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1. 发明专利

TWI630161B 基板搬送室及容器連接機構有权
简体标题：基板搬送室及容器连接机构
公开(公告)号：TWI630161B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW103134495
申请日：2014-10-03
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：若林真士 , WAKABAYASHI, SHINJI , 近藤圭祐 , KONDOH, KEISUKE , 小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： B65G65/00

2. 发明专利

TW201347067A 加載互鎖裝置审中-公开
简体标题：加载互锁设备
公开(公告)号：TW201347067A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102108768
申请日：2013-03-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： C23C14/566 , C23C16/54 , H01L21/67201
摘要：加載互鎖裝置係具備有：容器；將吹淨氣體供給至容器之吹淨氣體供給源、將容器內排氣之排氣機構；在對應於將容器內保持於真空之搬送室的壓力與大氣壓之間進行調整之壓力調整機構；於容器內支撐基板之基板支撐構件；對向地設置於基板上面及/或下面，而將吹淨氣體朝基板上面及/或下面噴出，由多孔質體或噴淋構造所構成之氣體噴出構件；以及，將維持夾置氣體噴出構件之兩側的壓力差，以獲得噴出後之氣體溫度降低效果之壓力調整機構加以控制的控制部。
简体摘要：加载互锁设备系具备有：容器；将吹净气体供给至容器之吹净气体供给源、将容器内排气之排气机构；在对应于将容器内保持于真空之搬送室的压力与大气压之间进行调整之压力调整机构；于容器内支撑基板之基板支撑构件；对向地设置于基板上面及/或下面，而将吹净气体朝基板上面及/或下面喷出，由多孔质体或喷淋构造所构成之气体喷出构件；以及，将维持夹置气体喷出构件之两侧的压力差，以获得喷出后之气体温度降低效果之压力调整机构加以控制的控制部。

3. 发明专利

TW201510909A 支援資訊顯示方法、基板處理裝置之維護支援方法、支援資訊顯示控制裝置、基板處理系統及程式审中-公开
简体标题：支持信息显示方法、基板处理设备之维护支持方法、支持信息显示控制设备、基板处理系统及进程
公开(公告)号：TW201510909A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103105199
申请日：2014-02-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：兒玉俊昭 , KODAMA, TOSHIAKI , 山內徹 , YAMAUCHI, TORU , 小林仙尙 , KOBAYASHI, SENSHO , 中村博 , NAKAMURA, HIROSHI , 池田岳 , IKEDA, GAKU , 魚山和哉 , UOYAMA, KAZUYA
IPC分类号： G06Q50/04 , G02B27/01
CPC分类号： G02B27/017 , G02B2027/0138 , G02B2027/014 , H01L21/67288
摘要：以視覺的方式將作業員所需的資訊或想使作業員周知的資訊提供給作業員。基板處理系統(100A)之顯示控制裝置(40)，係為了在作業員進行基板處理裝置(10)的維修作業時將關於維修的支援資訊即時顯示於作業員所裝設的頭戴式顯示器(HMD)(30)，而透過具備有HMD30的攝像機，取得拍攝了在基板處理裝置(10)進行維修之預定部位的影像，並從儲存於資料庫的資訊推定包含於所取得的影像之關於預定部位的支援資訊，將所推定的支援資訊進行影像化，將所製作的影像顯示於HMD30，藉此，使作業員目視確認支援資訊。
简体摘要：以视觉的方式将作业员所需的信息或想使作业员周知的信息提供给作业员。基板处理系统(100A)之显示控制设备(40)，系为了在作业员进行基板处理设备(10)的维修作业时将关于维修的支持信息实时显示于作业员所装设的头戴式显示器(HMD)(30)，而透过具备有HMD30的摄像机，取得拍摄了在基板处理设备(10)进行维修之预定部位的影像，并从存储于数据库的信息推定包含于所取得的影像之关于预定部位的支持信息，将所推定的支持信息进行影像化，将所制作的影像显示于HMD30，借此，使作业员目视确认支持信息。

