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1. 发明专利

TWI510435B 氯化氫之製造方法有权
简体标题：氯化氢之制造方法
公开(公告)号：TWI510435B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW102133256
申请日：2013-09-13
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 田啓之 , HATA, HIROYUKI , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI , 小林晃徳 , KOBAYASHI, AKINORI
IPC分类号： C01B7/01

2. 发明专利

TWI564289B 石蠟之製造方法及石蠟製造裝置有权
简体标题：石蜡之制造方法及石蜡制造设备
公开(公告)号：TWI564289B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW101136027
申请日：2012-09-28
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI , 田啟之 , HATA, HIROYUKI
IPC分类号： C07C7/11 , C07C5/03 , C07C5/09 , C07C9/06 , C07C9/08
CPC分类号： C07C5/03 , C07C5/08 , C07C7/11 , C07C7/12 , C07C7/144 , C07C2521/04 , C07C2523/42 , C07C2523/44 , C07C2523/46 , C07C2523/755 , C07C11/06 , C07C9/08 , C07C9/06 , C07C11/04

3. 发明专利

TW201418162A 氯化氫之製造方法审中-公开
简体标题：氯化氢之制造方法
公开(公告)号：TW201418162A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102133256
申请日：2013-09-13
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 田啓之 , HATA, HIROYUKI , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI , 小林晃徳 , KOBAYASHI, AKINORI
IPC分类号： C01B7/01
摘要：本發明之目的在於提供一種利用更簡單之程序即可抑制反應體系之溫度上升的氯化氫之製造方法。本發明之製造方法係於氯化氫氣體之存在下對氫氣及氯氣照射光，使氫氣及氯氣發生反應而生成氯化氫氣體。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种利用更简单之进程即可抑制反应体系之温度上升的氯化氢之制造方法。本发明之制造方法系于氯化氢气体之存在下对氢气及氯气照射光，使氢气及氯气发生反应而生成氯化氢气体。

4. 发明专利

TWI549740B 氬氣之純化方法及純化裝置有权
简体标题：氩气之纯化方法及纯化设备
公开(公告)号：TWI549740B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101111929
申请日：2012-04-03
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：中谷光利 , NAKATANI, MITSUTOSHI , 北岸信之 , KITAGISHI, NOBUYUKI , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI
IPC分类号： B01D53/047 , C01B23/00

5. 发明专利

TW201332966A 石蠟之製造方法及石蠟製造裝置审中-公开
简体标题：石蜡之制造方法及石蜡制造设备
公开(公告)号：TW201332966A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101136027
申请日：2012-09-28
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUN-ICHI , 田啟之 , HATA, HIROYUKI
IPC分类号： C07C7/11 , C07C5/03 , C07C5/09 , C07C9/06 , C07C9/08
CPC分类号： C07C5/03 , C07C5/08 , C07C7/11 , C07C7/12 , C07C7/144 , C07C2521/04 , C07C2523/42 , C07C2523/44 , C07C2523/46 , C07C2523/755 , C07C11/06 , C07C9/08 , C07C9/06 , C07C11/04
摘要：本發明提供一種無需進行如蒸餾之繁雜之操作即可效率良好地製造高純度之石蠟的石蠟之製造方法及石蠟製造裝置。石蠟製造裝置(100)包括分離回收部(1)與氫化部(2)。分離回收部(1)具有含有銀離子之分離體，藉由使含有烯烴作為主成分之原料氣體與分離體接觸而自原料氣體將雜質分離而回收烯烴。氫化部(2)使藉由分離回收部(1)所獲得之高純度烯烴於觸媒存在下與氫接觸而進行氫化反應，藉此獲得高純度之石蠟。
简体摘要：本发明提供一种无需进行如蒸馏之繁杂之操作即可效率良好地制造高纯度之石蜡的石蜡之制造方法及石蜡制造设备。石蜡制造设备(100)包括分离回收部(1)与氢化部(2)。分离回收部(1)具有含有银离子之分离体，借由使含有烯烃作为主成分之原料气体与分离体接触而自原料气体将杂质分离而回收烯烃。氢化部(2)使借由分离回收部(1)所获得之高纯度烯烃于触媒存在下与氢接触而进行氢化反应，借此获得高纯度之石蜡。

