专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201329628A 光學薄膜形成用活性能量線硬化型組成物、光學薄膜、偏光鏡保護膜及偏光板审中-公开
简体标题：光学薄膜形成用活性能量线硬化型组成物、光学薄膜、偏光镜保护膜及偏光板
公开(公告)号：TW201329628A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101144888
申请日：2012-11-30
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：谷內健太郎 , YACHI, KENTARO , 竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 望月克信 , MOCHIZUKI, KATSUNOBU , 加藤久雄 , KATO, HISAO
IPC分类号： G03F7/027 , C08G18/32 , C08G18/72 , G02B1/10 , G02B5/30
CPC分类号： C08G18/755 , C08F290/06 , C08G18/3206 , C08G18/3212 , C08G18/4202 , C08G18/4277 , C08G18/44 , C08G18/672 , G02B5/30 , C08G18/664
摘要：本發明之光學薄膜形成用活性能量線硬化型組成物包含：在硬化物之23℃中之光彈性係數(以下單稱為「光彈性係數」)為30×10-12Pa-1以下之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)；及具有光彈性係數為5×10-12Pa-1以下之值，且(A)成分以外之聚合物(B)，組成物之硬化物的光彈性係數為10×10-12Pa-1以下，於厚度40μm測定之情形，硬化物之正面及傾斜40°之面內滯後以及厚度方向之滯後之全體為5nm以下。
简体摘要：本发明之光学薄膜形成用活性能量线硬化型组成物包含：在硬化物之23℃中之光弹性系数(以下单称为“光弹性系数”)为30×10-12Pa-1以下之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)；及具有光弹性系数为5×10-12Pa-1以下之值，且(A)成分以外之聚合物(B)，组成物之硬化物的光弹性系数为10×10-12Pa-1以下，于厚度40μm测定之情形，硬化物之正面及倾斜40°之面内滞后以及厚度方向之滞后之全体为5nm以下。

2. 发明专利

TWI700119B 研磨用潤濕劑及研磨液組成物有权
简体标题：研磨用润湿剂及研磨液组成物
公开(公告)号：TWI700119B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105116117
申请日：2016-05-24
申请人：日商東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 柴田晃嗣 , SHIBATA, AKITSUGU , 河合道弘 , KAAI, MICHIHIRO
IPC分类号： B01F17/52 , C08F20/54 , C08F20/60 , C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304

3. 发明专利

TW201716137A 研磨用潤濕劑及研磨液組成物审中-公开
简体标题：研磨用润湿剂及研磨液组成物
公开(公告)号：TW201716137A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105116117
申请日：2016-05-24
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 柴田晃嗣 , SHIBATA, AKITSUGU , 河合道弘 , KAAI, MICHIHIRO
IPC分类号： B01F17/52 , C08F20/54 , C08F20/60 , C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：本發明係關於一種研磨用潤濕劑，其係含有由主鏈部分僅由碳-碳鍵所成的重複單位所構成之重量平均分子量(Mw)/數平均分子量(Mn)所示分散度(PDI)為2.0以下之水溶性聚合物者。上述水溶性聚合物亦可為含有來自於分子內具有氮原子之單體的結構單位10mol%以上100mol%以下者。
简体摘要：本发明系关于一种研磨用润湿剂，其系含有由主链部分仅由碳-碳键所成的重复单位所构成之重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)所示分散度(PDI)为2.0以下之水溶性聚合物者。上述水溶性聚合物亦可为含有来自于分子内具有氮原子之单体的结构单位10mol%以上100mol%以下者。

4. 发明专利

TWI666224B 半導體用潤濕劑及研磨用組成物有权
简体标题：半导体用润湿剂及研磨用组成物
公开(公告)号：TWI666224B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW103134883
申请日：2014-10-07
申请人：日商東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 松崎英男 , MATSUZAKI, HIDEO
IPC分类号： C08F216/06 , C09K3/14 , H01L21/304

5. 发明专利

TW201842147A 研磨用組成物审中-公开
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TW201842147A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107110252
申请日：2018-03-26
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED , 日商東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：沼田圭祐 , NUMATA, KEISUKE , 土屋公亮 , TSUCHIYA, KOHSUKE , 谷口 , TANIGUCHI, MEGUMI , 竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304
摘要：本發明係提供一種可有效地降低邊緣滑離(edge roll off)量的研磨用組成物。藉由本發明而提供的研磨用組成物係包含研磨粒、與鹼性化合物、與含氮水溶性高分子、與水。含氮水溶性高分子係於分子內不具有N-H鍵。
简体摘要：本发明系提供一种可有效地降低边缘滑离(edge roll off)量的研磨用组成物。借由本发明而提供的研磨用组成物系包含研磨粒、与碱性化合物、与含氮水溶性高分子、与水。含氮水溶性高分子系于分子内不具有N-H键。

6. 发明专利

TW201533069A 半導體用濕潤劑及研磨用組成物审中-公开
简体标题：半导体用湿润剂及研磨用组成物
公开(公告)号：TW201533069A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103138553
申请日：2014-11-06
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 松崎英男 , MATSUZAKI, HIDEO
IPC分类号： C08F20/58 , C09K3/14 , C09G1/16 , C09G1/02 , H01L21/304 , B24B37/00
CPC分类号： B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/16 , H01L21/02024
摘要：含有具有50~100mol%的來自N-(甲基)丙烯醯基嗎啉之構造單位，且實質上不含有陽離子性基之水溶性高分子之半導體用濕潤劑。
简体摘要：含有具有50~100mol%的来自N-(甲基)丙烯酰基吗啉之构造单位，且实质上不含有阳离子性基之水溶性高分子之半导体用湿润剂。

