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1. 发明专利

TWI617630B 活性能量線硬化型塗料組成物有权
简体标题：活性能量线硬化型涂料组成物
公开(公告)号：TWI617630B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW103110476
申请日：2014-03-20
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小倉絹子 , OGURA, KINUKO , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA
IPC分类号： C09D143/04 , C09D175/14 , C09D133/10 , C09D4/00 , C08F2/46 , C08J3/28 , G09F9/00 , G06F3/041
CPC分类号： C09D175/16 , C08F230/08 , C08F290/068 , C08G18/672 , C08G18/73 , C08G77/20 , C08G77/442 , C08L83/10 , C09D4/00 , C08F226/02

2. 发明专利

TWI468468B 耐熱衝擊性硬化物及其製造方法有权
简体标题：耐热冲击性硬化物及其制造方法
公开(公告)号：TWI468468B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW101131807
申请日：2012-08-31
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA
IPC分类号： C08L83/04 , C08L83/07 , H01L23/14 , H05K1/03
CPC分类号： C08G77/20 , C08F299/08 , C08G77/16 , C08K5/0025 , C08K5/07 , C09D183/06 , C08L83/04

3. 发明专利

TW201311771A 表面處理劑及表面處理方法审中-公开
简体标题：表面处理剂及表面处理方法
公开(公告)号：TW201311771A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101117107
申请日：2012-05-14
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：古田尚正 , FURUTA, NAOMASA , 鈴木浩 , SUZUKI, HIROSHI , 原田勝可 , HARADA, KATSUYOSHI , 鄭柱賢 , CHUNG, JUHYUN
IPC分类号： C08G77/12 , C09K3/18 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/306 , C08G77/12 , C08G77/26 , C09K3/18
摘要：本發明係關於適合於被處理物表面的撥水化之表面處理劑，含有下述一般式(1)所示化合物(A)。〔式中，R6為氫原子或碳原子數1~6的烷基，R1、R2、R3、R4及R5彼此獨立為氫原子、氰烷基、烷基、芳烷基、環烷基、環芳烷基或芳基，R1、R2、R3、R4及R5的至少1個為氫原子。a、w、x、y及z彼此獨立為0或正數，w及x的至少1方為正數，0≦w/(x+y)≦5，0≦z/(a+w+x+y)≦1〕。
简体摘要：本发明系关于适合于被处理物表面的拨水化之表面处理剂，含有下述一般式(1)所示化合物(A)。〔式中，R6为氢原子或碳原子数1~6的烷基，R1、R2、R3、R4及R5彼此独立为氢原子、氰烷基、烷基、芳烷基、环烷基、环芳烷基或芳基，R1、R2、R3、R4及R5的至少1个为氢原子。a、w、x、y及z彼此独立为0或正数，w及x的至少1方为正数，0≦w/(x+y)≦5，0≦z/(a+w+x+y)≦1〕。

4. 发明专利

TWI507444B 反應性聚矽氧烷溶液之製造方法有权
简体标题：反应性聚硅氧烷溶液之制造方法
公开(公告)号：TWI507444B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW100148050
申请日：2011-12-22
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：古田尚正 , FURUTA, NAOMASA , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI
IPC分类号： C08G64/02 , C08G18/44 , C09D169/00 , C09D175/04
CPC分类号： C08K5/05 , C08G77/06 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08G77/34

5. 发明专利

TW201443172A 活性能量線硬化型塗料組成物审中-公开
简体标题：活性能量线硬化型涂料组成物
公开(公告)号：TW201443172A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103110476
申请日：2014-03-20
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小倉絹子 , OGURA, KINUKO , 北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA
IPC分类号： C09D143/04 , C09D175/14 , C09D133/10 , C09D4/00 , C08F2/46 , C08J3/28 , G09F9/00 , G06F3/041
CPC分类号： C09D175/16 , C08F230/08 , C08F290/068 , C08G18/672 , C08G18/73 , C08G77/20 , C08G77/442 , C08L83/10 , C09D4/00 , C08F226/02
摘要：本發明之活性能量線硬化型塗料組成物，係以特定比例含有：有機矽化合物，其係使以一般式(1)所示之含有(甲基)丙烯醯基之矽化合物(a1)、及以SiY4(Y為矽氧烷鍵生成基)所示之矽化合物(a2)，以矽化合物(a2)相對於矽化合物(a1)1莫耳而言為0.3~1.8莫耳的比率進行水解共聚縮合而得；(甲基)丙烯酸酯混合物，其係由：由3價以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，並且是由具有2個以上的(甲基)丙烯醯基且具有1個以上的羥基之(甲基)丙烯酸酯、與聚異氰酸酯之加成反應所得之胺甲酸乙酯加成化合物(b1)，以及由3價以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，並且是具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羥基之(甲基)丙烯酸酯(b2)所構成；以及於分子內具有氮原子之自由基聚合性不飽和化合物。
简体摘要：本发明之活性能量线硬化型涂料组成物，系以特定比例含有：有机硅化合物，其系使以一般式(1)所示之含有(甲基)丙烯酰基之硅化合物(a1)、及以SiY4(Y为硅氧烷键生成基)所示之硅化合物(a2)，以硅化合物(a2)相对于硅化合物(a1)1莫耳而言为0.3~1.8莫耳的比率进行水解共聚缩合而得；(甲基)丙烯酸酯混合物，其系由：由3价以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，并且是由具有2个以上的(甲基)丙烯酰基且具有1个以上的羟基之(甲基)丙烯酸酯、与聚异氰酸酯之加成反应所得之胺甲酸乙酯加成化合物(b1)，以及由3价以上的脂肪族多元醇所衍生之(甲基)丙烯酸酯，并且是具有3个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羟基之(甲基)丙烯酸酯(b2)所构成；以及于分子内具有氮原子之自由基聚合性不饱和化合物。

