专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI617630B 活性能量線硬化型塗料組成物有权
简体标题：活性能量线硬化型涂料组成物
公开(公告)号：TWI617630B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW103110476
申请日：2014-03-20
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小倉絹子 , OGURA, KINUKO , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA
IPC分类号： C09D143/04 , C09D175/14 , C09D133/10 , C09D4/00 , C08F2/46 , C08J3/28 , G09F9/00 , G06F3/041
CPC分类号： C09D175/16 , C08F230/08 , C08F290/068 , C08G18/672 , C08G18/73 , C08G77/20 , C08G77/442 , C08L83/10 , C09D4/00 , C08F226/02

2. 发明专利

TWI544008B 聚矽氧烷之製造方法有权
简体标题：聚硅氧烷之制造方法
公开(公告)号：TWI544008B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW101151046
申请日：2012-12-28
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小倉絹子 , OGURA, KINUKO , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI
IPC分类号： C08G77/06 , C08G77/12
CPC分类号： C08G77/20 , C08G77/06 , C08G77/80 , C09D183/04

3. 发明专利

TW201443172A 活性能量線硬化型塗料組成物审中-公开
简体标题：活性能量线硬化型涂料组成物
公开(公告)号：TW201443172A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103110476
申请日：2014-03-20
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小倉絹子 , OGURA, KINUKO , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA
IPC分类号： C09D143/04 , C09D175/14 , C09D133/10 , C09D4/00 , C08F2/46 , C08J3/28 , G09F9/00 , G06F3/041
CPC分类号： C09D175/16 , C08F230/08 , C08F290/068 , C08G18/672 , C08G18/73 , C08G77/20 , C08G77/442 , C08L83/10 , C09D4/00 , C08F226/02
摘要：本發明之活性能量線硬化型塗料組成物，係以特定比例含有：有機矽化合物，其係使以一般式(1)所示之含有(甲基)丙烯醯基之矽化合物(a1)、及以SiY4(Y為矽氧烷鍵生成基)所示之矽化合物(a2)，以矽化合物(a2)相對於矽化合物(a1)1莫耳而言為0.3~1.8莫耳的比率進行水解共聚縮合而得；(甲基)丙烯酸酯混合物，其係由：由3價以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，並且是由具有2個以上的(甲基)丙烯醯基且具有1個以上的羥基之(甲基)丙烯酸酯、與聚異氰酸酯之加成反應所得之胺甲酸乙酯加成化合物(b1)，以及由3價以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，並且是具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羥基之(甲基)丙烯酸酯(b2)所構成；以及於分子內具有氮原子之自由基聚合性不飽和化合物。
简体摘要：本发明之活性能量线硬化型涂料组成物，系以特定比例含有：有机硅化合物，其系使以一般式(1)所示之含有(甲基)丙烯酰基之硅化合物(a1)、及以SiY4(Y为硅氧烷键生成基)所示之硅化合物(a2)，以硅化合物(a2)相对于硅化合物(a1)1莫耳而言为0.3~1.8莫耳的比率进行水解共聚缩合而得；(甲基)丙烯酸酯混合物，其系由：由3价以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，并且是由具有2个以上的(甲基)丙烯酰基且具有1个以上的羟基之(甲基)丙烯酸酯、与聚异氰酸酯之加成反应所得之胺甲酸乙酯加成化合物(b1)，以及由3价以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，并且是具有3个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羟基之(甲基)丙烯酸酯(b2)所构成；以及于分子内具有氮原子之自由基聚合性不饱和化合物。

