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热词
    • 1. 发明专利
    • 半導體裝置
    • 半导体设备
    • TW201643968A
    • 2016-12-16
    • TW105112017
    • 2016-04-18
    • 愛德萬測試股份有限公司ADVANTEST CORPORATION
    • 佐藤拓SATO, TAKU瓜生和也URYU, KAZUYA庄司一之SHOUJI, KAZUYUKI
    • H01L21/336H01L29/78
    • H01L27/095H01L27/098H01L29/0843H01L29/1029H01L29/1066H01L29/42316H01L29/78H01L29/808H01L29/812
    • 本發明的半導體裝置包含:半導體層;源極電極,設於前述半導體層;汲極電極,設於前述半導體層,並與前述源極電極分離配置;第1閘極電極,設於前述源極電極與前述汲極電極之間;及第2閘極電極,設於前述源極電極與前述汲極電極之間,且至少一部分比前述第1閘極電極更靠近前述汲極電極。前述半導體層具有:第1對向部分,是面對前述第1閘極電極的部分;及第2對向部分,是面對前述第2閘極電極的部分。當前述源極電極與前述第1閘極電極間的電位差,也就是第1閘極電壓為0V以下時,前述第1對向部分不導通。當前述第1對向部分及前述第2對向部分之間的部分與前述第2閘極電極間的電位差,也就是第2閘極電壓為0V以下時,前述第2對向部分不導通。前述第1對向部分剛開始導通時的前述第1閘極電壓比前述第2對向部分剛開始導通時的前述第2閘極電壓大。
    • 本发明的半导体设备包含:半导体层;源极电极,设于前述半导体层;汲极电极,设于前述半导体层,并与前述源极电极分离配置;第1闸极电极,设于前述源极电极与前述汲极电极之间;及第2闸极电极,设于前述源极电极与前述汲极电极之间,且至少一部分比前述第1闸极电极更靠近前述汲极电极。前述半导体层具有:第1对向部分,是面对前述第1闸极电极的部分;及第2对向部分,是面对前述第2闸极电极的部分。当前述源极电极与前述第1闸极电极间的电位差,也就是第1闸极电压为0V以下时,前述第1对向部分不导通。当前述第1对向部分及前述第2对向部分之间的部分与前述第2闸极电极间的电位差,也就是第2闸极电压为0V以下时,前述第2对向部分不导通。前述第1对向部分刚开始导通时的前述第1闸极电压比前述第2对向部分刚开始导通时的前述第2闸极电压大。