7. 发明专利

TWI644930B 半導體用濕潤劑及研磨用組成物有权
简体标题：半导体用湿润剂及研磨用组成物
公开(公告)号：TWI644930B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW103138553
申请日：2014-11-06
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 松崎英男 , MATSUZAKI, HIDEO
IPC分类号： C08F20/58 , C09K3/14 , C09G1/16 , C09G1/02 , H01L21/304 , B24B37/00

8. 发明专利

TW201805381A 研磨用組成物及其製造方法审中-公开
简体标题：研磨用组成物及其制造方法
公开(公告)号：TW201805381A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106111171
申请日：2017-03-31
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 河合道弘 , KAAI, MICHIHIRO , 土屋公亮 , TSUCHIYA, KOHSUKE , 丹所久典 , TANSHO, HISANORI , 須賀裕介 , SUGA, YUSUKE , 市坪大輝 , ICHITSUBO, TAIKI
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：本發明係提供一種可實現更為高精度之平滑性的研磨用組成物。本發明係在包含研磨粒及鹼性化合物之研磨用組成物，以包含水溶性高分子化合物、與聚合起始劑及阻聚劑之反應物的方式進行。藉由此反應物，而得到更為高之平滑性。
简体摘要：本发明系提供一种可实现更为高精度之平滑性的研磨用组成物。本发明系在包含研磨粒及碱性化合物之研磨用组成物，以包含水溶性高分子化合物、与聚合起始剂及阻聚剂之反应物的方式进行。借由此反应物，而得到更为高之平滑性。

9. 发明专利

TW201520233A 半導體用潤濕劑及研磨用組成物审中-公开
简体标题：半导体用润湿剂及研磨用组成物
公开(公告)号：TW201520233A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103134883
申请日：2014-10-07
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 斎藤直彥 , SAITO, NAOHIKO , 松崎英男 , MATSUZAKI, HIDEO
IPC分类号： C08F216/06 , C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1463 , H01L21/02024
摘要：一種半導體用潤濕劑，其係分子中包含具有70~99mol%之式(1)所示之結構單元及1~30mol%之式(2)所示之特定結構單元的水溶性高分子；[-CH2CH(OH)-] (1) [-CH2CH(X)-] (2)式(2)中，X表示具有碳數1~10之烷基的烷基醚基等。
简体摘要：一种半导体用润湿剂，其系分子中包含具有70~99mol%之式(1)所示之结构单元及1~30mol%之式(2)所示之特定结构单元的水溶性高分子；[-CH2CH(OH)-] (1) [-CH2CH(X)-] (2)式(2)中，X表示具有碳数1~10之烷基的烷基醚基等。

10. 发明专利

TW201428011A 光學薄膜形成用活性能量線硬化型組成物、光學薄膜及偏光板审中-公开
简体标题：光学薄膜形成用活性能量线硬化型组成物、光学薄膜及偏光板
公开(公告)号：TW201428011A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102145271
申请日：2013-12-10
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：望月克信 , MOCHIZUKI, KATSUNOBU , 竹本貴之 , TAKEMOTO, TAKAYUKI , 谷內健太郎 , YACHI, KENTARO
IPC分类号： C08F220/26 , G02B1/04 , G02B1/10 , G02B5/30 , B32B27/30
CPC分类号： C09D175/14 , C08F299/00 , C08G18/6237 , C08G18/68 , C08G18/8116 , G02B5/305
摘要：茲以提供一種可兼具低光彈性係數及低阻滯(retardation)、抗濕熱性良好，且柔軟性亦優良的光學薄膜形成用活性能量線硬化型組成物、自該組成物所得光學薄膜、偏光鏡保護薄膜及偏光板為目的。本發明之光學薄膜形成用活性能量線硬化型組成物係含有(A)成分或/及(B)成分：(A)成分：側鏈具有可與羧基或羥基反應之官能基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物(a1)[以下稱為「聚合物(a1)」]、與屬具羧基或羥基及(甲基)丙烯醯基之化合物，且數量平均分子量180以上之化合物(a2)[以下稱為「化合物(a2)」]的反應物之側鏈具有(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物；(B)成分：將化合物(a2)及可與其共聚合之單體共聚合所得側鏈具有羧基或羥基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物(b1)、與具有可與羧基或羥基反應之官能基及(甲基)丙烯醯基之化合物(b2)的反應物之側鏈具有(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物。
简体摘要：兹以提供一种可兼具低光弹性系数及低阻滞(retardation)、抗湿热性良好，且柔软性亦优良的光学薄膜形成用活性能量线硬化型组成物、自该组成物所得光学薄膜、偏光镜保护薄膜及偏光板为目的。本发明之光学薄膜形成用活性能量线硬化型组成物系含有(A)成分或/及(B)成分：(A)成分：侧链具有可与羧基或羟基反应之官能基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物(a1)[以下称为“聚合物(a1)”]、与属具羧基或羟基及(甲基)丙烯酰基之化合物，且数量平均分子量180以上之化合物(a2)[以下称为“化合物(a2)”]的反应物之侧链具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物；(B)成分：将化合物(a2)及可与其共聚合之单体共聚合所得侧链具有羧基或羟基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物(b1)、与具有可与羧基或羟基反应之官能基及(甲基)丙烯酰基之化合物(b2)的反应物之侧链具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式