6. 发明专利

TWI507449B 溶劑可溶型反應性聚矽氧烷的製造方法有权
简体标题：溶剂可溶型反应性聚硅氧烷的制造方法
公开(公告)号：TWI507449B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW100148051
申请日：2011-12-22
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA , 鈴木浩 , SUZUKI, HIROSHI
IPC分类号： C08G77/06 , C08G77/20 , C08G77/32
CPC分类号： C08K5/103 , C08G77/06 , C08G77/20

7. 发明专利

TW201313830A 耐熱衝擊性硬化物及其製造方法审中-公开
简体标题：耐热冲击性硬化物及其制造方法
公开(公告)号：TW201313830A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101131807
申请日：2012-08-31
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：北村昭憲 , KITAMURA, AKINORI , 古田尚正 , FURUTA, NAOMASA
IPC分类号： C08L83/04 , C08L83/07 , H01L23/14 , H05K1/03
CPC分类号： C08G77/20 , C08F299/08 , C08G77/16 , C08K5/0025 , C08K5/07 , C09D183/06 , C08L83/04
摘要：本發明為一種耐熱衝擊性硬化物之製造方法，其特徵為具備：使下述通式(1)所示的單體、下述通式(2)所示的單體、下述通式(3)所示的單體、下述通式(4)所示的單體及下述通式(5)所示的單體，各自以a莫耳、w莫耳、x莫耳、y莫耳及c莫耳之比例，在酸觸媒之存在下共聚縮合而得到硬化物前驅物之縮合步驟，及使前述硬化物前驅物所具有的乙烯性不飽和鍵之至少一部分聚合，而使硬化物前驅物硬化之硬化步驟，w及x為正之數，a、y及c為0或正之數，而且a、w、x、y及c之關係為0＜w/(a+x+y+2c)≦10，【化1】Si(X)4 (1)【化2】R1Si(X)3 (2) [式(1)~(5)中，(X)係矽氧烷鍵生成基，R1、R2及R4各自係由氫原子、烷基、芳烷基、環烷基、環芳烷基、芳基及具有乙烯性不飽和鍵的基中選出之基，R3及R5各自係由氫原子、烷基、芳烷基、環烷基、環芳烷基及芳基中選出的基，R1、R2及R4中的至少一個係具有乙烯性不飽和鍵的基；又，當(X)為複數時，(X)的一部分或全部可相同或相異]。
简体摘要：本发明为一种耐热冲击性硬化物之制造方法，其特征为具备：使下述通式(1)所示的单体、下述通式(2)所示的单体、下述通式(3)所示的单体、下述通式(4)所示的单体及下述通式(5)所示的单体，各自以a莫耳、w莫耳、x莫耳、y莫耳及c莫耳之比例，在酸触媒之存在下共聚缩合而得到硬化物前驱物之缩合步骤，及使前述硬化物前驱物所具有的乙烯性不饱和键之至少一部分聚合，而使硬化物前驱物硬化之硬化步骤，w及x为正之数，a、y及c为0或正之数，而且a、w、x、y及c之关系为0＜w/(a+x+y+2c)≦10，【化1】Si(X)4 (1)【化2】R1Si(X)3 (2) [式(1)~(5)中，(X)系硅氧烷键生成基，R1、R2及R4各自系由氢原子、烷基、芳烷基、环烷基、环芳烷基、芳基及具有乙烯性不饱和键的基中选出之基，R3及R5各自系由氢原子、烷基、芳烷基、环烷基、环芳烷基及芳基中选出的基，R1、R2及R4中的至少一个系具有乙烯性不饱和键的基；又，当(X)为复数时，(X)的一部分或全部可相同或相异]。

