专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW202008094A 閥裝置、流體控制裝置、流體控制方法、半導體製造裝置及半導體製造方法审中-公开
简体标题：阀设备、流体控制设备、流体控制方法、半导体制造设备及半导体制造方法
公开(公告)号：TW202008094A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW108125005
申请日：2019-07-16
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：佐藤龍彥 , SATO, TATSUHIKO , 中田知宏 , NAKATA, TOMOHIRO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 三浦尊 , MIURA, TAKERU
IPC分类号： G05D16/02 , H01L21/683
摘要：本發明之目的係提供一種閥裝置，在密封性得到改善且又小型化的情況下，能更穩定地控制大流量。本發明之閥裝置，具有：閥主體2、與設在收納凹部23內的第1流路21連通的筒狀構件3、受到筒狀構件3支持的閥座48、介設於收納凹部23之底面的第1流路21之開口周圍與筒狀構件3的下端部之間的密封構件49、環狀板11、以及隔膜41；環狀板11係氣密或液密性地固定在形成於閥主體2的收納凹部23之內周面的環狀之支持部24，並且氣密或液密性地固定在形成於筒狀構件3之外周面的環狀之支持部37，並具有與第2流路22連通的複數個開口，而且具有可撓性；隔膜41係藉由在對於閥座48並無接觸之開啟位置、及有接觸的關閉位置之間移動，而進行第1流路21與第2流路22間的連通及阻斷。
简体摘要：本发明之目的系提供一种阀设备，在密封性得到改善且又小型化的情况下，能更稳定地控制大流量。本发明之阀设备，具有：阀主体2、与设在收纳凹部23内的第1流路21连通的筒状构件3、受到筒状构件3支持的阀座48、介设于收纳凹部23之底面的第1流路21之开口周围与筒状构件3的下端部之间的密封构件49、环状板11、以及隔膜41；环状板11系气密或液密性地固定在形成于阀主体2的收纳凹部23之内周面的环状之支持部24，并且气密或液密性地固定在形成于筒状构件3之外周面的环状之支持部37，并具有与第2流路22连通的复数个开口，而且具有可挠性；隔膜41系借由在对于阀座48并无接触之打开位置、及有接触的关闭位置之间移动，而进行第1流路21与第2流路22间的连通及阻断。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式