6. 发明专利

TW201350433A 氫氣之生成方法及生成裝置审中-公开
简体标题：氢气之生成方法及生成设备
公开(公告)号：TW201350433A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101149615
申请日：2012-12-24
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 阪本純一 , SAKAMOTO, JUNICHI , 田啟之 , HATA, HIROYUKI
IPC分类号： C01B3/40 , H01M8/06
CPC分类号： C01B3/382 , C01B3/48 , C01B2203/0244 , C01B2203/0283 , C01B2203/0294 , C01B2203/043 , C01B2203/1047 , C01B2203/1058 , C01B2203/107 , C01B2203/1241 , C01B2203/1247
摘要：本發明之目的係提高使烴與水及氧氣反應之自熱重組步驟所使用之反應器的耐熱性。反應器2具有用於導入包含烴及氧氣之氣體的氣體導入口3、及於氣體導入口3之下游形成烴與氧氣之反應區域2a的周壁5。經由貫通周壁5之內外周面5b、5a之水蒸氣通路，將用於冷卻受自熱重組步驟中之烴與氧氣之反應熱加熱之周壁5的水蒸氣自周壁5之外部導入至反應區域2a中。使用冷卻過周壁5之水蒸氣作為於自熱重組步驟中與烴反應之水蒸氣之至少一部分。
简体摘要：本发明之目的系提高使烃与水及氧气反应之自热重组步骤所使用之反应器的耐热性。反应器2具有用于导入包含烃及氧气之气体的气体导入口3、及于气体导入口3之下游形成烃与氧气之反应区域2a的周壁5。经由贯通周壁5之内外周面5b、5a之水蒸气通路，将用于冷却受自热重组步骤中之烃与氧气之反应热加热之周壁5的水蒸气自周壁5之外部导入至反应区域2a中。使用冷却过周壁5之水蒸气作为于自热重组步骤中与烃反应之水蒸气之至少一部分。

7. 发明专利

TW201244804A 氬氣之純化方法及純化裝置 PURIFYING METHOD AND PURIFYING APPARATUS FOR ARGON GAS 审中-公开
简体标题：氩气之纯化方法及纯化设备 PURIFYING METHOD AND PURIFYING APPARATUS FOR ARGON GAS
公开(公告)号：TW201244804A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101111929
申请日：2012-04-03
申请人：住友精化股份有限公司
发明人：中谷光利 , 北岸信之 , 阪本純一
IPC分类号： B01D , C01B
摘要：本發明提供一種可於吸附處理之預處理階段降低氬氣之雜質含有率、減少純化所需之能量且高純度地純化氬氣之實用之方法與裝置。於純化至少含有氧氣、氫氣、一氧化碳、烴、氮氣之氬氣時，若氬氣中之氧氣量為與所有氫氣、一氧化碳、烴反應所必需之氧氣之設定量以下，則以超過設定量之方式添加氧氣。使用觸媒使氬氣中之一氧化碳、氫氣、烴與氧氣反應，於殘留氧氣之狀態下生成二氧化碳與水。使氬氣中之氧氣與金屬反應而生成金屬氧化物。利用變壓式吸附法使氬氣中之生成之二氧化碳及水與氮氣一併吸附於吸附劑。
简体摘要：本发明提供一种可于吸附处理之预处理阶段降低氩气之杂质含有率、减少纯化所需之能量且高纯度地纯化氩气之实用之方法与设备。于纯化至少含有氧气、氢气、一氧化碳、烃、氮气之氩气时，若氩气中之氧气量为与所有氢气、一氧化碳、烃反应所必需之氧气之设置量以下，则以超过设置量之方式添加氧气。使用触媒使氩气中之一氧化碳、氢气、烃与氧气反应，于残留氧气之状态下生成二氧化碳与水。使氩气中之氧气与金属反应而生成金属氧化物。利用变压式吸附法使氩气中之生成之二氧化碳及水与氮气一并吸附于吸附剂。

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