环更换方法，其使用于可针对设在处理室的内部之载置台上所载置之基板进行等离子处理之等离子处理设备，将以围绕前述基板周围之方式载置在前述载置台之聚焦环加以更换，其特征为包括：搬出步骤，在未使该处理室开放于大气的情况下，借由用来搬运该聚焦环之搬运设备，从该处理室内将该聚焦环搬出；清洗步骤，前述搬出步骤后，将前述载置台之载置前述聚焦环的面进行清洗处理：以及搬入步骤，前述清洗步骤后，在未使该处理室开放于大气的情况下，借由前述搬运设备将聚焦环搬入至前述处理室内，并载置在前述载置台。

7. 发明专利

TW201707118A 基板運送方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板运送方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201707118A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105107832
申请日：2016-03-15
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67201 , H01L21/67745
摘要：本發明之目的，係使用可運送一片之基板、亦可運送複數片之基板的負載鎖定室，而有效率地運送基板。解決手段係提供一種基板運送方法，係包括複數之處理室與負載鎖定室之基板處理裝置的基板運送方法，該處理室配置於運送基板之運送室的周圍並對基板施行處理，該負載鎖定室配置於該運送室的周圍並且可以在大氣環境與真空環境間切換；該負載鎖定室具有在第1區域與第2區域之間切換基板之運送空間的驅動部，該第1區域可運送一片基板，該第2區域可運送複數片基板；該基板運送方法包括以下步驟：依該複數之處理室中之基板處理狀況，而在該負載鎖定室的該第1區域或該第2區域中選擇其任一者；依該選擇結果以控制該驅動部。
简体摘要：本发明之目的，系使用可运送一片之基板、亦可运送复数片之基板的负载锁定室，而有效率地运送基板。解决手段系提供一种基板运送方法，系包括复数之处理室与负载锁定室之基板处理设备的基板运送方法，该处理室配置于运送基板之运送室的周围并对基板施行处理，该负载锁定室配置于该运送室的周围并且可以在大气环境与真空环境间切换；该负载锁定室具有在第1区域与第2区域之间切换基板之运送空间的驱动部，该第1区域可运送一片基板，该第2区域可运送复数片基板；该基板运送方法包括以下步骤：依该复数之处理室中之基板处理状况，而在该负载锁定室的该第1区域或该第2区域中选择其任一者；依该选择结果以控制该驱动部。

8. 发明专利

TWI427729B 基板交換方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板交换方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI427729B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW099109775
申请日：2010-03-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石澤繁 , ISHIZAWA, SHIGERU , 小泉浩 , KOIZUMI, HIROSHI , 大木達也 , OGI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67748

9. 发明专利

TW419774B 搬送系統之位置對合方法有权
简体标题：搬送系统之位置对合方法
公开(公告)号：TW419774B
公开(公告)日：2001-01-21
申请号：TW088118485
申请日：1999-10-26
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：西中山康彥 , 石澤繁 , 佐伯弘明 , 河野高 , 大澤哲
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/681 , G05B19/4015 , G05B19/402 , G05B2219/37339 , G05B2219/45031 , G05B2219/49299 , H01L21/67745 , Y10S414/136
摘要：這是一種對於基準位置進行保持部48之位量對合的，搬送系統之搬送位置對合方法。將對於旋轉基準台60上之給定位置即定向器教導基準位量及載置在容器載置台之卡式容器內的給定位置即容器教導基準位置之各臨時位置座標，預先輸入於控制部72。在根據定向器教導基準位置的臨時位置座標之控制下，將正確地位置對合保持於保持部48之被搬送體W，搬送到旋轉基準台60以進行移載。藉位置姿勢檢出部62來檢出載置在旋轉基準台60之被搬送體W的偏心量及偏心方向。根據所檢出之偏心量及偏心方向,補正對於定向器基準位置之臨時位置座標，以作為合適位置座標。其次，在容器教導基準位置之臨時位置座標之控制下，將正確地位置對合於容器教導基準位置之被搬送體 W，搬送到旋轉基準台以進行移載。藉位置姿勢檢出部62來檢出載置在旋轉基準台60之被搬送體W之偏心量及偏心方向。根據所檢出之偏心量及偏心方向，補正對於容器教導基準位置之臨時位置座標，以作為合適位置座標。
简体摘要：这是一种对于基准位置进行保持部48之位量对合的，搬送系统之搬送位置对合方法。将对于旋转基准台60上之给定位置即定向器教导基准位量及载置在容器载置台之卡式容器内的给定位置即容器教导基准位置之各临时位置座标，预先输入于控制部72。在根据定向器教导基准位置的临时位置座标之控制下，将正确地位置对合保持于保持部48之被搬送体W，搬送到旋转基准台60以进行移载。藉位置姿势检出部62来检出载置在旋转基准台60之被搬送体W的偏心量及偏心方向。根据所检出之偏心量及偏心方向,补正对于定向器基准位置之临时位置座标，以作为合适位置座标。其次，在容器教导基准位置之临时位置座标之控制下，将正确地位置对合于容器教导基准位置之被搬送体 W，搬送到旋转基准台以进行移载。藉位置姿势检出部62来检出载置在旋转基准台60之被搬送体W之偏心量及偏心方向。根据所检出之偏心量及偏心方向，补正对于容器教导基准位置之临时位置座标，以作为合适位置座标。

10. 发明专利

TW201140729A 搬送臂的洗淨方法、基板處理裝置的洗淨方法及基板處理裝置失效
简体标题：搬送臂的洗净方法、基板处理设备的洗净方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201140729A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW099138275
申请日：2010-11-08
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：石澤繁 , 近藤昌樹
IPC分类号： H01L , C23C , B25J
CPC分类号： B08B6/00 , H01L21/67028 , H01L21/67742 , H01L21/6833
摘要：本發明係關於一種搬送臂的洗淨方法、基板處理裝置的洗淨方法及基板處理裝置，係提供一種去除附著於搬送臂的污染物之基板處理裝置的控制方法。具有進行基板搬送用的靜電夾具之搬送臂的洗淨方法，其特徵在於提供一種在該搬送臂附著有帶電異物之情況，係具有該搬送臂在未載置該基板的狀態下，施加與帶電異物之電荷極性相同極性之電壓於該靜電夾具之各電極的電壓施加步驟，以去除掉附著於該搬送臂之異物的搬送臂的洗淨方法來解決問題。
简体摘要：本发明系关于一种搬送臂的洗净方法、基板处理设备的洗净方法及基板处理设备，系提供一种去除附着于搬送臂的污染物之基板处理设备的控制方法。具有进行基板搬送用的静电夹具之搬送臂的洗净方法，其特征在于提供一种在该搬送臂附着有带电异物之情况，系具有该搬送臂在未载置该基板的状态下，施加与带电异物之电荷极性相同极性之电压于该静电夹具之各电极的电压施加步骤，以去除掉附着于该搬送臂之异物的搬送臂的洗净方法来解决问题。

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