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1. 发明专利

TWI680022B 高壓氣體容器之洗淨方法及高壓氣體容器有权
简体标题：高压气体容器之洗净方法及高压气体容器
公开(公告)号：TWI680022B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104140478
申请日：2015-12-03
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 山內宏貴 , YAMAUCHI, HIROKI , 本田弘樹 , HONDA, HIROKI
IPC分类号： B08B9/093

2. 发明专利

TW201835013A 石蠟之製造方法审中-公开
简体标题：石蜡之制造方法
公开(公告)号：TW201835013A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106140683
申请日：2017-11-23
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：津野修司 , TSUNO, SHUJI , 桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 酒井良一郎 , SAKAI, RYOICHIRO
IPC分类号： C07C5/03 , B01J23/42 , B01J21/04 , B01J32/00 , B01J35/02 , B01J8/06 , C07C9/06 , C07C9/08
摘要：本發明提供一種能夠由可容易獲取之高純度烯烴，於抑制副反應並且雜質生成量不產生偏差之狀況下，穩定地高效地製造高純度之石蠟的方法。本發明係將不具有觸媒活性之複數個粒狀構件填充至反應塔10，將上述粒狀構件之中之至少一部分設為擔載有觸媒之載體，於上述反應塔10中於上述觸媒之存在下藉由氣相狀態之烯烴與氫氣之反應而製造石蠟。將上述載體各者所擔載之上述觸媒之重量相對於上述載體各者之重量與上述載體各者所擔載之上述觸媒之重量之和的比率設為0.001%以上且未達0.01%。
简体摘要：本发明提供一种能够由可容易获取之高纯度烯烃，于抑制副反应并且杂质生成量不产生偏差之状况下，稳定地高效地制造高纯度之石蜡的方法。本发明系将不具有触媒活性之复数个粒状构件填充至反应塔10，将上述粒状构件之中之至少一部分设为担载有触媒之载体，于上述反应塔10中于上述触媒之存在下借由气相状态之烯烃与氢气之反应而制造石蜡。将上述载体各者所担载之上述触媒之重量相对于上述载体各者之重量与上述载体各者所担载之上述触媒之重量之和的比率设为0.001%以上且未达0.01%。

3. 发明专利

TWI675823B 丙烷之製造方法及丙烷製造裝置有权
简体标题：丙烷之制造方法及丙烷制造设备
公开(公告)号：TWI675823B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW105102553
申请日：2016-01-27
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 川上純一 , KAWAKAMI, JUNICHI , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C07C5/03 , C07C9/08 , C07C7/10 , C07C7/09 , C07C7/04

4. 发明专利

TW201837011A 丙烯的純化方法和純化設備审中-公开
简体标题：丙烯的纯化方法和纯化设备
公开(公告)号：TW201837011A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107107438
申请日：2018-03-06
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 畑啓之 , HATA, HIROYUKI , 横野孝爾 , YOKONO, TAKASHI
IPC分类号： C07C7/11 , C07C11/06
摘要：本發明係由包含丙烯及雜質的原料純化丙烯用的方法，進行第1步驟係於具有溫度調整功能的吸收塔1中，於第1溫度及第1壓力下使原料與含有銀離子溶液(吸收液)接觸，使原料中的丙烯優先地被吸收於吸收液之同時，經由與吸收塔1具有獨立之溫度調整功能的除霧機器4於第1溫度以下之第2溫度條件下，排出不被吸收液吸收的非吸收氣體。進行第2步驟係於汽提塔2中，於第3溫度及第2壓力下自歷經第1步驟的吸收液使丙烯汽提而回收。使吸收液於吸收塔1與汽提塔2之間一邊循環，一邊同時連續地進行第1步驟與第2步驟。於第1步驟中，原料中之不被吸收液吸收而吹除予以廢棄的非吸收氣體的比率調整為1至20莫耳%的範圍。
简体摘要：本发明系由包含丙烯及杂质的原料纯化丙烯用的方法，进行第1步骤系于具有温度调整功能的吸收塔1中，于第1温度及第1压力下使原料与含有银离子溶液(吸收液)接触，使原料中的丙烯优先地被吸收于吸收液之同时，经由与吸收塔1具有独立之温度调整功能的除雾机器4于第1温度以下之第2温度条件下，排出不被吸收液吸收的非吸收气体。进行第2步骤系于汽提塔2中，于第3温度及第2压力下自历经第1步骤的吸收液使丙烯汽提而回收。使吸收液于吸收塔1与汽提塔2之间一边循环，一边同时连续地进行第1步骤与第2步骤。于第1步骤中，原料中之不被吸收液吸收而吹除予以废弃的非吸收气体的比率调整为1至20莫耳%的范围。

