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    • 1. 发明专利
    • 附有多層膜之基板之製造方法及附有多層膜之基板
    • 附有多层膜之基板之制造方法及附有多层膜之基板
    • TW201812849A
    • 2018-04-01
    • TW106126184
    • 2017-08-03
    • 日商旭硝子股份有限公司ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
    • 石川祐之助ISHIKAWA, YUNOSUKE三上正樹MIKAMI, MASAKI楜澤信KURUMISAWA, MAKOTO
    • H01L21/027G03F1/24
    • G03F1/24G02B5/0875G02B5/0891
    • 本發明係關於一種於基板上具備多層膜之附有多層膜之基板之製造方法,其係使上述基板以與該基板面正交之旋轉軸為中心進行旋轉,並且以使用乾式成膜製程所形成之複數層作為積層單元於上述基板上積層複數個積層單元,而獲得附有多層膜之基板之方法,其中於假定成膜速率之經時變化,使用乾式成膜製程而製造複數片附有多層膜之基板時,於滿足下述(1)及(2)中之至少一者之條件下進行成膜: Tdepo-unit/Tr<(m-0.02)或(m+0.02)<Tdepo-unit/Tr……(1) (n-0.02)≦Ti/Tr≦(n+0.02)……(2) 此處,m及n分別獨立地為任意之整數,Ti係上述複數層之各層之成膜間之間隔時間,Tdepo-unit係將1個上述積層單元成膜所需之成膜單位時間,Tr為基板旋轉週期。
    • 本发明系关于一种于基板上具备多层膜之附有多层膜之基板之制造方法,其系使上述基板以与该基板面正交之旋转轴为中心进行旋转,并且以使用干式成膜制程所形成之复数层作为积层单元于上述基板上积层复数个积层单元,而获得附有多层膜之基板之方法,其中于假定成膜速率之经时变化,使用干式成膜制程而制造复数片附有多层膜之基板时,于满足下述(1)及(2)中之至少一者之条件下进行成膜: Tdepo-unit/Tr<(m-0.02)或(m+0.02)<Tdepo-unit/Tr……(1) (n-0.02)≦Ti/Tr≦(n+0.02)……(2) 此处,m及n分别独立地为任意之整数,Ti系上述复数层之各层之成膜间之间隔时间,Tdepo-unit系将1个上述积层单元成膜所需之成膜单位时间,Tr为基板旋转周期。