4. 发明专利

TW201620606A 排氣處理裝置、基板處理系統、及處理排氣之方法审中-公开
简体标题：排气处理设备、基板处理系统、及处理排气之方法
公开(公告)号：TW201620606A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104129976
申请日：2015-09-10
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：守屋剛 , MORIYA, TSUYOSHI , 小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： B01D53/68 , B01D53/44 , B01D53/58
CPC分类号： B01D53/44 , B01D53/58 , B01D53/68
摘要：排氣處理裝置係對自將被處理體洗淨之洗淨裝置之腔室排出之污染氣體進行處理之排氣處理裝置。排氣處理裝置包括：複數個排氣處理單元，其對污染氣體進行互不相同之處理；控制部，其根據確定腔室中之洗淨處理之處理程式，選擇複數個排氣處理單元中之一個以上之排氣處理單元，以僅藉由所選擇之一個以上之排氣處理單元對污染氣體進行處理之方式，對排氣處理裝置進行控制；及氣體管路，其使經由所選擇之一個以上之排氣處理單元而輸出之氣體循環至腔室。
简体摘要：排气处理设备系对自将被处理体洗净之洗净设备之腔室排出之污染气体进行处理之排气处理设备。排气处理设备包括：复数个排气处理单元，其对污染气体进行互不相同之处理；控制部，其根据确定腔室中之洗净处理之处理进程，选择复数个排气处理单元中之一个以上之排气处理单元，以仅借由所选择之一个以上之排气处理单元对污染气体进行处理之方式，对排气处理设备进行控制；及气体管路，其使经由所选择之一个以上之排气处理单元而输出之气体循环至腔室。

5. 发明专利

TWI534923B 加載互鎖裝置有权
简体标题：加载互锁设备
公开(公告)号：TWI534923B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW100145211
申请日：2011-12-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO , 熊谷圭太 , KUMAGAI, KEITA
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： F16L53/00 , C23C16/4408 , H01L21/67109 , H01L21/67201 , Y10T137/6416

6. 发明专利

TW201527196A 基板搬送室及容器連接機構审中-公开
简体标题：基板搬送室及容器连接机构
公开(公告)号：TW201527196A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103134495
申请日：2014-10-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：若林真士 , WAKABAYASHI, SHINJI , 近藤圭祐 , KONDOH, KEISUKE , 小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： B65G65/00
CPC分类号： H01L21/67772 , B65G2201/0297 , H01L21/67769
摘要：本發明之課題在於提供一種可抑制專有面積增大之基板搬送室。基板處理系統10中，從收容晶圓W之FOUP18搬出晶圓W之加載器模組15具有：俯視上為變形6角形之架框狀本體21、以及作為用以將FOUP18連接於本體21之容器連接機構的複數加載埠22，複數加載埠22當中之下側加載埠22a以及上側加載埠22b係於本體21之高度方向上重疊配置。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可抑制专有面积增大之基板搬送室。基板处理系统10中，从收容晶圆W之FOUP18搬出晶圆W之加载器模块15具有：俯视上为变形6角形之架框状本体21、以及作为用以将FOUP18连接于本体21之容器连接机构的复数加载端口22，复数加载端口22当中之下侧加载端口22a以及上侧加载端口22b系于本体21之高度方向上重叠配置。

7. 发明专利

TW201304033A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201304033A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101110399
申请日：2012-03-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： H01L21/67 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67703 , H01L21/67173 , H01L21/67184 , H01L21/67201
摘要：本發明提供一種基板處理裝置，包含：複數之真空運送室，鄰接在減壓環境氣氛下對基板進行處理之複數之處理室，並於內部設有在其與該處理室之間進行基板的送入送出之運送機構；一或一以上的真空預備室，分別設置於該複數之真空運送室的各真空處理室中；第1大氣運送機構，將由外部供給的基板運送至一該真空預備室；以及第2大氣運送機構，自該第1大氣運送機構接收基板，將所接收的該基板運送至另一該真空預備室；並且將該第2大氣運送機構配置於設有該一真空預備室之真空運送室的上側或下側；將該複數之真空運送室沿著該第2大氣運送機構之基板運送方向串聯配置。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，包含：复数之真空运送室，邻接在减压环境气氛下对基板进行处理之复数之处理室，并于内部设有在其与该处理室之间进行基板的送入送出之运送机构；一或一以上的真空预备室，分别设置于该复数之真空运送室的各真空处理室中；第1大气运送机构，将由外部供给的基板运送至一该真空预备室；以及第2大气运送机构，自该第1大气运送机构接收基板，将所接收的该基板运送至另一该真空预备室；并且将该第2大气运送机构配置于设有该一真空预备室之真空运送室的上侧或下侧；将该复数之真空运送室沿着该第2大气运送机构之基板运送方向串联配置。

8. 发明专利

TWI571953B 真空處理裝置有权
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TWI571953B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW101102219
申请日：2012-01-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：若林真士 , WAKABAYASHI, SHINJI , 小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67703 , H01L21/67196 , H01L21/67742

9. 发明专利

TWI557826B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI557826B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW100133907
申请日：2011-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/67739 , H01L21/67173 , H01L21/67184 , H01L21/67196 , H01L21/67745

10. 发明专利

TWI552247B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI552247B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW101110399
申请日：2012-03-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小林仙尚 , KOBAYASHI, SENSHO
IPC分类号： H01L21/67 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67703 , H01L21/67173 , H01L21/67184 , H01L21/67201

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