专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201730968A 基板的熱處理裝置及方法以及基板的接收單元审中-公开
简体标题：基板的热处理设备及方法以及基板的接收单元
公开(公告)号：TW201730968A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105140523
申请日：2016-12-08
申请人：山特森光伏股份有限公司 , CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS AG
发明人：穆勒斯特芬 , MUELLER, STEFFEN , 阿斯納海爾姆特 , ASCHNER, HELMUT , 凱勒湯瑪斯 , KELLER, THOMAS , 凱格爾威廉 , KEGEL, WILHELM , 萊爾希韋費德 , LERCH, WILFRIED
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67115 , F27B17/0025 , F27D5/0037 , H01L21/68742 , H01L21/6875 , H01L21/68785
摘要：本文描述了一種用於對基板，特別是半導體晶片進行熱處理的方法及裝置，以及一種用於基板的接收單元。在所述方法中，在具有製程室及數個輻射源的製程單元中，將一或數個基板接收在具有下部及頂蓋的盒子中，其中所述下部及所述頂蓋在其間形成用於所述基板的接收空間。在所述方法中，亦實施以下步驟：將所述盒子及所述基板裝入所述製程室並封閉所述製程室；在將所述盒子及所述位於其中之基板加熱至期望的製程溫度前，用沖洗氣體及/或製程氣體對所述盒子的接收空間進行沖洗，以便在所述盒子內部調節期望的氣氛；以及藉由自所述輻射源所發射的熱輻射將所述盒子及所述位於其中之基板加熱至期望的製程溫度。所述用於基板的接收單元用於在具有製程室及數個輻射源的製程單元中承載所述基板。所述接收單元具有下部及頂蓋，所述下部及所述頂蓋在所述封閉狀態下在其間形成具有用於所述基板之接收空間的盒子，其中所述接收單元的部件中之至少一個具有數個沖洗開口，所述沖洗開口將所述盒子之周邊與所述接收空間連接在一起，以便在所述盒子之封閉狀態下對所述接收空間進行沖洗，其中所述沖洗開口以某種方式構建，使其基本防止所述輻射源之熱輻射穿過。
简体摘要：本文描述了一种用于对基板，特别是半导体芯片进行热处理的方法及设备，以及一种用于基板的接收单元。在所述方法中，在具有制程室及数个辐射源的制程单元中，将一或数个基板接收在具有下部及顶盖的盒子中，其中所述下部及所述顶盖在其间形成用于所述基板的接收空间。在所述方法中，亦实施以下步骤：将所述盒子及所述基板装入所述制程室并封闭所述制程室；在将所述盒子及所述位于其中之基板加热至期望的制程温度前，用冲洗气体及/或制程气体对所述盒子的接收空间进行冲洗，以便在所述盒子内部调节期望的气氛；以及借由自所述辐射源所发射的热辐射将所述盒子及所述位于其中之基板加热至期望的制程温度。所述用于基板的接收单元用于在具有制程室及数个辐射源的制程单元中承载所述基板。所述接收单元具有下部及顶盖，所述下部及所述顶盖在所述封闭状态下在其间形成具有用于所述基板之接收空间的盒子，其中所述接收单元的部件中之至少一个具有数个冲洗开口，所述冲洗开口将所述盒子之周边与所述接收空间连接在一起，以便在所述盒子之封闭状态下对所述接收空间进行冲洗，其中所述冲洗开口以某种方式构建，使其基本防止所述辐射源之热辐射穿过。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式