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1. 发明专利

TW201434829A 高溶解性參－（２，３－環氧基丙基）－三聚異氰酸酯及製造方法审中-公开
简体标题：高溶解性参－（２，３－环氧基丙基）－三聚异氰酸酯及制造方法
公开(公告)号：TW201434829A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103100966
申请日：2014-01-10
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：日高基彥 , HIDAKA, MOTOHIKO , 尾田隆 , ODA, TAKASHI , 垣內暢之 , KAKIUCHI, NOBUYUKI , 山口大希 , YAMAGUCHI, HIROKI
IPC分类号： C07D405/14 , C08G59/32
CPC分类号： C08G73/0644 , C07D405/14 , C08G59/3245 , C08G59/4215 , C08G59/688 , C09D179/04 , C09J179/04 , Y10T428/2982
摘要：本發明之課題係提供可得到保存時不易引起結晶析出，均勻且可長期保存之環氧組成物，其硬化物硬化後透明性優良，且耐熱性、耐光性高之硬化物。其解決手段為以2至15質量%之比例於結晶體中包含β型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯之α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯結晶體；包含下述步驟之上述α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯結晶體之製造方法：自參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯溶液中，作為固體而分離該溶液中所含有之β型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯，得到經提高α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯之含有比率的結晶體之步驟(i)。
简体摘要：本发明之课题系提供可得到保存时不易引起结晶析出，均匀且可长期保存之环氧组成物，其硬化物硬化后透明性优良，且耐热性、耐光性高之硬化物。其解决手段为以2至15质量%之比例于结晶体中包含β型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯结晶体；包含下述步骤之上述α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯结晶体之制造方法：自参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯溶液中，作为固体而分离该溶液中所含有之β型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯，得到经提高α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之含有比率的结晶体之步骤(i)。

2. 发明专利

TW593311B 降低異氰尿酸三(2,3-環氧丙酯)晶體中殘留有機溶劑的方法有权
简体标题：降低异氰尿酸三(2,3-环氧丙酯)晶体中残留有机溶剂的方法
公开(公告)号：TW593311B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW090103952
申请日：2001-02-21
申请人：日產化學工業股份有限公司 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：池田久男 , 軍司康弘 , 日高基彥
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D251/34
摘要：一種用降低殘留於異氰尿酸三(2，3－環氧丙酯)中之有機溶劑的方法，其包含將藉再結晶法得到的異氰尿酸三(2，3－環氧丙酯)晶體顆粒材料加以粉碎，並自顆粒表面蒸發揮發性組份。
简体摘要：一种用降低残留于异氰尿酸三(2，3－环氧丙酯)中之有机溶剂的方法，其包含将藉再结晶法得到的异氰尿酸三(2，3－环氧丙酯)晶体颗粒材料加以粉碎，并自颗粒表面蒸发挥发性组份。

3. 发明专利

TW201536828A 高溶解性改性環氧樹脂組成物审中-公开
简体标题：高溶解性改性环氧树脂组成物
公开(公告)号：TW201536828A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103143887
申请日：2014-12-16
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：遠藤勇樹 , ENDO, YUKI , 日高基彥 , HIDAKA, MOTOHIKO , 笠井幹生 , KASAI, MIKIO , 尾田隆 , ODA, TAKASHI , 垣內暢之 , KAKIUCHI, NOBUYUKI
IPC分类号： C08G59/17 , C08L63/00
CPC分类号： C08G59/4238 , C08G59/1455 , C08G59/32 , C08G59/3245 , C08G59/4215
摘要：本發明係提供液狀或固體，且具有優異之溶解性及高的保存安定性的環氧樹脂組成物。本發明之改性環氧樹脂組成物，其特徵係含有分子內之1至3個之環氧丙基為式(1)： (式中，R1及R2各自為烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、雜環基、或彼等之鹵素化、胺基化、或硝基化衍生物)表示之官能基所取代之參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯所構成之化合物A與參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯所構成之化合物B，其中化合物A之取代前的參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯及化合物B之參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯係基於兩者之全質量，由2至15 質量%之β型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯與剩餘部分之α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯所構成者。
简体摘要：本发明系提供液状或固体，且具有优异之溶解性及高的保存安定性的环氧树脂组成物。本发明之改性环氧树脂组成物，其特征系含有分子内之1至3个之环氧丙基为式(1)： (式中，R1及R2各自为烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、杂环基、或彼等之卤素化、胺基化、或硝基化衍生物)表示之官能基所取代之参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯所构成之化合物A与参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯所构成之化合物B，其中化合物A之取代前的参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯及化合物B之参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯系基于两者之全质量，由2至15 质量%之β型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯与剩余部分之α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯所构成者。