8. 发明专利

TW201239009A 溶劑可溶型反應性聚矽氧烷的製造方法审中-公开
简体标题：溶剂可溶型反应性聚硅氧烷的制造方法
公开(公告)号：TW201239009A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100148051
申请日：2011-12-22
申请人：東亞合成股份有限公司
发明人：北村昭憲 , 古田尚正 , 鈴木浩
IPC分类号： C08G
CPC分类号： C08K5/103 , C08G77/06 , C08G77/20
摘要：本發明係溶劑可溶型聚矽氧烷的製造方法,其具備於觸媒的存在下,使含有具有(甲基)丙烯醯基及矽氧烷鍵生成基的有機矽化合物(S1)與由四烷氧基矽烷及四鹵基矽烷中選出的至少1種矽化合物(S2)之具有矽氧烷鍵生成基的原料化合物,進行水解共聚縮合,而合成通式(1)所示的反應性聚矽氧烷之縮合步驟,其中在縮合步驟中,有機矽化合物(S1)及矽化合物(S2)係以莫耳比(S2)/(S1)成為1.8以下的方式使用,縮合步驟係在含有有機矽化合物(S1)與水的原料液中,徐徐添加矽化合物(S2)及上述觸媒的混合物而進行,此混合物係一邊將矽化合物(S2)的使用量相對於上述有機矽化合物(S1)的使用量之莫耳比維持在0.001/分鐘~0.3/分鐘之間,一邊添加。
简体摘要：本发明系溶剂可溶型聚硅氧烷的制造方法,其具备于触媒的存在下,使含有具有(甲基)丙烯酰基及硅氧烷键生成基的有机硅化合物(S1)与由四烷氧基硅烷及四卤基硅烷中选出的至少1种硅化合物(S2)之具有硅氧烷键生成基的原料化合物,进行水解共聚缩合,而合成通式(1)所示的反应性聚硅氧烷之缩合步骤,其中在缩合步骤中,有机硅化合物(S1)及硅化合物(S2)系以莫耳比(S2)/(S1)成为1.8以下的方式使用,缩合步骤系在含有有机硅化合物(S1)与水的原料液中,徐徐添加硅化合物(S2)及上述触媒的混合物而进行,此混合物系一边将硅化合物(S2)的使用量相对于上述有机硅化合物(S1)的使用量之莫耳比维持在0.001/分钟~0.3/分钟之间,一边添加。

9. 发明专利

TW201238998A 反應性聚矽氧烷溶液之製造方法审中-公开
简体标题：反应性聚硅氧烷溶液之制造方法
公开(公告)号：TW201238998A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100148050
申请日：2011-12-22
申请人：東亞合成股份有限公司
发明人：古田尚正 , 北村昭憲
IPC分类号： C08G , C09D
CPC分类号： C08K5/05 , C08G77/06 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08G77/34
摘要：本發明係反應性聚矽氧烷溶液之製造方法,其具備:使含有具有由(甲基)丙烯醯基或氧雜環丁烷基所成的反應性官能基、與矽氧烷鍵生成基之有機矽化合物的原料化合物,進行水解共聚縮合,而合成通式(1)所示的反應性聚矽氧烷之縮合步驟;將所得之反應性聚矽氧烷溶解於水洗用有機溶劑中之溶解步驟;及,使所得之有機溶液與水接觸,自混合液中去除水層之洗淨步驟。作為水洗用有機溶劑,使用具有羥基,1大氣壓下的沸點為110℃以上200℃以下,在20℃的水100g中之溶解度為10g以下的化合物(例如丙二醇單丁醚、1-戊醇)。
简体摘要：本发明系反应性聚硅氧烷溶液之制造方法,其具备:使含有具有由(甲基)丙烯酰基或氧杂环丁烷基所成的反应性官能基、与硅氧烷键生成基之有机硅化合物的原料化合物,进行水解共聚缩合,而合成通式(1)所示的反应性聚硅氧烷之缩合步骤;将所得之反应性聚硅氧烷溶解于水洗用有机溶剂中之溶解步骤;及,使所得之有机溶液与水接触,自混合液中去除水层之洗净步骤。作为水洗用有机溶剂,使用具有羟基,1大气压下的沸点为110℃以上200℃以下,在20℃的水100g中之溶解度为10g以下的化合物(例如丙二醇单丁醚、1-戊醇)。

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