4. 发明专利

TW201333077A 聚矽氧烷之製造方法审中-公开
简体标题：聚硅氧烷之制造方法
公开(公告)号：TW201333077A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101151046
申请日：2012-12-28
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小倉絹子 , OGURA, KINUKO , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI
IPC分类号： C08G77/06 , C08G77/12
CPC分类号： C08G77/20 , C08G77/06 , C08G77/80 , C09D183/04
摘要：本發明係以下述一般式(1)表示之聚矽氧烷之製造方法，且具備於含有由碳原子數4~6之2級醇及碳原子數4~6之3級醇中選出之至少1種醇的反應溶劑中，進行含有藉由縮合而賦予構成單位(1-2)之化合物；與由藉由縮合而賦予構成單位(1-3)之化合物、藉由縮合而賦予構成單位(1-4)之化合物、及藉由縮合而賦予構成單位(1-5)之化合物中選出之至少1種之原料單體的水解/聚縮合反應的縮合步驟。〔式中，A為可進行矽氫化反應之具有碳-碳不飽和鍵之碳原子數2~10的有機基；R1為由碳原子數1~20之伸烷基、碳原子數6~20之2價芳香族基、及碳原子數3~20之2價脂環族基中選擇之至少1種；n為0或1；R2為由氫原子、碳原子數1~10之烷基、及可進行矽氫化反應之具有碳-碳不飽和鍵之碳原子數2~10的有機基(1分子中之R2可為相同亦可為相異)中選擇之至少1種；R3為由氫原子、碳原子數1~10之烷基、及可進行矽氫化反應之具有碳-碳不飽和鍵之碳原子數2~10的有機基中選擇之至少1種；R4為由氫原子、碳原子數1~10之烷基、及可進行矽氫化反應之具有碳-碳不飽和鍵之碳原子數2~10的有機基(1分子中之R4可為相同亦可為相異)中選擇之至少1種；R5為氫原子或碳原子數1~6之烷基；v為正數；u、w、x、y及z為0或正數；w、x及y當中至少1者為正數；0≦u/(v+w+x+y)≦2；0≦x/(v+w)≦2；0≦y/(v+w)≦2；0≦z/(v+w+x+y)≦1；惟w=0時，R2、R3及R4之任1者為可進行矽氫化反應之具有碳-碳不飽和鍵之碳原子數2~10的有機基〕。
简体摘要：本发明系以下述一般式(1)表示之聚硅氧烷之制造方法，且具备于含有由碳原子数4~6之2级醇及碳原子数4~6之3级醇中选出之至少1种醇的反应溶剂中，进行含有借由缩合而赋予构成单位(1-2)之化合物；与由借由缩合而赋予构成单位(1-3)之化合物、借由缩合而赋予构成单位(1-4)之化合物、及借由缩合而赋予构成单位(1-5)之化合物中选出之至少1种之原料单体的水解/聚缩合反应的缩合步骤。〔式中，A为可进行硅氢化反应之具有碳-碳不饱和键之碳原子数2~10的有机基；R1为由碳原子数1~20之伸烷基、碳原子数6~20之2价芳香族基、及碳原子数3~20之2价脂环族基中选择之至少1种；n为0或1；R2为由氢原子、碳原子数1~10之烷基、及可进行硅氢化反应之具有碳-碳不饱和键之碳原子数2~10的有机基(1分子中之R2可为相同亦可为相异)中选择之至少1种；R3为由氢原子、碳原子数1~10之烷基、及可进行硅氢化反应之具有碳-碳不饱和键之碳原子数2~10的有机基中选择之至少1种；R4为由氢原子、碳原子数1~10之烷基、及可进行硅氢化反应之具有碳-碳不饱和键之碳原子数2~10的有机基(1分子中之R4可为相同亦可为相异)中选择之至少1种；R5为氢原子或碳原子数1~6之烷基；v为正数；u、w、x、y及z为0或正数；w、x及y当中至少1者为正数；0≦u/(v+w+x+y)≦2；0≦x/(v+w)≦2；0≦y/(v+w)≦2；0≦z/(v+w+x+y)≦1；惟w=0时，R2、R3及R4之任1者为可进行硅氢化反应之具有碳-碳不饱和键之碳原子数2~10的有机基〕。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式