4. 发明专利

TW202014418A 高溶解性參－（２，３－環氧基丙基）－三聚異氰酸酯及製造方法审中-公开
简体标题：高溶解性参－（２，３－环氧基丙基）－三聚异氰酸酯及制造方法
公开(公告)号：TW202014418A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108141622
申请日：2014-01-10
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：日高基彥 , HIDAKA, MOTOHIKO , 尾田隆 , ODA, TAKASHI , 垣內暢之 , KAKIUCHI, NOBUYUKI , 山口大希 , YAMAGUCHI, HIROKI
IPC分类号： C07D405/14 , C08G59/32
摘要：本發明之課題係提供可得到保存時不易引起結晶析出，均勻且可長期保存之環氧組成物，其硬化物硬化後透明性優良，且耐熱性、耐光性高之硬化物。其解決手段為以2至15質量%之比例於結晶體中包含β型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯之α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯結晶體；包含下述步驟之上述α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯結晶體之製造方法：自參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯溶液中，作為固體而分離該溶液中所含有之β型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯，得到經提高α型參-(2,3-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯之含有比率的結晶體之步驟(i)。
简体摘要：本发明之课题系提供可得到保存时不易引起结晶析出，均匀且可长期保存之环氧组成物，其硬化物硬化后透明性优良，且耐热性、耐光性高之硬化物。其解决手段为以2至15质量%之比例于结晶体中包含β型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯结晶体；包含下述步骤之上述α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯结晶体之制造方法：自参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯溶液中，作为固体而分离该溶液中所含有之β型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯，得到经提高α型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之含有比率的结晶体之步骤(i)。

5. 发明专利

TWI668244B 高溶解性改性環氧樹脂組成物有权
简体标题：高溶解性改性环氧树脂组成物
公开(公告)号：TWI668244B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW103143887
申请日：2014-12-16
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：遠藤勇樹 , ENDO, YUKI , 日高基彥 , HIDAKA, MOTOHIKO , 笠井幹生 , KASAI, MIKIO , 尾田隆 , ODA, TAKASHI , 垣內暢之 , KAKIUCHI, NOBUYUKI
IPC分类号： C08G59/17 , C08L63/00

6. 发明专利

TWI225059B ��型異氰尿酸三(2,3-環氧丙酯)結晶及其製法 ��-FORM TRIS-(2,3-EPOXYPROPYL)-ISOCYANURATE CRYSTALS AND PROCESS FOR THEIR PRODUCTION 有权
简体标题： ��型异氰尿酸三(2,3-环氧丙酯)结晶及其制法 ��-FORM TRIS-(2,3-EPOXYPROPYL)-ISOCYANURATE CRYSTALS AND PROCESS FOR THEIR PRODUCTION
公开(公告)号：TWI225059B
公开(公告)日：2004-12-11
申请号：TW088105977
申请日：1999-04-14
申请人：日產化學工業股份有限公司 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：池田久男 , 軍司康弘 , 好田年成 , 日高基彥 , 青木篤巳
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D405/14 , H05K3/285
摘要：在結晶內部含2至15重量%之α型異氰尿酸三(2，3－環氧丙酯)之β型異氰尿酸三(2，3－環氧丙酯)結晶。
简体摘要：在结晶内部含2至15重量%之α型异氰尿酸三(2，3－环氧丙酯)之β型异氰尿酸三(2，3－环氧丙酯)结晶。

7. 发明专利

TWI688561B 高溶解性參-(２,３-環氧基丙基)-三聚異氰酸酯及製造方法有权
简体标题：高溶解性参-(２,３-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯及制造方法
公开(公告)号：TWI688561B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW103100966
申请日：2014-01-10
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：日高基彥 , HIDAKA, MOTOHIKO , 尾田隆 , ODA, TAKASHI , 垣內暢之 , KAKIUCHI, NOBUYUKI , 山口大希 , YAMAGUCHI, HIROKI
IPC分类号： C07D405/14 , C08G59/32