5. 发明专利

TWI608093B 石蠟的製造方法及製造裝置有权
简体标题：石蜡的制造方法及制造设备
公开(公告)号：TWI608093B
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：TW102136155
申请日：2013-10-07
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 春名一生 , HARUNA, KAZUO , 畑啓之 , HATA, HIROYUKI , 坂本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI
IPC分类号： C10G73/44 , C10G65/02 , C07C5/03 , C07C9/00 , B01J23/44 , B01J23/46 , B01J23/50 , B01J23/755

6. 发明专利

TWI510435B 氯化氫之製造方法有权
简体标题：氯化氢之制造方法
公开(公告)号：TWI510435B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW102133256
申请日：2013-09-13
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 田啓之 , HATA, HIROYUKI , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI , 小林晃徳 , KOBAYASHI, AKINORI
IPC分类号： C01B7/01

7. 发明专利

TWI532716B 石蠟之製造方法及石蠟製造裝置有权
简体标题：石蜡之制造方法及石蜡制造设备
公开(公告)号：TWI532716B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW102132835
申请日：2013-09-11
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 田啓之 , HATA, HIROYUKI
IPC分类号： C07C9/06 , C07C9/08 , C07C5/02 , C07C5/03 , C07C7/09 , C07C7/11

8. 发明专利

TW201350433A 氫氣之生成方法及生成裝置审中-公开
简体标题：氢气之生成方法及生成设备
公开(公告)号：TW201350433A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101149615
申请日：2012-12-24
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUNICHI , 田啟之 , HATA, HIROYUKI
IPC分类号： C01B3/40 , H01M8/06
CPC分类号： C01B3/382 , C01B3/48 , C01B2203/0244 , C01B2203/0283 , C01B2203/0294 , C01B2203/043 , C01B2203/1047 , C01B2203/1058 , C01B2203/107 , C01B2203/1241 , C01B2203/1247
摘要：本發明之目的係提高使烴與水及氧氣反應之自熱重組步驟所使用之反應器的耐熱性。反應器2具有用於導入包含烴及氧氣之氣體的氣體導入口3、及於氣體導入口3之下游形成烴與氧氣之反應區域2a的周壁5。經由貫通周壁5之內外周面5b、5a之水蒸氣通路，將用於冷卻受自熱重組步驟中之烴與氧氣之反應熱加熱之周壁5的水蒸氣自周壁5之外部導入至反應區域2a中。使用冷卻過周壁5之水蒸氣作為於自熱重組步驟中與烴反應之水蒸氣之至少一部分。
简体摘要：本发明之目的系提高使烃与水及氧气反应之自热重组步骤所使用之反应器的耐热性。反应器2具有用于导入包含烃及氧气之气体的气体导入口3、及于气体导入口3之下游形成烃与氧气之反应区域2a的周壁5。经由贯通周壁5之内外周面5b、5a之水蒸气通路，将用于冷却受自热重组步骤中之烃与氧气之反应热加热之周壁5的水蒸气自周壁5之外部导入至反应区域2a中。使用冷却过周壁5之水蒸气作为于自热重组步骤中与烃反应之水蒸气之至少一部分。

9. 发明专利

TWI564289B 石蠟之製造方法及石蠟製造裝置有权
简体标题：石蜡之制造方法及石蜡制造设备
公开(公告)号：TWI564289B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW101136027
申请日：2012-09-28
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI , 田啟之 , HATA, HIROYUKI
IPC分类号： C07C7/11 , C07C5/03 , C07C5/09 , C07C9/06 , C07C9/08
CPC分类号： C07C5/03 , C07C5/08 , C07C7/11 , C07C7/12 , C07C7/144 , C07C2521/04 , C07C2523/42 , C07C2523/44 , C07C2523/46 , C07C2523/755 , C07C11/06 , C07C9/08 , C07C9/06 , C07C11/04

10. 发明专利

TW201637740A 高壓氣體容器之洗淨方法及高壓氣體容器审中-公开
简体标题：高压气体容器之洗净方法及高压气体容器
公开(公告)号：TW201637740A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104140478
申请日：2015-12-03
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 山內宏貴 , YAMAUCHI, HIROKI , 本田弘樹 , HONDA, HIROKI
IPC分类号： B08B9/093
CPC分类号： F17C13/00 , Y02E60/321
摘要：本發明之課題在提供一種可去除高壓氣體容器內之水分的洗淨方法。在本發明之高壓氣體容器之洗淨方法中，反覆進行對高壓氣體容器導入具有親水性之氣體後增壓的增壓程序，及排出上述高壓氣體容器內之氣體的排氣程序。
简体摘要：本发明之课题在提供一种可去除高压气体容器内之水分的洗净方法。在本发明之高压气体容器之洗净方法中，反复进行对高压气体容器导入具有亲水性之气体后增压的增压进程，及排出上述高压气体容器内之气体的排气进程。

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