8. 发明专利

TWI391789B 用以形成光交聯硬化之光阻下層膜的光阻下層膜形成組成物有权
简体标题：用以形成光交联硬化之光阻下层膜的光阻下层膜形成组成物
公开(公告)号：TWI391789B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW095113823
申请日：2006-04-18
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：竹井敏 , TAKEI, SATOSHI , 新城徹也 , SHINJO, TETSUYA , 日高基彥 , HIDAKA, MOTOHIKO
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/161 , H01L21/0271

9. 发明专利

TWI243169B 光學活性環氧化合物 OPTICALLY ACTIVE EPOXY COMPOUND 有权
简体标题：光学活性环氧化合物 OPTICALLY ACTIVE EPOXY COMPOUND
公开(公告)号：TWI243169B
公开(公告)日：2005-11-11
申请号：TW088102880
申请日：1999-02-25
申请人：日產化學工業股份有限公司 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：池田久男 , 日高基彥 , 青木篤巳
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D405/14
摘要：光學活性β型參－(2，3－環氧基丙基)－三聚異氰酸酯，係以三聚異氰酸及光學活性表鹵醇反應的方法，或用直鏈澱粉或纖維素衍生物光學分割參－(2，3－環氧基丙基)－三聚異氰酸酯之外消旋體的方法而得。混合光學活性β型參－(2，3－環氧基丙基)－三聚異氰酸酯之二種鏡像異構物而得的高熔點型參－(2，3－環氧基丙基)－三聚異氰酸酯之製法。
简体摘要：光学活性β型参－(2，3－环氧基丙基)－三聚异氰酸酯，系以三聚异氰酸及光学活性表卤醇反应的方法，或用直链淀粉或纤维素衍生物光学分割参－(2，3－环氧基丙基)－三聚异氰酸酯之外消旋体的方法而得。混合光学活性β型参－(2，3－环氧基丙基)－三聚异氰酸酯之二种镜像异构物而得的高熔点型参－(2，3－环氧基丙基)－三聚异氰酸酯之制法。

10. 发明专利

TW200949443A 防偽造全像圖用感光性組成物及防偽造全像圖介質 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR FORGERY PREVENTING HOLOGRAM AND FORGERY PREVENTING HOLOGRAM MEDIUM 审中-公开
简体标题：防伪造全像图用感光性组成物及防伪造全像图介质 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR FORGERY PREVENTING HOLOGRAM AND FORGERY PREVENTING HOLOGRAM MEDIUM
公开(公告)号：TW200949443A
公开(公告)日：2009-12-01
申请号：TW098109753
申请日：2009-03-25
申请人：日產化學工業股份有限公司 , 國立大學法人電氣通信大學
发明人：大森健太郎 , 大島壽郎 , 日高基彥 , 富田康生
IPC分类号： G03F , G03H
CPC分类号： G03H1/02 , B42D25/328 , G03F7/001 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03H1/0011 , G03H2001/0264 , G03H2250/43 , G03H2260/12
摘要：本發明有關一種利用記錄層內部的聚合物與無機微粒子間的折射率差以記錄干擾圖型（interfernce pattern）之體積全像圖（volume hologram）用的感光性組成物，特別是提供一種為有效防止此種全像圖記錄的偽造變造所改良之防偽造全像圖用感光性組成物及由此所得之防偽造全像圖介質。詳言之，本發明提供一種防偽造全像圖用感光性組成物，其特徵為：含有（a）於25℃下黏度為5mPa‧s以上10,000mPa‧S以下之液狀聚合性化合物、（b）光聚合引發劑、（c）無機微粒子，而前述聚合性化合物（a）與無機微粒子（c）的折射率差為0.005以上0.1以下。
简体摘要：本发明有关一种利用记录层内部的聚合物与无机微粒子间的折射率差以记录干扰图型（interfernce pattern）之体积全像图（volume hologram）用的感光性组成物，特别是提供一种为有效防止此种全像图记录的伪造变造所改良之防伪造全像图用感光性组成物及由此所得之防伪造全像图介质。详言之，本发明提供一种防伪造全像图用感光性组成物，其特征为：含有（a）于25℃下黏度为5mPa‧s以上10,000mPa‧S以下之液状聚合性化合物、（b）光聚合引发剂、（c）无机微粒子，而前述聚合性化合物（a）与无机微粒子（c）的折射率差为0.005以上0.1以下。

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